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シェーバ洗浄装置およびシェーバシステム - 特開2008−23025 | j-tokkyo
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【発明の名称】 シェーバ洗浄装置およびシェーバシステム
【発明者】 【氏名】北村 浩康

【氏名】岩尾 誠一

【要約】 【課題】ACアダプタの端子を付け替えることで、同じDC電圧で、シェーバと洗浄装置とに給電可能としたシェーバシステムにおいて、刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるにあたって、電磁誘導加熱回路の前段に昇圧回路を設け、それらを共通の発振回路でトリガ駆動する際に、それぞれの変換電力を最適にして刃先の加熱を抑える。

【構成】ACアダプタ3の端子3aから洗浄装置の昇圧回路7にシェーバと共用のDC5Vが入力され、発振回路OS1がFETQ1をON/OFFすることで、チョークコイルL2を使用して昇圧を行い、コンデンサC1から出力される昇圧結果のDC24Vを電源として、電磁誘導加熱回路18がコイルL1の電流をFETQ2でON/OFFしてシェーバの刃先を誘導加熱する。このとき、FETQ2へは、インバータINVを介して発振回路OS1のトリガパルスを与えることで、昇圧を高、加熱を低のデューティとする。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
スイッチング式のレギュレータから成り、電源からの所定のDC電圧を昇圧する昇圧回路と、
誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、洗浄された後のシェーバの刃先を、前記昇圧回路で昇圧された電圧を用いて電磁誘導加熱によって乾燥させる乾燥手段と、
前記乾燥手段におけるスイッチ素子へ、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスを反転して入力する反転手段を含むことを特徴とするシェーバ洗浄装置。
【請求項2】
スイッチング式のレギュレータから成り、電源からの所定のDC電圧を昇圧する昇圧回路と、
誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、洗浄された後のシェーバの刃先を、前記昇圧回路で昇圧された電圧を用いて電磁誘導加熱によって乾燥させる乾燥手段と、
前記乾燥手段におけるスイッチ素子へ、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスを分周して入力する分周手段とを含むことを特徴とするシェーバ洗浄装置。
【請求項3】
シェーバと、電源アダプタと、洗浄装置とを備えて構成され、前記電源アダプタから前記シェーバへ所定のDC電圧で給電を行うことができるとともに、前記電源アダプタから前記洗浄装置へも前記所定のDC電圧で給電を行い、該洗浄装置内の昇圧回路で昇圧した後の電圧を用いて、該洗浄装置内の乾燥手段が洗浄された後のシェーバの刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるようにしたシェーバシステムにおいて、
前記昇圧回路はスイッチング式のレギュレータから成り、
前記乾燥手段は誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、
前記乾燥手段におけるスイッチ素子へは、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスが反転して入力されることを特徴とするシェーバシステム。
【請求項4】
シェーバと、電源アダプタと、洗浄装置とを備えて構成され、前記電源アダプタから前記シェーバへ所定のDC電圧で給電を行うことができるとともに、前記電源アダプタから前記洗浄装置へも前記所定のDC電圧で給電を行い、該洗浄装置内の昇圧回路で昇圧した後の電圧を用いて、該洗浄装置内の乾燥手段が洗浄された後のシェーバの刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるようにしたシェーバシステムにおいて、
前記昇圧回路はスイッチング式のレギュレータから成り、
前記乾燥手段は誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、
