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【発明の名称】 有機ＥＬディスプレイ
【発明者】 【氏名】丹波 泰之

【氏名】田中 正行

【氏名】馬場 英年
【要約】 【課題】本発明は、金属膜が金属酸化膜の放出する酸素を吸収することにより、信頼性を向上させることが可能な有機ＥＬディスプレイ、及びその製造方法を提供することを目的とする。

【構成】素子基板１と、前記素子基板１上に形成された有機ＥＬ素子２と、前記素子基板１上に対して対向配置された封止基板３と、前記素子基板１と前記封止基板３との間に介在され、前記有機ＥＬ素子２を取り囲むように形成されたシール材４と、前記素子基板１と対向する前記封止基板３の対向面に形成され、前記素子基板１、前記封止基板３及び前記シール材４で形成される空間内の水分を吸収するための吸湿体５と、を備え、前記吸湿体５は、光透過性の金属酸化膜７と光透過性の金属膜８とを積層した構造を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
素子基板と、
前記素子基板上に形成された有機ＥＬ素子と、
前記素子基板上に、該素子基板に対して対向するように配置された封止基板と、
前記素子基板と前記封止基板との間に介在され、前記有機ＥＬ素子を取り囲むように形成されたシール材と、
前記素子基板と対向する前記封止基板の対向面に形成され、前記素子基板、前記封止基板及び前記シール材で形成される空間内の水分を吸収するための吸湿体と、
を備え、
前記吸湿体は、光透過性の金属酸化膜と光透過性の金属膜とを積層した構造を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項２】
前記金属膜は、前記金属酸化膜に対して前記素子基板側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項３】
前記金属膜は、前記金属酸化膜の端部側面を露出するように形成されていることを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項４】
前記有機ＥＬ素子は、前記素子基板上にマトリックス状に複数配列されており、
前記素子基板上には、前記マトリックス状に配列された複数の有機ＥＬ素子を取り囲むように形成された隔壁を備え、
前記吸湿体は、前記隔壁に接するように形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項５】
前記隔壁を構成する材料は、樹脂材料を主成分とすることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項６】
素子基板と、
前記素子基板上に形成された有機ＥＬ素子と、
前記有機ＥＬ素子上に形成された光透過性の保護膜と、
前記保護膜上に形成され、外部の水分を吸収するための吸湿体と、
を備え、
前記吸湿体は、光透過性の金属膜と光透過性の金属酸化膜とを積層した構造を有することを特徴とする有機ＥＬディスプレイ。
【請求項７】
前記金属膜は、前記金属酸化膜に対して前記素子基板側に配置されていることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項８】
前記有機ＥＬ素子は、前記素子基板上にマトリックス状に複数配列されており、
前記吸湿体は、前記複数の有機ＥＬ素子の配列領域の直上に配置され、
平面視において前記吸湿体の形成領域は、前記配列領域よりも広く、該配列領域を含んで設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項９】
前記金属膜及び前記金属酸化膜を構成する金属は、同質の金属材料を主成分とすることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項１０】
前記金属膜及び前記金属酸化膜を構成する金属は、アルカリ土類金属を主成分とすることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項１１】
前記金属膜の厚みは、１ｎｍ〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の有機ＥＬディスプレイ。
【請求項１２】
前記金属膜及び前記金属酸化膜は、前記保護膜上に金属材料層を被着し、該金属材料層の一部を酸化処理することで形成されることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイ。
【発明の詳細な説明】【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイとして有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬディスプレイが注目されている。
【０００３】
かかる有機ＥＬディスプレイに用いられる有機ＥＬ素子は、有機材料から構成されており、外気に触れると酸化して劣化が起きると考えられている。そこで、図５に示すように、有機ＥＬ素子上には、有機材料を外気から保護するため水・酸素を吸収する吸湿膜が形成されている（例えば、特許文献１）。この吸湿膜はアルカリ土類金属の酸化物により形成されている。
