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【発明の名称】
6,6’−(アルキレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸の製造法
化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
包接化合物及びその製造方法
テトラヒドロピランを溶媒とする水素化ホウ素化合物による還元反応
テトラヒドロピランを溶媒とする金属塩存在下での水素化ホウ素化合物による還元反応
テトラヒドロピランを溶媒とする塩化アルミニウム存在下での水素化ホウ素化合物による還元反応
グリシン誘導体及びその用途
1,4−ジヒドロ−アントラセン誘導体およびその製造方法
1,4−ジヒドロ−9,10−アントラセンジイル(メタ)アクリレート化合物およびその製造方法
スルホン酸エステル化合物の製造法
流体輸送用配管の閉塞検知システム
新規な4−アルコキシ−1−(2−(メタ)アクリルオキシアルコキシ)ナフタレン化合物、その製造方法、およびその用途
新規なビス(2−(メタ)アクリルオキシアルコキシ)ナフタレン化合物、その製造方法、およびその用途
含フッ素多環式化合物及びその製造方法
含フッ素化合物及びその製造方法
2−クロロアニリン化合物の製造方法
アルコール系化合物
有機EL素子用化合物及び有機EL素子
異性化反応および結晶化工程を含む2,6−ジメチルナフタレンの分離および精製方法
3−イミノプロペン化合物、それを含有する有害生物防除剤、およびその有害生物防除用途
ジフェニルアミン誘導体、その製造方法および電子写真感光体
パラキシレンを生成するための高エネルギー効率のプロセス
イソシアネートの合成のためのワンポット触媒法
高純度2,6−ジメチルナフタレンの製造方法
新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
新規スルホン酸塩及びその誘導体、光酸発生剤並びにこれを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
新規な含フッ素不飽和シリルエーテル化合物及び該化合物を中間体とする含フッ素不飽和アルコール誘導体の製造方法
スピン分極された白金を用いて反応を促進させる方法およびその利用
芳香族アミン誘導体及びそれらを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子
3−(ヒドロキシ又はアルコキシ)−4−アルコキシ−6−ニトロ安息香酸化合物の製法
桂皮酸誘導体、その紫外線吸収剤としての用途、及びこれを配合した紫外線吸収性組成物、皮膚外用剤。
新規な桂皮酸誘導体、その紫外線吸収剤としての用途、及びこれを配合した紫外線吸収性組成物、皮膚外用剤。
ポリオールの製造法
精製クロロゲン酸の製造法
β−ヒドロキシカルボニル化合物の後処理方法
含フッ素フェニルアラニン誘導体及びその製造方法
ハロゲン含有フェニルアラニン誘導体の製造方法
タデを用いたルテインの調製方法、およびタデの生育方法
1,2−アルカンジオールの製造法
炭酸エステル及びその製造方法、並びに、磁気記録媒体
ジアセトキシアリル化合物の製造方法
光学活性1−(フルオロ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換フェニル)アルキルアミンN−モノアルキル誘導体の製造方法
ビカルタミドおよびそのアナログの製造方法
イソシアネートの連続的な製造方法
蛍光性錯体及びそれを用いた照明装置
2−メルカプトエタノールの製造方法
アルコール化合物の製造方法
中間体アルコール化合物の製造方法
脂肪族アミンアルキレンオキサイド付加物の製造方法
ギ酸銅錯体、銅粒子の製造方法および配線基板の製造方法
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