【特許請求の範囲】
【請求項1】 微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置で、二酸化炭素ガスを水または温水に溶解させて、溶存二酸化炭素ガスの濃度を温泉法の炭酸泉の基準250ppm以上、好ましくは療養泉の基準1000ppm以上とするようにしたことを特徴とする人工炭酸泉の製造方法。 【請求項2】 請求項1記載の人工炭酸泉の製造方法において、二酸化炭素ガスに代えて、メタンガス等の炭化水素あるいは天然ガスや都市ガス等を燃料改質装置で分解して生成した水素および二酸化炭素ガスを用いることを特徴とする人工炭酸泉の製造方法。 【請求項3】 微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置で、二酸化炭素ガスを水または温水に溶解させて、溶存二酸化炭素ガスの濃度を温泉法の炭酸泉の基準250ppm以上、好ましくは療養泉の基準1000ppm以上にして得られた人工炭酸泉を、無隔膜電解装置で電解して、通常大気環境下で平衡となる25℃基準で、ORP=0.84−0.047pH未満よりORP=−0.059pH以上のORP範囲の還元性を有するようにしたことを特徴とする天然炭酸泉に類似した人工炭酸泉の製造方法。 【請求項4】 微細空気を水に巻き込み、ナノからマイクロオーダーの気泡径を発生させるナノまたはマイクロバブル発生装置で、爆発限界の4%以下の水素を含む二酸化炭素ガスを水または温水に溶解させて、通常大気環境下で平衡となる25℃基準で、ORP=0.84−0.047pH未満よりORP=−0.059pH以上のORP範囲の還元性を有すると共に、溶存二酸化炭素ガスの濃度を温泉法の炭酸泉の基準250ppm以上、好ましくは療養泉の基準1000ppm以上にするようにしたことを特徴とする天然炭酸泉に類似した人工炭酸泉の製造方法。 【請求項5】 請求項3または4記載の天然炭酸泉に類似した人工炭酸泉の製造方法において、二酸化炭素ガスに代えて、メタンガス等の炭化水素あるいは天然ガスや都市ガス等を燃料改質装置で分解して生成した水素および二酸化炭素ガスを用いることを特徴とする天然炭酸泉に類似した人工炭酸泉の製造方法。
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