【特許文献１】特開２００５−７１６３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、吸湿膜を構成するアルカリ土類金属酸化物は、酸素が過剰に存在すれば過酸化物となって酸素を放出する虞がある。酸素が放出され、放出された酸素と有機ＥＬ素子の有機材料とが化合すると、有機ＥＬ素子自体が酸化して劣化する等、信頼性の面で問題が生じる。
【０００５】
本発明は、上述した課題に鑑みなされたものであって、信頼性を向上させることが可能な有機ＥＬディスプレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、素子基板と、前記素子基板上に形成された有機ＥＬ素子と、前記素子基板上に、該素子基板に対して対向するように配置された封止基板と、前記素子基板と前記封止基板との間に介在され、前記有機ＥＬ素子を取り囲むように形成されたシール材と、前記素子基板と対向する前記封止基板の対向面に形成され、前記素子基板、前記封止基板及び前記シール材で形成される空間内の水分を吸収するための吸湿体と、を備え、前記吸湿体は、光透過性の金属酸化膜と光透過性の金属膜とを積層した構造を有することを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記金属膜は、前記金属酸化膜に対して前記素子基板側に配置されていることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記金属膜は、前記金属酸化膜の端部側面を露出するように形成されていることを特徴とする。
【０００９】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記有機ＥＬ素子は、前記素子基板上にマトリックス状に複数配列されており、前記素子基板上には、前記マトリックス状に配列された複数の有機ＥＬ素子を取り囲むように形成された隔壁を備え、前記吸湿体は、前記隔壁に接するように形成されていることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記隔壁を構成する材料は、樹脂材料を主成分とすることを特徴とする。
【００１１】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、素子基板と、前記素子基板上に形成された有機ＥＬ素子と、前記有機ＥＬ素子上に形成された光透過性の保護膜と、前記保護膜上に形成され、外部の水分を吸収するための吸湿体と、を備え、前記吸湿体は、光透過性の金属膜と光透過性の金属酸化膜とを積層した構造を有することを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記金属膜は、前記金属酸化膜に対して前記素子基板側に配置されていることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記有機ＥＬ素子は、前記素子基板上にマトリックス状に複数配列されており、前記吸湿体は、前記複数の有機ＥＬ素子の配列領域の直上に配置され、平面視において前記吸湿体の形成領域は、前記配列領域よりも広く、該配列領域を含んで設けられていることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記金属膜及び前記金属酸化膜を構成する金属は、同質の金属材料を主成分とすることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記金属膜及び前記金属酸化膜を構成する金属は、アルカリ土類金属を主成分とすることを特徴とする。
【００１６】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記金属膜の厚みは、１ｎｍ〜１００ｎｍであることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明の有機ＥＬディスプレイにおいては、前記金属膜及び前記金属酸化膜は、前記保護膜上に金属材料層を被着し、該金属材料層の表面を酸化処理することで形成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、有機ＥＬ素子上に、アルカリ土類金属膜とアルカリ土類金属酸化膜からなる吸湿体を設け、アルカリ土類金属酸化膜が放出する酸素をアルカリ土類金属膜が吸収することで、有機ＥＬ素子の劣化を抑制することができ、有機ＥＬディスプレイの信頼性の向上に寄与することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下に、本発明にかかる有機ＥＬディスプレイ及びその製造方法の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００２０】
＜有機ＥＬディスプレイ＞
本発明の有機ＥＬディスプレイの実施の形態の一例について、図１（ａ）に平面図を、図１（ｂ）に図１（ａ）のＡ−Ａ’部分の断面図を示す。
