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【発明の名称】 マイクロ波放射装置
【発明者】 【氏名】山下 正照

【氏名】小谷 一

【要約】 【課題】低コストに製作することができると共に、高放射出力を得ることが可能なマイクロ波放射装置を提供すること。

【構成】複数個のマイクロ波発生源と、始端がマイクロ波発生源に連結され、かつ終端が1点に集合するように配置された複数本のマイクロ波導波管と、複数本のマイクロ波導波管の集合点にあって、各マイクロ波導波管の終端から放出されるマイクロ波を集合して外部空間へと放出するマイクロ波放射器とを具備する、ことを特徴とするマイクロ波放射装置。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数個のマイクロ波発生源と、
始端がマイクロ波発生源に連結され、かつ終端が1点に集合するように配置された複数本のマイクロ波導波管と、
複数本のマイクロ波導波管の集合点にあって、各マイクロ波導波管の終端から放出されるマイクロ波を集合して外部空間へと放出するマイクロ波放射器とを具備する、ことを特徴とするマイクロ波放射装置。
【請求項2】
マイクロ波放射器が、
前面が外部空間へと開放され、かつ背面及び周側面が閉ざされたマイクロ波混合室を有すると共に、
このマイクロ波混合室の周側面壁には、各マイクロ波導波管の終端に相当するマイクロ波放出口が、相互対向を回避するように位置決めした上で開口形成されている、ことを特徴とする請求項1に記載のマイクロ波放射装置。
【請求項3】
マイクロ波混合室の背面壁の中央部には、周側面壁に開口された各マイクロ波放出口から放出されるマイクロ波の進行方向を外部空間側へと曲げるための反射体が存在する、ことを特徴とする請求項2に記載のマイクロ波放射装置。
【請求項4】
マイクロ波混合室は正面視円形、背面壁面は平坦、かつ反射体は椀状体である、ことを特徴とする請求項3に記載のマイクロ波放射装置。
【請求項5】
三次元空間を構成する直交3軸をX軸、Y軸、Z軸としたとき、複数本のマイクロ波導波管の全て及びマイクロ波放射器は同一のXY平面上に配置されると共に、マイクロ波放射器から外部空間へ放出されるマイクロ波はZ軸方向へと放出される、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のマイクロ波放射装置。
【発明の詳細な説明】【技術分野】
【0001】
この発明は、高周波誘電加熱等の用途に好適な比較的に大出力のマイクロ波放射装置に関する。
【背景技術】
【0002】
従来、高周波誘電加熱による木材の乾燥、食品の加工、半導体プロセスにおけるスパッタリングや蒸着等の用途には、比較的に大出力のマイクロ波放射装置が採用されている。このようなマイクロ波放射装置に使用されるマイクロ波発生源としては、マグネトロンが使用されるのが通例である(特許文献1参照)。
【特許文献1】特開2001−250671号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
この種のマイクロ波発生源は、定格出力がある値を超えると、その価格が急激に上昇することに加えて、周辺制御回路の設計も複雑となりがちであり、その結果、マイクロ波放射装置全体のコストアップが招来される。
【0004】
このような背景下にあって、本発明者等は、比較的に廉価な小出力のマイクロ波発生源の出力を複数台合成すれば、高価な1台のマイクロ波発生源を使用するよりも、マイクロ波放射装置の全体を廉価に製作できるとの着想を得た。
【0005】
しかしながら、上記の着想の下に試作を重ねたところ、複数台のマイクロ波発生源から発生するマイクロ波を、それぞれ専用の導波管を介して1本の共通導波管に合流させたのち、合流後の1本の共通導波管を経由してマイクロ波放射器へと導き、最終的にマイクロ波放射器から外部空間へと放射すると言う構成を採用すると、合流点におけるマイクロ波の反射により、マイクロ波放射器から十分な強さの放射出力を得ることができないとの問題点が知見された。
【0006】
この発明は、このような技術的背景下になされたものであり、その目的とするところは、低コストに製作することができると共に、高放射出力を得ることが可能なマイクロ波放射装置を提供することにある。
【0007】