前記乾燥手段におけるスイッチ素子へは、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスが分周して入力されることを特徴とするシェーバシステム。
【発明の詳細な説明】【技術分野】
【0001】
本発明は、シェーバの刃先に付着した体毛や皮膚組織を洗浄するための洗浄装置およびそれらに電源供給を行うことができる電源アダプタを備えて構成されるシェーバシステムに関する。
【背景技術】
【0002】
シェーバの刃先に付着した体毛や皮膚組織を洗浄するための洗浄装置は、たとえば特許文献1や特許文献2で示されている。それらの従来技術では、洗浄液を供給して刃先を清浄化し、その後にファンで送風して乾燥まで行うことが記載されている。このような洗浄装置を用いることで、前記体毛や皮膚組織などを適宜洗浄し、刃先を清潔に保つことができる。
【0003】
一方、特許文献3や特許文献4には、充電器(台)上に搭載されたシェーバに、電磁誘導によって電力供給を行うことで無接点化するようにしたシェーバシステムにおいて、刃先を水洗いした後のシェーバを上下反転して充電器にセットすることで、前記刃先を電磁誘導加熱して乾燥させることが提案されている。このような構成では、刃先自身の発熱で殺菌を行い、前記刃先を清潔に保つことができる。
【0004】
そこでこれらの技術を用い、洗浄を行い、誘導加熱によって乾燥を行う洗浄装置も提案されている。そのような構成を図3(a)で示す。この図3(a)は、本発明の前提となるシェーバシステムのブロック図である。このシェーバシステムは、シェーバ1に、それに前記洗浄・乾燥を行うことができるとともに、充電も行うことができる洗浄装置2およびACアダプタ3を備えて構成される。このようなシェーバシステムでは、通常、ACアダプタ3の端子3aは、洗浄装置2に接続されており、洗浄装置2に載せているだけで、適宜シェーバ1に充電が行われるようになっている。
【0005】
しかしながら、シェーバ1内の二次電池が放電してまった時のバックアップ用として、また長期の旅行などに適応できるように、図3(b)で示すように、ACアダプタ3の端子3aをシェーバ1に直結しての使用も可能になっている。ここで、ACアダプタ3内では、トランスが内蔵されて商用電源側と負荷側とが絶縁されており、さらに前記トランスで変換後の電圧をスイッチング電源によって定電圧化して出力することで、該ACアダプタ3は、AC100〜240Vの入力に対して、常にDC5Vを出力可能なワールドワイド対応のアダプタとなっている。この他にも、自動車用として、DC入力に対応可能な電源アダプタが使用されてもよい。
【0006】
一方、前記洗浄装置2内では、前記端子3aからの入力電圧は、電源線4を介してシェーバ1に与えられて充電が行われるとともに、洗浄回路5に与えられてシェーバ1の刃先1aの洗浄に使用される。洗浄回路5は、洗浄槽6内に洗浄液を循環させるポンプや弁およびそれらを駆動制御する回路などを備えて構成される。また、前記端子3aからの入力電圧は、昇圧回路7で昇圧された後、電磁誘導加熱回路8に与えられて、前記刃先1aの電磁誘導加熱に必要な高周波の信号が作成され、電磁誘導加熱トランス9から、洗浄後の刃先1aに与えられる。
【0007】
前記昇圧回路7は、前記刃先1aを電磁誘導加熱によって乾燥させるにあたって、電磁誘導加熱回路8の電源電圧が低いと、誘導磁界を発生する電磁誘導加熱トランス9のコイルL1への電流をON/OFFするFETなどのスイッチ素子による損失が大きくなるので、そのような損失を抑えるために設けられている。このように電磁誘導加熱を行うにあたって、昇圧回路で電源電圧を上昇させておくことで加熱効率を向上することは、たとえば特許文献5で示されている。ここで、ACアダプタ3から供給されるDC電圧自体を上げると、このような昇圧回路7は不要になるが、シェーバ1側に降圧回路が必要になり、シェーバ1が大型化してしまうという問題がある。
【0008】
図4は、前記昇圧回路7および電磁誘導加熱回路8の典型的な従来技術の電気回路図である。この図4の構成において、前述の図3に対応する構成には、同一の参照符号を付して示す。昇圧回路7では、前記ACアダプタ3の端子3aから与えられるDC5Vを電源入力として、その端子3a間にチョークコイルL2およびスイッチング素子であるFETQ1の直列回路が接続され、発振回路OS1からゲート抵抗R1を介して前記FETQ1のゲートに与えられるトリガパルスがハイレベルとなると、該FETQ1がONして前記チョークコイルL2に励磁エネルギーが蓄積され、OFFされた際に、前記端子3aからの5Vに、チョークコイルL2で発生された電圧が加算されて出力され、その電圧はチョークコイルL2とFETQ1との接続点からダイオードD1を介して取出され、コンデンサC1に蓄積される。こうして、前記DC5Vの入力電圧に対して、電解コンデンサから成り、電磁誘導加熱回路8の電源となる前記コンデンサC1の端子間からは、DC24Vが出力される。