【００２１】
図１（ａ）、（ｂ）に示すように、本実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイは、平板状の素子基板１と、素子基板１上にマトリックス状に配列された有機ＥＬ素子２と、素子基板１上に、素子基板１に対して対向するように配置された封止基板３と、素子基板１と封止基板３との間に介在され、有機ＥＬ素子２の配列領域を取り囲むように形成されたシール材４と、素子基板１と対向する封止基板３の対向面Ｓに形成され、素子基板１、封止基板３及びシール材４で形成される空間内の水分を吸収するための吸湿体５とを含んで構成されている。なお、素子基板１上には、各々の有機ＥＬ素子２を取り囲むように隔壁６が形成されている。
【００２２】
素子基板１としては、例えば、透明性のプラスチックやガラスを用いることができる。本実施の形態の一例にかかる有機ＥＬディスプレイは、有機ＥＬ素子２から発せられた光が封止基板３を通過して進行する、所謂トップエミッション構造であるため、素子基板１は透明性の基板でなくても良い。なお、有機ＥＬ素子２が形成される素子基板１上には、絶縁膜で被覆された薄膜トランジスタ、電気配線からなる駆動回路等が形成されている。
【００２３】
有機ＥＬ素子２の基本構造は、有機発光層２ａが上下方向から下部電極層２ｃと上部電極層２ｂとに挟まれた構造である。なお、有機発光層２ａは、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層等の複数層で構成される場合が多い。かかる有機発光層２ａは、一般的に有機材料から形成されており、両電極層２ｂ、２ｃから印加される電流に基づき発光する。
【００２４】
有機ＥＬ素子２は、例えば蒸着法やＣＶＤ法を用いることにより形成することができる。下部電極層２ｂとしては、例えば、白金、金、銅、パラジウム、イリジウム、アルミニウム、酸化ニッケル、酸化チタン等を用いることができる。また、上部電極層２ｃとしては、例えば、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、銀、ストロンチウム、ＩＴＯ、ＩＺＯ等を用いることができる。なお、かかる上部電極層２ｃは、トップエミッション構造を採用する場合、透明又は半透明の材料から構成されており、有機発光層２ａが発する光を透過する機能を有している。なお、マグネシウム、カルシウム、アルミニウム、銀、ストロンチウム等の基本的には光透過化の有さない材料は、その厚みを、１００ｎｍ以下とすることで光を透過させることができる。
【００２５】
封止基板３は、有機ＥＬ素子２を外気から封止する機能を有している。トップエミッション構造を採用する場合は、透明性の基板であって、例えばプラスチック、ガラスから形成されている。
【００２６】
シール材４は、素子基板１と封止基板３とを接合する機能を有している。シール材４としては、例えば、光硬化性又は熱硬化性のアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂等を用いることができる。これにより、有機ＥＬ素子２は、素子基板１と封止基板３とシール材４とにより外気から遮断する形で封止される。
【００２７】
なお、有機ＥＬ素子２の封止は、真空中または不活性ガス中で行なう。不活性ガスとしては、例えば窒素ガスやアルゴンガスを用いる。不活性ガス中で封止を行なうのは、有機ＥＬ素子２が酸素や水分で劣化するため、封止する際に有機ＥＬディスプレイ内に酸素や水分が入るのを防止するためである。
【００２８】
封止基板３の対向面Ｓに被着する吸湿体５は、酸素・水を吸収するものであって、光透過性の金属酸化膜７と、光透過性の金属膜８とを積層した構造を有している。
【００２９】
金属酸化膜７は、素子基板１と対向する封止基板３の対向面Ｓに形成されており、例えば、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム等のアルカリ土類金属の酸化物を用いることができる。金属酸化膜７は、例えば蒸着法やスパッタリング法によって、カルシウムを昇華しながら酸素を供給し、反応性蒸着又は反応性スパッタ等の反応成膜を行うことで１〜５００ｎｍの範囲で形成する。
【００３０】
金属膜８は、対向面Ｓ上に形成した金属酸化膜７上に積層されており、例えば、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等のアルカリ土類金属を用いることができる。金属膜８は、金属酸化膜７上に、例えば蒸着法やスパッタリング法によって、カルシウムを昇華して１〜１００ｎｍの範囲で形成する。金属膜８の厚みを、この範囲とすることで、有機ＥＬ素子２が発する光が十分に金属膜８を透過することができる。
【００３１】
金属膜８は、金属酸化膜７の表面を被覆するように形成することで、下記で説明するように金属酸化膜７が放出する酸素を吸収することができる。その結果、有機ＥＬ素子２と放出された酸素が反応して上部電極層２ｃ及び下部電極層２ｂが酸化したり、有機発光層２ａが劣化したりする等の問題を抑制することができる。
【００３２】
