トップ :: C 化学 冶金 :: C23 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパツタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

【発明の名称】
溶接継手部の強度改善方法及び強度改善構造
ターゲット保持装置およびターゲット保持方法
溶射皮膜形成装置および溶射皮膜形成方法
成膜装置、ガス供給装置、成膜方法及び記憶媒体
溶射皮膜形成方法および溶射皮膜形成装置
成膜装置
反射防止積層体の製造方法、光学機能性フィルタおよび光学表示装置
金属表面処理方法
溶融亜鉛めっき設備
溶融亜鉛めっき用焼鈍炉における鋼板前処理方法
複合材料及びその製造方法
硬質皮膜
表面処理方法および該表面処理方法を用いた金属材料および除菌装置
ダイヤモンド状炭素膜およびその形成方法
摺動部材
ガスフロースパッタリング成膜方法
電極パターン形成方法
耐酸化材料及び耐酸化材料の製造方法
めっき膜の製造方法、及びめっき処理装置
浸炭窒化方法、機械部品の製造方法および機械部品
微粒子凝集塊解砕装置および被膜形成装置
金属薄膜及び金属配線パターンの形成方法、並びに表示パネルの製造方法
真空蒸着装置及びその装置を用いて形成された保護膜並びにその保護膜の形成方法
物品上のプラズマ溶射皮膜多孔性を制御する方法及びシステム
気化チューブを備えた物質の気化装置
改善されたPVDターゲット
スパッタ堆積装置およびスパッタ堆積方法
気化器及び気化方法
巻取式複合真空表面処理装置及びフィルムの表面処理方法
複合金属箔の製造方法、複合金属箔、成形金属箔及び成形金属箔の製造方法
プラズマ発生装置
保護膜被覆チタン板および保護膜被覆チタン板製自動車用排気装置ならびにそれらの製造方法
めっき基板の製造方法
被膜形成装置および該装置を用いる被膜形成方法
スパッタリング成膜装置、封止膜の製造方法及び有機EL素子
金属膜の製造方法、下地組成物、金属膜およびその利用
スパッタリングターゲット
イオンスパッタ装置
封孔処理剤、溶射被膜被覆部材および軸受
封孔処理剤、溶射被膜被覆部材および軸受
封孔処理剤、溶射被膜被覆部材および軸受
アライメント装置及び方法
CVD装置
溶融メッキ浴槽のスナウト内の清浄装置
PVD用筒状ターゲット
成膜装置の噴射弁異常判断方法、気化器の噴射弁異常判断方法、成膜装置及び気化器
硬質皮膜およびその製造方法
スパッタ成膜装置およびスパッタ成膜方法
成膜装置及び成膜方法
めっき基板の製造方法
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