【0009】
電磁誘導加熱回路8では、前記コンデンサC1を電源として、その端子間に前記コイルL1およびスイッチング素子であるFETQ2の直列回路が接続され、前記発振回路OS1からゲート抵抗R2を介して前記FETQ2のゲートに与えられるトリガパルスがハイレベルとなると、該FETQ2がONして前記刃先1aに電磁誘導によって渦電流を発生させ、該刃先1aに発熱させる。前記コイルL1には、並列に共振用のコンデンサC2が接続されている。このように昇圧回路7と電磁誘導加熱回路8とで同じ発振回路OS1を使用することは、たとえば特許文献6に示されている。
【特許文献1】特許第3652393号公報
【特許文献2】特開2004−243112号公報
【特許文献3】特開平10−94685号公報
【特許文献4】特開2004−41782号公報
【特許文献5】特開2002−246161号公報
【特許文献6】特開2005−116385号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0010】
上述のように構成される昇圧回路7において、端子3aへの入力電圧Vinと、コンデンサC1からの出力電圧Voutとの関係は、発振回路OS1がFETQ1に与えるトリガパルスのデューティをαとすると、
Vout=(α/(1−α))Vin+Vin
で表すことができる。
【0011】
したがって、前記のようにVin=5V、Vout=24Vであるとき、α=19/24となる。一般に、Vout=2Vinとなるαが0.5以上でないと、充分な昇圧比を得られず、昇圧回路7を挿入して加熱効率を向上した効果が乏しくなる。これに対して、前記刃先1aは金属の薄い板やワイヤから成り、非常に誘導加熱され易く、同じ発振回路OS1からのトリガパルスを使用した場合、αが0.5より小さいことが望ましい。
【0012】
本発明の目的は、刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるにあたって、その加熱の効率を上げるために昇圧回路を用い、電磁誘導加熱と昇圧とにトリガパルスの発振手段を共用化しても、刃先の過熱を抑えることができるシェーバ洗浄装置およびシェーバシステムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0013】
本発明のシェーバ洗浄装置は、スイッチング式のレギュレータから成り、電源からの所定のDC電圧を昇圧する昇圧回路と、誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、洗浄された後のシェーバの刃先を、前記昇圧回路で昇圧された電圧を用いて電磁誘導加熱によって乾燥させる乾燥手段と、前記乾燥手段におけるスイッチ素子へ、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスを反転して入力する反転手段を含むことを特徴とする。
【0014】
また、本発明のシェーバシステムは、シェーバと、電源アダプタと、洗浄装置とを備えて構成され、前記電源アダプタから前記シェーバへ所定のDC電圧で給電を行うことができるとともに、前記電源アダプタから前記洗浄装置へも前記所定のDC電圧で給電を行い、該洗浄装置内の昇圧回路で昇圧した後の電圧を用いて、該洗浄装置内の乾燥手段が洗浄された後のシェーバの刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるようにしたシェーバシステムにおいて、前記昇圧回路はスイッチング式のレギュレータから成り、前記乾燥手段は誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、前記乾燥手段におけるスイッチ素子へは、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスが反転して入力されることを特徴とする。
【0015】