金属酸化膜７が酸素を放出するのは、酸素を供給しながら金属酸化膜７を形成する反応成膜を行なうことで、金属酸化膜７の一部に酸素が過剰に存在する場合と、金属酸化膜７が外部からの酸素・水分を吸収し、金属酸化膜７内に過剰に酸素が存在する場合等に想定される。金属酸化膜７に酸素が過剰に存在すると、金属酸化膜７が分子状態としてより安定な一酸化物となる過程において、酸素を放出するものと考えられる。
【００３３】
金属膜８は、金属酸化膜７の端部側面を露出するように形成することが望ましい。かかる金属酸化膜７の端部側面を露出することで、金属酸化膜７が有機ＥＬディスプレイに外部から衝撃が加わり有機ＥＬ素子２の封止が破れたとしても、外部から侵入する酸素・水分を吸収することができ、有機ＥＬディスプレイの輝度の低下を抑制することができる。
【００３４】
また、図１（ａ）に示すように、吸湿体５の形成領域Ｆ１は、有機ＥＬ素子２の配列領域Ｆ２よりも広く、配列領域Ｆ２を含んで設けることで、金属膜８を金属酸化膜７と有機ＥＬ素子２との間に介在するように配置することができ、金属酸化膜７から有機ＥＬ素子２に向かって放出された酸素を有機ＥＬ素子２に到達する前に的確に捕捉することができる。その結果、有機ＥＬ素子２の劣化を低減することができる。また、このように吸湿体５を設けたことで、金属酸化膜７から放出された酸素の進行方向がいかようであっても、金属膜８で酸素を捕捉することができるため、各々の有機ＥＬ素子２の劣化を略均一にすることができ、有機ＥＬディスプレイの輝度むらを低減することができる。
【００３５】
本発明の有機ＥＬディスプレイは、上記したように金属酸化膜７と有機ＥＬ素子２との間に金属膜８を形成することで、金属酸化膜７が放出する酸素を金属膜８で吸収し、金属酸化膜７が放出する酸素と有機ＥＬ素子２とが化合して、有機ＥＬ素子２が劣化するのを抑制することができ、ディスプレイとしての信頼性を向上させることができる。
【００３６】
また、隔壁６は、複数の有機ＥＬ素子２を仕切るためのものであって、例えば、素子基板１上にＣＶＤ法によって成膜し、ウエットエッチング処理することで下部より上部の方が広い略逆テーパー状に成形することができる。隔壁６としては、外部からの衝撃の観点から、例えば、ノボラック樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂材料を用いることができる。
【００３７】
樹脂材料は、水分を吸収し易い性質を有している。樹脂材料を主成分とする隔壁６は、ウエットエッチング処理等を行なって成形する際に、隔壁６の表面ないし内部に水分が付着することがある。水分を有する隔壁６の近傍に有機ＥＬ素子２を形成すると、有機ＥＬ素子２が隔壁６の水分によって劣化する虞がある。そこで、図２に示すように、吸湿体５における金属膜８は、隔壁６の上面と少なくとも一部接するように形成することで、隔壁６が有する水分を吸収することができ、隔壁６を介して有機ＥＬ素子２に水分が浸入するのを抑制することができる。その結果、有機ＥＬ素子２の劣化を防止することができ、有機ＥＬディスプレイの信頼性を向上することができる。なお、素子基板１上に形成するシール材３の上下の厚みを調えることで、素子基板１と封止基板３との距離を調整することができ、金属膜８と隔壁６とを接触するように形成することができる。
【００３８】
また、図２に示すように、隔壁６の上面と吸湿体５とを接触させると、隔壁６が吸湿体５から応力を受ける。隔壁６は、吸湿体５から応力を受けると、隔壁６の上下の厚みが短くなり、隣接する有機ＥＬ素子２に向かって広がる。かかる有機ＥＬ素子２の端部は、隔壁６から受ける応力が原因で、歪みが生じ、素子基板１から剥離したりする等の問題が生じる虞がある。ここで、隔壁６に吸湿体５が接触する前の隔壁６の上下の厚みをＬ１とし、隔壁６に吸湿体５が接触して外形が変化した後の隔壁６の上下の厚みをＬ２とし、Ｌ１とＬ２との差をＬ３とする。そこで、隔壁６が吸湿体５から受ける応力は、０≦Ｌ３≦０．３μｍの範囲となる力とする。その結果、隔壁６に吸湿体５が接触しても、有機ＥＬ素子２に歪みが生じるのを防止することができる。
【００３９】
また、金属膜８及び金属酸化膜７を構成する金属は、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の同質の金属材料を主成分とすることで、金属膜８と金属酸化膜７との界面の密着性を良好に維持することができ、金属膜８と金属酸化膜７との剥離を防止し、有機ＥＬディスプレイの信頼性を向上することができる。
【００４０】
更に、金属膜８及び金属酸化膜７を構成する金属は、アルカリ土類金属を主成分とすることで、吸湿体５の透明性を高めることができ、有機ＥＬ素子２が発する光を封止基板３外に取り出す取出効率を上げて、有機ＥＬ素子２から発せられる光を有効活用することができる。なお、ここで主成分とは、金属膜８及び金属酸化膜７を構成する複数の物質のうち最も多く含まれる金属材料をいう。
【００４１】
＜有機ＥＬディスプレイの変形例＞
以下では、上述の実施形態に係る有機ＥＬディスプレイの変形例及びその製造方法について記載する。なお、上述の図１に示す構成や製造方法については、同一の参照符号を付して説明を省略し、異なる箇所について説明する。
