| 【発明の名称】 |
配線基板接続構造及びそれを用いた電子機器 |
| 【発明者】 |
【氏名】細江 洋史
【氏名】友森 幸男
【氏名】高倉 義之
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| 【要約】 |
【課題】接続ランドの高密度化が可能であり、配線基板同士の接続も容易に行うことができるようにする。
【構成】第1の配線基板11と第2の配線基板12のそれぞれには、第1接続ランド11a,12aと第1接続ランドよりもランド幅の広い第2接続ランド11b,12bを、第1接続ランドが第2接続ランドよりも突出した状態となるように交互に等間隔で形成する。第1の配線基板における第1接続ランド11aの突出部11apを、第2の配線基板の第2接続ランド12b上に載置させる。また、第2の配線基板における第1接続ランド12aの突出部12apを、第1の配線基板の第2接続ランド11b上に載置させる。その後、第1接続ランドの突出部11ap(12ap)と第2接続ランド12b(11b)を接続する。 |
【特許請求の範囲】
【請求項1】 第1の配線基板に第2の配線基板を載置して、前記第1の配線基板に形成された接続ランドと前記第2の配線基板に形成された接続ランドを接続する配線基板接続構造において、 前記第1及び第2の配線基板のそれぞれには、第1接続ランドと該第1接続ランドよりもランド幅の広い第2接続ランドを、前記第1接続ランドが前記第2接続ランドよりも突出した状態となるように交互に等間隔で形成し、 前記第1及び第2の配線基板は、一方の配線基板の前記第2接続ランド上に他方の配線基板における前記第1接続ランドの突出した部分を載置させて、前記第1接続ランドと前記第2接続ランドを接続する ことを特徴とする配線基板接続構造。 【請求項2】 最小ランド幅を「Pw」、ランド間隙を「Pd」、ずれ許容量を「As」としたとき、 前記第1接続ランドについてのL/S値は「L/S=Pw/(Pw+2As+2Pd)」に設定し、前記第2接続ランドについてのL/S値は「L/S=(Pw+2As)/(Pw+2Pd)」に設定した ことを特徴とする請求項1記載の配線基板接続構造。 【請求項3】 最小ランド幅を「Pw」、ランド間隙を「Pd」、接続ピッチを「CPa」としたとき、 前記第1接続ランドについてのL/S値は「L/S=Pw/(2CPa−Pw)」に設定し、前記第2接続ランドについてのL/S値は「L/S=(2CPa−Pw−2Pd)/(Pw+2Pd)」に設定した ことを特徴とする請求項1記載の配線基板接続構造。 【請求項4】 前記第1の配線基板と前記第2の配線基板は、基板形状を利用した位置決めを行って、一方の配線基板の前記第2接続ランド上に他方の配線基板における前記第1接続ランドの突出した部分を載置する ことを特徴とする請求項1記載の配線基板接続構造。 【請求項5】 回路パターンが形成された第1の配線基板と第2の配線基板を用いる電子機器において、 前記第1及び第2の配線基板のそれぞれには、前記回路パターンと繋がる第1接続ランドと該第1接続ランドよりもランド幅の広い第2接続ランドを、前記第1接続ランドが前記第2接続ランドよりも突出した状態となるように交互に形成し、 前記第1及び第2の配線基板は、一方の配線基板の前記第2接続ランド上に他方の配線基板における前記第1接続ランドの突出した部分を載置させて、前記第1接続ランドと前記第2接続ランドを接続した ことを特徴とする電子機器。
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【発明の詳細な説明】【技術分野】 【0001】 この発明は、配線基板接続構造及びそれを用いた電子機器に関する。詳しくは、第1接続ランドと該第1接続ランドよりもランド幅の広い第2接続ランドを、第1接続ランドが第2接続ランドよりも突出した状態となるように交互に等間隔で配線基板に形成して、第1接続ランドの突出した部分と第2接続ランドを接続することで、接続ランドの高密度化や基板接続作業の容易化をはかるものである。 【背景技術】 【0002】 従来、電子機器では、第1の配線基板と第2の配線基板に接続ランドを形成して、第1の配線基板に対して接続ランドが重なるように第2の配線基板を載置して、第1の配線基板に形成されている接続ランドと第2の配線基板に形成されている接続ランドを接続することが行われている。 【0003】 このようにして2つの配線基板を接続する場合、特許文献1,2の発明では、回路基板に形成した接続ランドの幅をフレキシブル基板に形成した接続ランドの幅よりも広くすることで、半田ブリッジの抑制及び微細化が図られている。 