上記の構成によれば、シェーバと、電源アダプタと、洗浄装置とを備えて構成されるシェーバシステムにおいて、電源アダプタが、シェーバの動作に適した所定のDC電圧、たとえば二次電池の充電に適した5Vで給電を行うことができるとともに、端子を付け替えることで、洗浄装置へも同じ電圧で給電を行うことができる構成では、洗浄装置側では、洗浄された後のシェーバの刃先を乾燥手段が電磁誘導加熱によって乾燥させるにあたって、電源電圧が低いと、誘導磁界を発生するコイルへの電流をON/OFFするFETなどのスイッチ素子による損失が大きくなる。そこで、電源アダプタから供給されるDC電圧自体を上げてしまうと、シェーバに降圧回路が必要になり、大型化してしまうので、該洗浄装置側に昇圧回路を設けて、昇圧した後の電圧を用いて前記乾燥手段が誘導磁界を発生するにあたって、昇圧回路をスイッチング式のレギュレータで構成し、前記乾燥手段におけるスイッチ素子へは、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスを反転して入力するようにする。
【0016】
したがって、充分な昇圧比を得るためには前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスのデューティが大きくなり、そのトリガパルスをそのまま乾燥手段のスイッチ素子へ与えてしまうと、過熱してしまうのに対して、前記トリガパルスをインバータなどで反転して入力することで、乾燥手段のスイッチ素子へのトリガパルスのデューティは小さくなり、そのような過熱を抑え、トリガパルスの発振手段を共用化することができる。また、昇圧回路におけるスイッチング周波数と、乾燥手段におけるスイッチング周波数とが同一となり、ノイズ対策も容易である。
【0017】
さらにまた、本発明のシェーバ洗浄装置は、スイッチング式のレギュレータから成り、電源からの所定のDC電圧を昇圧する昇圧回路と、誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、洗浄された後のシェーバの刃先を、前記昇圧回路で昇圧された電圧を用いて電磁誘導加熱によって乾燥させる乾燥手段と、前記乾燥手段におけるスイッチ素子へ、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスを分周して入力する分周手段とを含むことを特徴とする。
【0018】
また、本発明のシェーバシステムは、シェーバと、電源アダプタと、洗浄装置とを備えて構成され、前記電源アダプタから前記シェーバへ所定のDC電圧で給電を行うことができるとともに、前記電源アダプタから前記洗浄装置へも前記所定のDC電圧で給電を行い、該洗浄装置内の昇圧回路で昇圧した後の電圧を用いて、該洗浄装置内の乾燥手段が洗浄された後のシェーバの刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるようにしたシェーバシステムにおいて、前記昇圧回路はスイッチング式のレギュレータから成り、前記乾燥手段は誘導磁界を発生するコイルにスイッチ素子が直列に接続されて成り、前記乾燥手段におけるスイッチ素子へは、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスが分周して入力されることを特徴とする。
【0019】
上記の構成によれば、シェーバと、電源アダプタと、洗浄装置とを備えて構成されるシェーバシステムにおいて、電源アダプタが、シェーバの動作に適した所定のDC電圧、たとえば二次電池の充電に適した5Vで給電を行うことができるとともに、端子を付け替えることで、洗浄装置へも同じ電圧で給電を行うことができる構成では、洗浄装置側では、洗浄された後のシェーバの刃先を乾燥手段が電磁誘導加熱によって乾燥させるにあたって、電源電圧が低いと、誘導磁界を発生するコイルへの電流をON/OFFするFETなどのスイッチ素子による損失が大きくなる。そこで、電源アダプタから供給されるDC電圧自体を上げてしまうと、シェーバに降圧回路が必要になり、大型化してしまうので、該洗浄装置側に昇圧回路を設けて、昇圧した後の電圧を用いて前記乾燥手段が誘導磁界を発生するにあたって、昇圧回路をスイッチング式のレギュレータで構成し、前記乾燥手段におけるスイッチ素子へは、前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスをカウンタなどで分周して入力するようにする。
【0020】