この発明のさらに他の目的並びに作用効果は、明細書の以下の記述を参照することにより、当業者であれば容易に理解されるであろう。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記の課題を解決するために、本願の発明者等は、次のような構成を有するマイクロ波放射装置を提案する。
【0009】
すなわち、このマイクロ波放射装置は、複数個のマイクロ波発生源と、始端がマイクロ波発生源に連結され、かつ終端が1点に集合するように配置された複数本のマイクロ波導波管と、複数本のマイクロ波導波管の集合点にあって、各マイクロ波導波管の終端から放出されるマイクロ波を集合して外部空間へと放出するマイクロ波放射器とを具備することを特徴とする。
【0010】
このような構成によれば、複数本のマイクロ波導波管の集合点にマイクロ波放射器を配置したことにより、各マイクロ波発生源から共通のマイクロ波放射器へ至る間におけるマイクロ波の反射・減衰が軽減され、結果として、マイクロ波放射器から十分な強度のマイクロ波放射出力を得ることが可能となった。
【0011】
このとき、マイクロ波放射器が、前面が外部空間へと開放され、かつ背面及び周側面が閉ざされたマイクロ波混合室を有するものであってもよい。このマイクロ波混合室の周側面壁には、各マイクロ波導波管の終端に相当するマイクロ波放出口が、相互対向を回避するように位置決めした上で開口形成されている。
【0012】
このような構成によれば、各導波管の終端における反射を軽減しつつも、各終端から放出されるマイクロ波を同一の方向へと指向させることにより、比較的一様な強度分布を有するマイクロ波放射出力を得ることができる。
【0013】
また、マイクロ波混合室の背面壁の中央部には、周側面壁に開口された各マイクロ波放出口から放出されるマイクロ波の進行方向を外部空間側へと曲げるための反射体が存在してもよい。このような構成によれば、反射体の作用とも相まって、マイクロ波出力の指向性乃至強度分布の一様性を高めることができる。
【0014】
また、マイクロ波混合室は正面視円形、背面壁面は平坦、かつ反射体は椀状体であってもよい。このような構成によれば、マイクロ波混合室は円周に沿って周側壁を有することとなるため、各導波管の終端から放出されるマイクロ波は周側壁面、背面壁面、反射体のいずれに対しても同一の条件で影響を受けることとなり、マイクロ波出力の指向性乃至強度分布の一様性を一層高めることができる。
【0015】
また、三次元空間を構成する直交3軸をX軸、Y軸、Z軸としたとき、複数本のマイクロ波導波管の全て及びマイクロ波放射器は同一のXY平面上に配置されると共に、マイクロ波放射器から外部空間へ放出されるマイクロ波はZ軸方向へと放出されるものであってもよい。このような構成によれば、装置全体の薄型化が可能となり、様々な装置への組み込みが容易となる。
【発明の効果】
【0016】
本発明によれば、低コストに製作することができると共に、高放射出力を得ることが可能なマイクロ波放射装置を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0017】
以下に、この発明に係るマイクロ波放射装置の好適な実施の一形態を添付図面を参照しながら詳細に説明する。
【0018】
本願のマイクロ波放射装置の基本構成が図1に示されている。同図において、MG1,MG2,MG3はマイクロ波発生源(例えばマグネトロンなど)、WG1,WG2,WG3は導波管、MHはマイクロ波放射器、MWはマイクロ波である。
【0019】
図から明らかなように、本発明のマイクロ波放射装置には、複数個のマイクロ波発生源MG1,MG2,MG3と、マイクロ波発生源に連結された複数本のマイクロ波導波管WG1,WG2,WG3と、マイクロ波放射器MHとが含まれている。ここでマイクロ波導波管WG1,WG2,WG3は、始端がマイクロ波発生源MG1,MG2,MG3に連結され、かつ終端が1点に集合するように配置されている。またマイクロ波放射器MHは、複数本のマイクロ波導波管WG1,WG2,WG3の集合点にあって、各マイクロ波導波管の終端から放出されるマイクロ波を集合しマイクロ波出力MWとして外部空間へと放出するものである。
【0020】
次に、マイクロ波放射器及び周辺構造を示す斜視図(その1)が図2に示されている。この例にあっては、マイクロ波放射器MHは、正面視正方形で導波管の厚み相当の奥行きを有する直方体状のマイクロ波混合室10を有する。
【0021】
このマイクロ波混合室10の背面側は背面壁10aにより閉ざされ、左側面側並びに下面側については、左側面壁10b、下面壁10cにより閉ざされている。一方、上面側及び右側面側については、第1の導波管WG1及び第2の導波管WG2の放出口に相当する上面開口10d及び右側面開口10eとされている。