【0004】 【特許文献1】特開平8−23147号公報 【特許文献2】特公昭55−10998号公報 【発明の開示】 【発明が解決しようとする課題】 【0005】 ところで、一方の配線基板の接続ランドに対して他方の配線基板の接続ランドを広くすれば、例えば接続ランドを半田付けしたとき、幅の狭い接続ランドから幅の広い接続ランドに向けて広がったフィレットが形成されることになるので、半田ブリッジの発生を防止することができる。しかし、他方の配線基板の接続ランドは、幅が広く形成されるので接続ランドの高密度化が阻害されてしまうことになる。 【0006】 また、接続ランドの高密度化がはかられると、配線基板を接続する際の位置決めも高精度に行う必要が生じる。このため、カメラで基板を撮像して画像認識を行い、認識結果に基づいて配線基板の位置を調整することで、所望の位置決め精度を確保することが行われている。したがって、安価な構成で容易に配線基板の接続を行うことができなくなってしまう。 【0007】 そこで、この発明では、接続ランドの高密度化が可能であり、基板同士の接続も容易に行うことができる配線基板接続構造及びそれを用いた電子機器を提供するものである。 【課題を解決するための手段】 【0008】 この発明に係る配線基板接続構造は、第1の配線基板に第2の配線基板を載置して、第1の配線基板に形成された接続ランドと第2の配線基板に形成された接続ランドを接続する配線基板接続構造において、第1及び第2の配線基板のそれぞれには、第1接続ランドと該第1接続ランドよりもランド幅の広い第2接続ランドを、第1接続ランドが第2接続ランドよりも突出した状態となるように交互に等間隔で形成し、第1及び第2の配線基板は、一方の配線基板の第2接続ランド上に他方の配線基板における第1接続ランドの突出した部分を載置させて、第1接続ランドと第2接続ランドを接続するものである。 【発明の効果】 【0009】 この発明によれば、第1接続ランドと第1接続ランドよりもランド幅の広い第2接続ランドを、第1接続ランドが第2接続ランドよりも突出した状態となるように交互に等間隔で形成して、第1及び第2の配線基板は、一方の配線基板の第2接続ランド上に他方の配線基板における第1接続ランドの突出した部分が載置させて、第1接続ランドと第2接続ランドが接続される。 【0010】 このため、第1接続ランドと第2接続ランドとの接続点が千鳥配置となり、接続ランドの高密度化が可能となる。また、ランド幅の広い第2接続ランド上に第1接続ランドを載置して接続するものであることから、基板の位置決めを高精度に行わなくとも接続点の接続幅にばらつきを発生させないようにすることが可能となり、安定した接続構造を得られる。 【発明を実施するための最良の形態】 【0011】 以下、図を参照しながら、この発明の実施形態について説明する。本発明に係る配線基板接続構造は、例えば映像機器、音声機器、通信機器、情報機器等の種々の電子機器に用いて好適なものである。配線基板は、リジット基板だけでなく可撓性を有したフレキシブル基板を用いるものとしてもよい。さらに、配線基板同士を接続する場合には、フレキシブル基板を用いることが多く、本発明に係る配線基板接続構造は、このようなフレキシブル基板を用いた配線基板接続に用いても好適なものである。 【0012】 図1は、本願発明の配線基板接続構造で用いる配線基板の接続ランド形状を示している。配線基板11(12)には、第1接続ランド11a(12a)と、第1接続ランド11a(12a)よりも広いランド幅である第2接続ランド11b(12b)を交互に形成する。なお、隣接する接続ランドにはスペースを設ける。また、第1接続ランド11a(12a)は、第2接続ランド11b(12b)よりも突出させて形成する(以下「突出した部分を突出部11ap(12ap)」という)。 【0013】 図2は、本願発明の配線基板接続構造を示しており、図2Aは配線基板接続構造の正面図、図2Bは配線基板接続構造の側面図、図2Cは図2AにおけるI−I'位置の断面概略図、図2Dは図2AにおけるII−II'位置の断面概略図である。 【0014】 第1の配線基板11と第2の配線基板12は、一方の配線基板の第2接続ランド上に他方の配線基板における第1接続ランドの突出部を載置させて、第1接続ランドの突出部と第2接続ランドを接続する。すなわち、第1の配線基板11の第2接続ランド11b上に第2の配線基板12における第1接続ランド12aの突出部12apを載置させる。また、第2の配線基板12の第2接続ランド12b上に第1の配線基板11における第1接続ランド11aの突出部11apを載置させる。