【００４２】
本変形例においては、図３に示すように、吸湿体５´は素子基板１側に形成されている。
【００４３】
有機ＥＬ素子２上に、例えばＣＶＤ法によって有機ＥＬ素子２を保護するための保護膜９が形成されている。保護膜９は、例えば、窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素等の無機材料からなり、酸素・水分が有機ＥＬ素子２に浸入するのを抑止する障壁としての機能を有している。なお、保護膜９は、有機ＥＬ素子２の表面全体を被覆するように形成されている。
【００４４】
吸湿膜５´は、保護膜９上に、例えば蒸着法やＣＶＤ法を用いることにより形成することができる。次に、金属膜８´を保護膜９上に、上述した方法及び材料を使用することで、保護膜９の表面全体を被覆するように形成する。更に、金属酸化膜７´を金属膜８´上に、上述した方法及び材料を使用して形成する。
【００４５】
従来図６に示すように、保護膜９に有機ＥＬ素子２の上面まで、酸素が進入することが可能なピンホールが形成されていた場合、保護膜９上に金属酸化膜７´を直接形成すると、金属酸化膜７´が放出する酸素が上記ピンホールを介して有機ＥＬ素子２と化合し、有機ＥＬ素子２を劣化させる虞がある。
【００４６】
そこで、保護膜９上に金属膜８´を形成し、その上面に金属酸化膜７´を形成したことで、放出された酸素を金属膜８´が吸収し、酸素がピンホールを介して有機ＥＬ素子２まで到達するのを抑制することができ、有機ＥＬディスプレイの信頼性を向上させることができる。
【００４７】
なお、保護膜９上に、例えば蒸着法によって金属材料層を被着し、その後、金属材料層の表面を酸化処理することで、金属材料層の表面に金属酸化膜７´を形成することができる。この場合、保護膜９上に形成する吸湿体５´の製造方法において、金属膜８を形成してから金属酸化膜７を別途成膜するのに比べて、成膜プロセスを一層分省略することができるため、効率良く有機ＥＬディスプレイを製造することができる。
【００４８】
なお、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内において、種々の変更・改良が可能であることはいうまでもない。
【実施例】
【００４９】
本発明の有機ＥＬディスプレイの輝度の経時変化について以下に説明する。
【００５０】
ここでは、図１に示す有機ＥＬディスプレイ（実施例１）と、実施例から金属膜８のみを除いた有機ＥＬディスプレイ（比較例１）との輝度の経時変化について比較検討を行なった。
【００５１】
実施例１における吸湿体５の構成は、金属酸化膜７として６０ｎｍの厚みの酸化カルシウム、金属膜８として５ｎｍの厚みのカルシウムである。
【００５２】
次に、図４に示すように、実施例１の輝度の経時変化（Ｔ１）と、比較例１の輝度の経時変化（Ｔ２）について輝度保持率Ｂと経過時間Ｔのシミュレーション結果について説明する。ここで、輝度保持率Ｂとは、当初の発光輝度に対する計測時の発光輝度の割合である。なお、輝度の計測条件として、有機ＥＬ素子に流す電流は１０．８ｍＡとし、定電流駆動で計測した。
【００５３】
図３に示すように、実施例１は、１０００時間経過したとき輝度保持率Ｂは約６６％で、２０００時間経過したとき輝度保持率は約５５％である。比較例１は、１０００時間経過したとき輝度保持率は約５５％で、２０００時間経過したとき輝度保持率は約４０％である。この結果より、吸湿体５を有する有機ＥＬディスプレイは、輝度寿命が延びたことが分かる。その原因は、金属膜８が金属酸化膜７の放出する酸素を吸収したものと推定され、有機ＥＬ素子２が劣化するのを抑制したものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の有機ＥＬディスプレイの一例を示し、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’部分の断面図である。
【図２】本発明の有機ＥＬディスプレイの一例を示した断面図である。
【図３】本発明の有機ＥＬディスプレイの一例を示した断面図である。
【図４】本発明の有機ＥＬディスプレイの輝度と経時変化を示すシミュレーション結果である。
【図５】従来の有機ＥＬディスプレイの一例を示した断面図である。
【図６】従来の有機ＥＬディスプレイの一例を示した断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１ 素子基板
２ 有機ＥＬ素子
２ａ 有機発光層
２ｂ 下部電極層
２ｃ 上部電極層
３ 封止基板
４ シール材
５ 吸湿体
６ 隔壁
７ 金属酸化膜
８ 金属膜
９ 保護膜
Ｓ 対向面
Ｆ１ 形成領域
Ｆ２ 配列領域
【出願人】 【識別番号】０００００６６３３
【氏名又は名称】京セラ株式会社
【出願日】 平成１８年６月２８日（２００６．６．２８）
【代理人】
【公開番号】 特開２００８−１０２６２（Ｐ２００８−１０２６２Ａ）
【公開日】 平成２０年１月１７日（２００８．１．１７）
【出願番号】 特願２００６−１７８２１２（Ｐ２００６−１７８２１２）