【0022】
以上の構成によれば、2個のマイクロ波発生源MG1,MG2から生成されたマイクロ波MW1,MW2は、2本のマイクロ波導波管WG1,WG2のそれぞれにより案内されてマイクロ波混合室10へと導かれる。ここで、第1の導波管WG1のマイクロ波放出口並びに第2の導波管WG2のマイクロ波放出口からマイクロ波混合室10内へと放出されるマイクロ波は、背面壁10a並びに対向する左側面壁10b又は下面壁10cに案内されて、図中Z軸方向へと向きを変え、外部空間へと放出される。このとき、各導波管を戻る反射波はマイクロ波混合室10の構造に起因して低減される。
【0023】
このときのマイクロ波反射波の逆流する割合を導波管別に示すグラフ(その1)が図3に示されている。同図において、縦軸は反射成分の割合、横軸は導入したマイクロ波の周波数、aは第1の導波管WG1から放射されたのち第1の導波管WG1に戻される反射成分、bは第2の導波管WG2から放射されたのち第1の導波管WG1へ侵入する反射成分、cは第1の導波管WG1から放射されたのち第2の導波管WG2へ侵入する反射成分、dは第2の導波管WG2から放射されたのち第2の導波管WG2に戻される反射成分である。なお、図においては、グラフが2本しかないように見えるが、aとd、bとcがそれぞれまったく同じ傾向を示した為に、線が重なったものである。
【0024】
すなわち、図のグラフから明らかなように、周波数2.45GHzのマイクロ波を導入した際に第1の導波管WG1から放射されたのち第1の導波管WG1に戻される反射成分aはおよそ0.18、第2の導波管WG2から放射されたのち第1の導波管WG1へ侵入する反射成分bはおよそ0.70、第1の導波管WG1から放射されたのち第2の導波管WG2へ侵入する反射成分cはおよそ0.70、第2の導波管WG2から放射されたのち第2の導波管WG2に戻される反射成分dはおよそ0.18となる。ここで、縦軸の数値の二乗が導入したマイクロ波に対する反射率(%)を意味している。このことからも明らかなように、このようなマイクロ波放射器の構造によれば、外部空間へとマイクロ波を効率よく放射することができる。
【0025】
次に、マイクロ波放射器及び周辺構造の他の例が図4に示されている。この例にあっては、マイクロ波放射器MHは、正面視円形で導波管の厚み相当の奥行きを有する椀状のマイクロ波混合室10を有する。
【0026】
このマイクロ波混合室10の背面側は背面壁10aにより閉ざされ、左側面側から下面側にかけては、環状周壁10fにより閉ざされている。一方、上面側及び右側面側については、第1の導波管WG1及び第2の導波管WG2の放出口に相当する上面開口10g及び右側面開口10hとされている。
【0027】
以上の構成によれば、2個のマイクロ波発生源MG1,MG2から生成されたマイクロ波MW1,MW2は、2本のマイクロ波導波管WG1,WG2のそれぞれにより案内されてマイクロ波混合室10へと導かれる。ここで、第1の導波管WG1のマイクロ波放出口並びに第2の導波管WG2のマイクロ波放出口からマイクロ波混合室10内へと放出されるマイクロ波は、背面壁10a並びに環状周壁10fに案内されて、図中Z軸方向へと向きを変え、外部空間へと放出される。このとき、各導波管を戻る反射波は、マイクロ波混合室10の構造に起因して低減される。
【0028】
このときのマイクロ波反射波の逆流する割合を導波管別に示すグラフ(その2)が図5に示されている。同図において、縦軸は反射成分の割合、横軸は導入したマイクロ波の周波数、aは第1の導波管WG1から放射されたのち第1の導波管WG1に戻される反射成分、bは第2の導波管WG2から放射されたのち第1の導波管WG1へ侵入する反射成分、cは第1の導波管WG1から放射されたのち第2の導波管WG2へ侵入する反射成分、dは第2の導波管WG2から放射されたのち第2の導波管WG2に戻される反射成分である。なお、図においては、グラフが2本しかないように見えるが、aとd、bとcがそれぞれまったく同じ傾向を示した為に、線が重なったものである。
【0029】
