Warning: copy(htaccessbak): failed to open stream: No such file or directory in /home/jtokkyo/public_html/header.php on line 10
「特許と発明」 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
トップ :: G 物理学 :: G03 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ

【発明の名称】
染料含有ネガ型硬化性組成物、カラーフィルタおよびその製造方法
ポジ型感光性樹脂組成物
ポジ型感放射線性樹脂組成物、転写フィルムおよびメッキ造形物の製造方法
ポジ型感光性樹脂組成物
露光装置のマスク保持機構
描画装置及び描画方法
基板カバー、荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
半導体装置のマスク描画データ作成方法及びプログラム
感光性樹脂組成物
感光性樹脂組成物
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物に用いられる樹脂、該樹脂の合成に用いられる化合物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法
露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
ハーフトーンマスクの欠陥修正方法及び欠陥が修正されたハーフトーンマスク
感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂印刷用原版
リソグラフィプロセスにおけるレジストの限界寸法の変動の修正
露光装置及びデバイス製造方法
新規不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂、樹脂組成物及びその硬化物
平版印刷版原版積層体、及び平版印刷版原版の製造方法
感光性組成物、該組成物を用いた画像記録材料、及び平版印刷版の作製方法
パターン構造体及びパターン形成方法
マスクパターン設計方法、マスクパターン設計装置および半導体装置の製造方法
露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
シミュレーションモデルの評価方法、プログラム及び半導体装置の製造方法
感光性組成物、感光性フィルム、永久パターン形成方法、及びプリント基板
硬化性組成物、カラーフィルタ、及びその製造方法
三次元構造物作製装置、センサー作製装置、及び三次元構造物作製方法
画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
画像形成組成物およびそれを用いた感光性平版印刷版
電子ビーム描画装置及び電子ビームのずれ補償方法
感光性平版印刷版原版
硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
マスクと半導体装置の製造方法
露光方法
露光方法および露光装置
描画装置およびアライメント方法
アルカリ現像可能な硬化性組成物及びその硬化物
硬化性組成物及びその硬化物
レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法
描画用処理回路及び描画方法
感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
階調マスク
階調マスク
パターン形成方法、パターン形成装置、記録媒体の製造方法および部材の製造方法
レイアウトパターン補正装置、レイアウトパターン補正方法、及びプログラム
リソグラフィー用ペリクル
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
感光性ペーストと該感光性ペーストから形成された焼成物パターンを有するプラズマディスプレイパネル
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
12345678910  次10へ 最終へ