その後、第1接続ランド11aの突出部11apと第2接続ランド12b、及び第1接続ランド12aの突出部12apと第2接続ランド11bを接続する。このとき、第1接続ランドと第2接続ランドが接続された接続点は千鳥配置となる。なお、第1の配線基板11の第2接続ランド11bと第2の配線基板12の第2接続ランド12bは、ランド間隙以上のスペースを有するように、一方の配線基板を他方の配線基板上に載置すれは、接続後の配線基板において、各ランド間で所定の以上の間隙を設けることができる。 【0015】 ここで、接続ランドの最小ランド幅を「Pw」、隣接する接続ランドとのスペースであるランド間隙を「Pd」とする場合において、接続作業を安価で容易に行うことができるようにするため、接続作業におけるずれ許容量を「As」に設定した場合について説明する。ここで、ずれ許容量とは、基準となる接続位置に対して接続ランドの並び方向に許容可能なずれ量を示すものであり、基準となる接続位置に対する一方の方向のずれ量をずれ許容量「As」だけ許容し、逆方向に対するずれ量もずれ許容量「As」だけ許容することを意味している。 【0016】 図3に示すように、配線基板11,12における第1接続ランド11a,12aのランド幅を「Pw」としたとき、第2接続ランド11b,12bのランド幅は「Pw+2As」となる。また、ランド間隙を「Pd」とすると、第1接続ランド11a(12a)と隣り合う第1接続ランド11a(12a)との間隔は「Pw+2As+2Pd」となり、第2接続ランド11b(12b)と隣り合う第2接続ランド11b(12b)との間隔は「Pw+2Pd」となる。 【0017】 したがって、配線基板11,12における第1接続ランド11a,12aは、第1接続ランド11a,12aについてのL/S値が、L/S=Pw/(Pw+2As+2Pd)となるように形成する。また、第2接続ランド11b,12bは、第2接続ランド11b,12bについてのL/S値が、L/S=(Pw+2As)/(Pw+2Pd)となるように形成する。なお、L/Sは、Line/Spaceを意味しており、ラインはパターン幅、スペースはパターン間の間隙を表している。 【0018】 さらに、配線基板11において、第1接続ランド11aと第2接続ランド11bが等間隔となるように、第1接続ランド11aは、第2接続ランド11b間の中央位置となるように設ける。同様に、配線基板12において、第1接続ランド12aと第2接続ランド12bが等間隔となるように、第1接続ランド12aは、第2接続ランド12b間の中央位置となるように設ける。 【0019】 このように、第1接続ランド11a,12aと第2接続ランド11b,12bを形成すると、接続ピッチCPaは「CPa=(Pw+As+Pd)」であって、接続点が千鳥配置となる。 【0020】 次に、接続ランドの最小ランド幅を「Pw」、ランド間隙を「Pd」とする場合において、接続ランドの高密度をはかるため、接続ピッチを設定した場合について説明する。ここで、接続ピッチは「CPa=(Pw+As+Pd)」であるから「As=(CPa−Pw−Pd)」となる。したがって、第1接続ランド11a,12aについてのL/S値は、L/S=Pw/(Pw+2As+2Pd)=Pw/(2CPa−Pw)となる。また、第2接続ランド11b,12bのL/S値は、L/S=(Pw+2As)/(Pw+2Pd)=(2CPa−Pw−2Pd)/(Pw+2Pd)となる。すなわち、第1接続ランド11a,12aは、L/S値がL/S=Pw/(2CPa−Pw)、第2接続ランド11b,12bは、L/S値がL/S=(2CPa−Pw−2Pd)/(Pw+2Pd)となるように形成すれば、接続点が千鳥配置となった所望の接続ピッチでの配線基板接続を行うことができる。 【0021】 次に、従来の配線基板との相違について説明する。例えば特許文献1の発明のように構成された配線基板では、接続ランドの最小ランド幅を「Pw」、基準位置に対するずれ許容量を「As」とすると、図4に示すように、第3の配線基板13の接続ランド13pをランド幅「Pw」としたとき、第4の配線基板14における接続ランド14pのランド幅Wdは「Pw+2As」となる。また、ランド間隙を「Pd」とすると、接続ランド13pについてのランド間隙は「Pw+2As」となり、接続ランド14pについてのランド間隙は「Pd」となる。したがって、接続ランド13pはL/S=Pw/(Pw+2As+Pd)、接続ランド14pは、L/S=(Pw+2As)/Pdとなるように形成されることとなる。また、接続ピッチCPcは、「CPc=(Pw+2As+Pd)」となる。 