したがって、充分な昇圧比を得るためには前記昇圧回路におけるスイッチ素子へのトリガパルスのデューティが大きくなり、そのトリガパルスをそのまま乾燥手段のスイッチ素子へ与えてしまうと、過熱してしまうのに対して、前記トリガパルスを分周して入力することで、乾燥手段のスイッチ素子へのトリガパルスのON期間は同じでも、周波数が低くなり、そのような過熱を抑え、トリガパルスの発振手段を共用化することができる。また、昇圧回路におけるスイッチング周波数が、乾燥手段におけるスイッチング周波数の整数倍となり、ノイズ対策も容易である。
【発明の効果】
【0021】
本発明のシェーバ洗浄装置およびシェーバシステムは、以上のように、シェーバの刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるにあたって、その加熱の効率を上げるために昇圧回路を用い、電磁誘導加熱と昇圧とにトリガパルスの発振手段を共用化しても、電磁誘導加熱なためには前記トリガパルスをインバータなどで反転して使用する。
【0022】
それゆえ、昇圧回路の効率を向上するためにトリガパルスのデューティを大きくすると電磁誘導加熱のためのトリガパルスのデューティは小さくなり、刃先の過熱を抑えつつ、トリガパルスの発振手段を共用化することができる。
【0023】
また、本発明のシェーバ洗浄装置およびシェーバシステムは、以上のように、シェーバの刃先を電磁誘導加熱によって乾燥させるにあたって、その加熱の効率を上げるために昇圧回路を用い、電磁誘導加熱と昇圧とにトリガパルスの発振手段を共用化しても、電磁誘導加熱なためには前記トリガパルスをカウンタなどで分周して使用する。
【0024】
それゆえ、分周比を任意に設定することで、トリガパルスのON期間は同じでも、電磁誘導加熱のためのトリガパルスの周波数は低くなり、刃先の過熱を抑えつつ、トリガパルスの発振手段を共用化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0025】
[実施の形態1]
図1は、本発明の実施の一形態に係るシェーバシステムにおける昇圧回路7および電磁誘導加熱回路18の電気回路図である。本実施の形態のシェーバシステムの構成は前述の図3と同様に構成され、本実施の形態では、電磁誘導加熱回路18が、前述の図4で示す電磁誘導加熱回路8と異なるだけであり、対応する構成には同一の参照符号を付して示す。昇圧回路7は、スイッチング式のレギュレータから成り、前記ACアダプタ3の端子3aから与えられるDC5Vを電源入力として、その端子3a間にチョークコイルL2およびスイッチング素子であるFETQ1の直列回路が接続され、発振回路OS1からゲート抵抗R1を介して前記FETQ1のゲートに与えられるトリガパルスがハイレベルとなると、該FETQ1がONして前記チョークコイルL2に励磁エネルギーが蓄積され、OFFされた際に、前記端子3aからの5Vに、チョークコイルL2で発生された電圧が加算されて出力され、その電圧はチョークコイルL2とFETQ1との接続点からダイオードD1を介して取出され、コンデンサC1に蓄積される。これによって、前記DC5Vの入力電圧に対して、電解コンデンサから成り、電磁誘導加熱回路18の電源となる前記コンデンサC1の端子間からは、DC24Vが出力される。
【0026】
乾燥手段である電磁誘導加熱回路18では、前記コンデンサC1を電源として、その端子間に前記コイルL1およびスイッチング素子であるFETQ2の直列回路が接続され、前記発振回路OS1からゲート抵抗R2を介して前記FETQ2のゲートに与えられるトリガパルスがハイレベルとなると、該FETQ2がONして前記刃先1aに電磁誘導によって渦電流を発生させ、該刃先1aに発熱させる。前記コイルL1には、並列に共振用のコンデンサC2が接続されている。
【0027】
注目すべきは、本実施の形態では、前記発振回路OS1から前記FETQ2のゲートに与えられるトリガパルスは、反転手段であるインバータINVによって極性が反転されていることである。インバータINVとゲート抵抗R2との順位は任意である。したがって、発振回路OS1から出力されるトリガパルスのデューティ、すなわち昇圧のためのデューティを、たとえば70%とすると、電磁誘導加熱のためのデューティは30%となる。前記ゲート抵抗R2の抵抗値を大きくする程、FETQ2のONタイミングが遅くなり、さらにデューティを小さくすることができる。
【0028】