すなわち、図のグラフから明らかなように、周波数2.45GHzのマイクロ波を導入した際に第1の導波管WG1から放射されたのち第1の導波管WG1に戻される反射成分aはおよそ0.18、第2の導波管WG2から放射されたのち第1の導波管WG1へ侵入する反射成分bはおよそ0.08、第1の導波管WG1から放射されたのち第2の導波管WG2へ侵入する反射成分cはおよそ0.08、第2の導波管WG2から放射されたのち第2の導波管WG2に戻される反射成分dはおよそ0.18となる。ここで、縦軸の数値の二乗が導入したマイクロ波に対する反射率(%)を意味している。このことからも明らかなように、図4の構造によれば、図2の例よりも反射成分が少なく、より効率的に外部空間へとマイクロ波を放射することができる。
【0030】
次に、マイクロ波放射器及び周辺構造の更に他の例が図6に示されている。この例にあっては、マイクロ波放射器MHは、正面視円形で導波管の厚み相当の奥行きを有する椀状のマイクロ波混合室10を有する。
【0031】
このマイクロ波混合室10の背面側は背面壁10aにより閉ざされ、背面壁10aにはZ軸方向に盛り上がった半球状の椀状反射体10iが設けられている。また、背面壁10aの左側面側から下面側にかけては、環状周壁10fにより閉ざされている。一方、上面側及び右側面側については、第1の導波管WG1及び第2の導波管WG2の放出口に相当する上面開口10g及び右側面開口10hとされている。
【0032】
以上の構成によれば、2個のマイクロ波発生源から生成されたマイクロ波MW1,MW2は、2本のマイクロ波導波管WG1,WG2のそれぞれにより案内されてマイクロ波混合室10へと導かれる。ここで、第1の導波管WG1のマイクロ波放出口並びに第2の導波管WG2のマイクロ波放出口からマイクロ波混合室10内へと放出されるマイクロ波は、背面壁10a及び背面壁10aに設けられた椀状反射体10i、及び環状周壁10fに案内されて、図中Z軸方向へと向きを変え、外部空間へと放出される。このとき、各導波管を戻る反射波は、マイクロ波混合室10の構造に起因して低減される。
【0033】
このときのマイクロ波反射波の逆流する割合を導波管別に示すグラフ(その3)が図7に示されている。同図において、縦軸は反射成分の割合、横軸は導入したマイクロ波の周波数、aは第1の導波管WG1から放射されたのち第1の導波管WG1に戻される反射成分、bは第2の導波管WG2から放射されたのち第1の導波管WG1へ侵入する反射成分、cは第1の導波管WG1から放射されたのち第2の導波管WG2へ侵入する反射成分、dは第2の導波管WG2から放射されたのち第2の導波管WG2に戻される反射成分である。なお、図においてはグラフが2本しかないように見えるが、aとd、bとcがそれぞれまったく同じ傾向を示した為に、線が重なったものである。
【0034】
すなわち、図のグラフから明らかなように、周波数2.45GHzのマイクロ波を導入した際に第1の導波管WG1から放射されたのち第1の導波管WG1に戻される反射成分aはおよそ0.02、第2の導波管WG2から放射されたのち第1の導波管WG1へ侵入する反射成分bはおよそ0.05、第1の導波管WG1から放射されたのち第2の導波管WG2へ侵入する反射成分cはおよそ0.05、第2の導波管WG2から放射されたのち第2の導波管WG2に戻される反射成分dはおよそ0.02となる。ここで、縦軸の数値の二乗が導入したマイクロ波に対する反射率(%)を意味している。このことからも明らかなように、図6の構造によれば、図2,4の例よりも反射成分が少なく、より効率的に外部空間へとマイクロ波を放射することができる。
【0035】
次に、マイクロ波放射器及び周辺構造の更に他の例が図8に示されている。この例にあっては、マイクロ波放射器MHは、正面視円形で導波管の厚み相当の奥行きを有する椀状のマイクロ波混合室10を有する。
【0036】
このマイクロ波混合室10の背面側は背面壁10aにより閉ざされ、背面壁10aにはZ軸方向に盛り上がった半球状の椀状反射体10iが設けられている。また、背面壁10aの左側面側から右側面側にかけては、環状周壁10fにより閉ざされている。一方、左上面側、上面側、右上面側については、第1の導波管WG1、第2の導波管WG2、第3の導波管WG3の放出口に相当する左上開口10k、上部開口10j、右上開口10lとされている。
【0037】
以上の構成によれば、3個のマイクロ波発生源から生成されたマイクロ波MW1,MW2,MW3は、3本のマイクロ波導波管WG1,WG2,WG3のそれぞれにより案内されてマイクロ波混合室10へと導かれる。ここで、第1の導波管WG1のマイクロ波放出口10k、第2の導波管WG2のマイクロ波放出口10j、第3の導波管WG3のマイクロ波放出口10lからマイクロ波混合室10内へと放出されるマイクロ波は、背面壁10a及び背面壁10aに設けられた椀状放射対10i、及び環状周壁10fに案内されて、図中Z軸方向へと向きを変え、外部空間へと放出される。このとき、各導波管を戻る反射波は、マイクロ波混合室10の構造に起因して低減される。