【0022】 ここで、例えば接続ピッチCPa,CPcをともに0.3mm、最小ランド幅Pwを0.1mm、ランド間隙Pdを0.1mmとした場合、図4に示すように接続ランドを形成した場合、ずれ許容量Asは0.05mmとなる。しかし、図3に示すように接続ランドを形成した場合のずれ許容量Asは0.1mmとなり、ずれ許容量を大きくすることができる。また、従来の配線基板接続構造を用いてずれ許容量Asを0.1mmに設定すると、接続ピッチCPcは0.4mmとなり、図3に示すように接続ランドを形成した場合の接続ピッチCPaである0.3mmよりも大きくなってしまう。 【0023】 このように、同じ接続ピッチであったときには、従来の配線基板接続構造よりもずれ許容量を大きくできる。したがって、高精度で高価な接続方法例えばカメラを用いた画像認識によって基板の位置合わせを行い、異方性導電フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)を用いて基板の接続を行うような接続方法を用いなくとも、基板形状を利用した位置合わせ例えば互いの配線基板を外形で規制して重ね合わせて半田付けを行うことにより、接続点の接続幅にばらつきを発生させることがなく安定した接続構造を得られる。また、ずれ許容量を等しく規定したときには、従来の配線基板接続構造よりも接続ピッチを狭めることができるので、基板接続精度を高めなくとも接続ランドの高密度化が可能となる。なお、基板形状を利用した位置合わせは、配線基板を外形で規制する場合に限られるものではなく、例えば配線基板に設けた位置決め穴等を用いるものとしてもよい。 【実施例】 【0024】 配線基板の配線ルールは0.2mmピッチ(L/S=0.1mm/0.1mm)としてパターン設計を行い、図1に示すように第1接続ランドと第2接続ランドを交互に設けて千鳥配置とした。ここで、第1接続ランドのランド幅は「Pa=0.1mm」、第2接続ランドのランド幅は「Pb=0.3mm」とした。隣接する接続ランドのランド間隙は「Pd=0.1mm」として、接続点を0.3mmピッチ千鳥配置とした。なお、このときのずれ許容量は「As=100μm」となる。配線基板の接続部位の加工精度は、0.3mmピッチ千鳥コネクタを用いる場合と同等の加工精度とした。また、第1又は第2接続ランドの片方にSnCuメッキを施す。 【0025】 このように形成した2つの配線基板を、基板形状を利用して例えば外形規制で重ね合わせた。この2つの配線基板の重ね合わせでは、一方の配線基板の第1接続ランドに他方の配線基板の第2接続ランドをそれぞれ載置させて、熱圧着により第1接続ランドと第2接続ランドを接続した。 【0026】 熱圧着後に接続部分のずれ量を測定した結果、ずれ量の標準偏差は「σ=11.67μm」となった。管理限界を「±3σ」としたとき、管理限界「±3σ」は「±35μm」であることから、いずれの方向にずれを生じてもずれ許容量「As=100μm」の範囲内である。したがって、カメラを用いた画像認識で基板位置合わせを行って基板接続を行わなくとも、基板形状を利用した基板位置合わせで、ずれ許容量の範囲内での基板接続を行うことができた。 【図面の簡単な説明】 【0027】 【図1】配線基板の接続ランド形状を示す図である。 【図2】配線基板接続構造を示す図である。 【図3】接続ランド設定方法を示す図である。 【図4】従来の接続ランド設定方法を示す図である。 【符号の説明】 【0028】 11,12,13,14・・・配線基板、11a,12a・・・第1接続ランド、11b,12b・・・第2接続ランド、11ap,12ap・・・突出部、13p,14p・・・接続ランド
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| 【出願人】 |
【識別番号】000002185 【氏名又は名称】ソニー株式会社
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| 【出願日】 |
平成18年9月13日(2006.9.13) |
| 【代理人】 |
【識別番号】100090376 【弁理士】 【氏名又は名称】山口 邦夫
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| 【公開番号】 |
特開2008−71889(P2008−71889A) |
| 【公開日】 |
平成20年3月27日(2008.3.27) |
| 【出願番号】 |
特願2006−248373(P2006−248373) |
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