このように構成することで、端子3aを付け替えることで、ACアダプタ3からシェーバ1と同様に、洗浄装置2へも同じ電圧で給電を行うことができるようにしたシェーバシステムにおいて、洗浄装置2内で、電磁誘導加熱回路18の前段に昇圧回路7を設けることで、電磁誘導加熱の効率を上げることができる。ここで、通常の鍋等を加熱するための電磁誘導加熱回路においては、電源電圧が商用電源となっているので、電磁誘導加熱用トランスの巻数を増やすことができ、さらに電流の立ち上がりも早く、周波数も高くし易いい。ところが、低圧で電池電圧程度の前記5V程度を電源とすると、巻数も大きくしにくく、電磁誘導加熱回路のスイッチング素子のオン時間も長くなり、周波数が下がってしまい、結果として加熱能力が上がらない。したがって、本発明のような低圧動作のシェーバ1と電源を共用する洗浄装置2に、前記昇圧回路7を設けることは好適である。
【0029】
また、こうして設けた昇圧回路7と、電磁誘導加熱回路18とに発振回路OS1を共用しても、インバータINVを設けることで、昇圧回路7におけるFETQ1へのトリガパルスのデューティが大きくなる程、電磁誘導加熱回路18におけるFETQ2へのトリガパルスのデューティは小さくなり、それぞれの変換電力を最適にして、薄い金属から成る刃先1aの過熱を抑えることができる。また、昇圧回路7におけるスイッチング周波数と、電磁誘導加熱回路18におけるスイッチング周波数とが同一となり、使用するノイズフィルタを少なくでき、ノイズ対策も容易である。
【0030】
なお、図1の構成では、FETQ1,Q2はn型を例にしているけれども、何れか一方にp型を用いることで、前記インバータINVを省略することが考えられる。しかしながら、p型を用いると、電源が入っていないときにON状態となり、使用しにくく、また耐圧の関係でも、n型が有利である。
【0031】
[実施の形態2]
図2は、本発明の実施の他の形態に係るシェーバシステムにおける昇圧回路17および電磁誘導加熱回路8の電気回路図である。本実施の形態のシェーバシステムの構成も前述の図3と同様に構成され、本実施の形態では、昇圧回路17が、前述の図4で示す昇圧回路7と異なるだけであり、対応する構成には同一の参照符号を付して示す。この昇圧回路17も、スイッチング式のレギュレータから成り、注目すべきは、本実施の形態では、発振回路OS2からのトリガパルスが、分周手段であるカウンタCNTで分周されて前記電磁誘導加熱回路8のFETQ2に与えられることである。カウンタCNTは、たとえば1/3分周器から成り、その場合、発振回路OS2からの昇圧のためのトリガパルスが、たとえば300kHzで70%デューティの場合、電磁誘導加熱回路のためのトリガパルスは、100kHzで23%デューティとなる。
【0032】
このように構成してもまた、薄い金属から成る刃先1aの過熱を抑えることができる。また、昇圧回路17におけるスイッチング周波数は、電磁誘導加熱回路8におけるスイッチング周波数の整数倍となり、ノイズ対策も容易である。
【図面の簡単な説明】
【0033】
【図1】本発明の実施の一形態に係るシェーバシステムにおける昇圧回路および電磁誘導加熱回路の電気回路図である。
【図2】本発明の実施の他の形態に係るシェーバシステムにおける昇圧回路および電磁誘導加熱回路の電気回路図である。
【図3】本発明の前提となるシェーバシステムの構成を示す図である。
【図4】前記シェーバシステムにおける典型的な従来技術の昇圧回路および電磁誘導加熱回路の電気回路図である。
【符号の説明】
【0034】
1 シェーバ
1a 刃先
2 洗浄装置
3 ACアダプタ
3a 端子
4 電源線
5 洗浄回路
6 洗浄槽
7,17 昇圧回路
8,18 電磁誘導加熱回路
9 電磁誘導加熱トランス
C1 コンデンサ
C2 共振用コンデンサ
CNT カウンタ
D1 ダイオード
INV インバータ
L1 コイル
L2 チョークコイル
OS1,OS2 発振回路
Q1,Q2 FET
R1,R2 ゲート抵抗
【出願人】 【識別番号】000005832
【氏名又は名称】松下電工株式会社
【出願日】 平成18年7月20日(2006.7.20)
【代理人】 【識別番号】100067828
【弁理士】
【氏名又は名称】小谷 悦司

【識別番号】100096150
【弁理士】
【氏名又は名称】伊藤 孝夫

【識別番号】100099955
【弁理士】
【氏名又は名称】樋口 次郎


【公開番号】 特開2008−23025(P2008−23025A)
【公開日】 平成20年2月7日(2008.2.7)
【出願番号】 特願2006−197976(P2006−197976)