【0038】
次に、マイクロ波放射器及び周辺構造の更に他の例が図9に示されている。この例にあっては、マイクロ波放射器MHは、正面視円形で導波管の厚み相当の奥行きを有する椀状のマイクロ波混合室10を有する。
【0039】
このマイクロ波混合室10の背面側は背面壁10aにより閉ざされ、背面壁10aにはZ軸方向に盛り上がった半球状の椀状反射体10iが設けられている。また、背面壁10aの縁に沿って設けられた環状周壁10fにより後述の各開口部以外の側面部は閉ざされている。一方、左上面側、上面側、右上面側、左下面側、右下面側の側面については、それぞれ第1の導波管WG1、第2の導波管WG2、第3の導波管WG3、第4の導波管WG4、第5の導波管WG5の放出口に相当する左上開口10k、上部開口10j、右上開口10l、左下開口10m、右下開口10nとされている。
【0040】
以上の構成によれば、5個のマイクロ波発生源から生成されたマイクロ波MW1,MW2,MW3,MW4,MW5は、5本のマイクロ波導波管WG1,WG2,WG3,WG4,WG5のそれぞれにより案内されてマイクロ波混合室10へと導かれる。ここで、第1の導波管WG1のマイクロ波放出口10k、第2の導波管WG2のマイクロ波放出口10j、第3の導波管WG3のマイクロ波放出口10l、第4の導波管WG4のマイクロ波放出口10m、第5の導波管WG5のマイクロ波放出口10nからマイクロ波混合室10内へと放出されるマイクロ波は、背面壁10a及び背面壁10aに設けられた椀状放射対10i、及び環状周壁10fに案内されて、図中Z軸方向へと向きを変え、外部空間へと放出される。このとき、各導波管を戻る反射波は、マイクロ波混合室10の構造に起因して低減される。
【0041】
次に、本願のマイクロ波放射装置の製作例(背面図)が図10に示されている。図10に示された例は図6の構造例の背面にあたり、同図において、MG1,M2はマイクロ波発生源、WG1,WG2はマイクロ波導波管、MHはマイクロ波放射器、10aは背面壁、10fは環状周壁、10iは椀状反射体である。
【0042】
マイクロ波発生源MG1,MG2で発生したマイクロ波は、それぞれマイクロ波導波管WG1,WG2を通りマイクロ波放射器MHに導かれ、図の背面方向の外部空間へと放出されるものである。
【産業上の利用可能性】
【0043】
本発明によれば、低コストに製作することができると共に、高放射出力を得ることが可能なマイクロ波放射装置を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【0044】
【図1】本願のマイクロ波放射装置の基本構成を示す図である。
【図2】マイクロ波放射器及び周辺構造を示す斜視図(その1)である。
【図3】マイクロ波反射波の逆流する割合を導波管別に示すグラフ(その1)である。
【図4】マイクロ波放射器及び周辺構造を示す斜視図(その2)である。
【図5】マイクロ波反射波の逆流する割合を導波管別に示すグラフ(その2)である。
【図6】マイクロ波放射器及び周辺構造を示す斜視図(その3)である。
【図7】マイクロ波反射波の逆流する割合を導波管別に示すグラフ(その3)である。
【図8】マイクロ波放射器及び周辺構造を示す斜視図(その4)である。
【図9】マイクロ波放射器及び周辺構造を示す斜視図(その5)である。
【図10】本発明装置の製作例を示す図(背面図)である。
【符号の説明】
【0045】
MG1〜5 マイクロ波発生源
WG1〜5 導波管
MH マイクロ波放射器
MW マイクロ波出力
MW1〜5 マイクロ波入力
10 マイクロ波混合室
10a 背面壁
10b 左側面壁
10c 下面壁
10f 環状周壁
10i 椀状反射体
10d,10e,10g,10h,10k,10j,10l,10m,10n 開口部
【出願人】 【識別番号】503005331
【氏名又は名称】セルテック・プロジェクト・マネージメント株式会社
【出願日】 平成18年6月21日(2006.6.21)
【代理人】 【識別番号】100098899
【弁理士】
【氏名又は名称】飯塚 信市


【公開番号】 特開2008−4331(P2008−4331A)
【公開日】 平成20年1月10日(2008.1.10)
【出願番号】 特願2006−171096(P2006−171096)