| 【発明の名称】 |
毛髪化粧料 |
| 【発明者】 |
【氏名】松江 由香子
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| 【要約】 |
【課題】毛髪のパサつきを抑えしっとりさせ、毛髪にすべり性を与えることが可能な毛髪化粧料を提供する。
【構成】（Ａ）ダイマー酸硬化ヒマシ油を０．１〜１０．０質量％、（Ｂ）セバチン酸ジエチルを０．１〜５．０質量％、および（Ｃ）シリコーン類を含有する毛髪化粧料によって達成する。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ダイマー酸硬化ヒマシ油を０．１〜１０．０質量％、（Ｂ）セバチン酸ジエチルを０．１〜５．０質量％、および（Ｃ）シリコーン類を含有することを特徴とする毛髪化粧料。
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【発明の詳細な説明】【技術分野】
【０００１】
本発明は、毛髪のパサつきを抑えしっとりさせ、毛髪にすべり性を与えることが可能な毛髪化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、毛髪化粧料には毛髪に滑らかさを付与し、櫛通りをよくする目的で、第４級アンモニウム塩が配合されている。さらに光沢やまとまりの良さ等の使用後の仕上がりを向上させる目的で、高級アルコール、流動パラフィン、エステル、シリコーン油などの油分が用いられている。特にしっとり感を付与する目的では、ラノリンのように抱水性を有する油脂が用いられてきた（例えば、特許文献１参照。）。しかし、ラノリンは動物由来の原料であるため、その使用が制限されるようになってきており、これに代わる成分として、ダイマー酸のエステルを使用する技術が開発されてきた（例えば、特許文献２〜４参照。）。ところが、このダイマー酸のエステルだけで、しっとり感を得るためには高配合する必要があり、今度は、べたつきが起きるといった問題点が生じてきた。
【０００３】
【特許文献１】特許第２５５８７０６号公報
【特許文献２】特許第３７９８７６２号公報
【特許文献３】特開２００４−２７７２８５号公報
【特許文献４】特開２００５−２１３１６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
そこで、上記背景技術において、上記問題点を解消する技術が求められていた。即ち、本発明の目的とするところは、毛髪のパサつきを抑えしっとりさせ、毛髪にすべり性を与えることが可能な毛髪化粧料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は上記課題に鑑み、鋭意研究した結果、特定の油性成分とシリコーン類を含有する毛髪化粧料が上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。即ち、本発明は、（Ａ）ダイマー酸硬化ヒマシ油を０．１〜１０．０質量％、（Ｂ）セバチン酸ジエチルを０．１〜５．０質量％、および（Ｃ）シリコーン類を含有する毛髪化粧料である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、毛髪のパサつきを抑えしっとりさせ、毛髪にすべり性を与えることが可能な毛髪化粧料を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明の毛髪化粧料に用いる（Ａ）成分であるダイマー酸硬化ヒマシ油は、硬化ヒマシ油とダイマー酸とからなるオリゴマーである。市販品として、高級アルコール工業株式会社製の『リソカスターＤＡ−Ｈ』、『リソカスターＤＡ−Ｌ』などが挙げられる。
【０００８】
本発明の毛髪化粧料における上記（Ａ）ダイマー酸硬化ヒマシ油の配合量は、組成物全体に対して、０．１〜１０．０質量％（以下、単に％と記す。）であり、好ましくは０．５〜５．０％である。０．１％未満であると充分なしっとり感が得られず、１０．０％を超えるとべたつきが起きてすべり感が損なわれてしまう。
【０００９】
本発明の毛髪化粧料に用いる（Ｂ）成分であるセバチン酸ジエチルは、セバシン酸とエ
タノールのジエステルであり、下記一般式（１）で表される。
［化１］
ＣＯＯＣ2Ｈ5
｜
Ｃ8Ｈ16 ・・・（１）
｜
ＣＯＯＣ2Ｈ5
【００１０】
本発明の毛髪化粧料における上記（Ｂ）セバチン酸ジエチルの配合量は、組成物全体に対して、０．１〜５．０％であり、好ましくは０．５〜３．０％である。０．１％未満であると、べたつきが起きてすべり感が損なわれてしまい、５．０％を超えると、充分なしっとり感が得られない。
【００１１】
本発明の毛髪化粧料に用いる（Ｃ）成分であるシリコーン類は、例えば、ジメチルポリシロキサン、ジメチコノール、メチルフェニルポリシロキサン、アミノ変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、アルコキシ変性シリコーン、環状シリコーン等が挙げられる。
【００１２】
これらのシリコーン類は１種又は２種以上を混合して使用することができ、その配合量は、組成物全体に対して、０．１〜３０．０％が好ましく、さらに好ましくは、０．５〜１０．０％である。これらの範囲内であると、毛髪の皮膜形成に優れ、充分なすべり性が得られるからである。
【００１３】
本発明の毛髪用化粧料には、上述した成分の他にも、目的に応じて毛髪用化粧料に通常使用されている成分を本発明の達成する範囲内で、適宜配合することができる。これらの成分としては、例えば、アニオン活性剤、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、保湿剤、シリコーン誘導体、油分、植物抽出エキス、粘度調整剤、パール化剤、薬剤、防腐剤、キレート剤、酸化防止剤、ＰＨ調整剤、色素、香料等が挙げられる。
【００１４】
本発明の毛髪用化粧料は、特に対象、剤型にとらわれず、ヘアリンス、ヘアトリートメント、ヘアローション、ヘアリクイド、ヘアフォーム等に使用することができる。これらは常法により、本発明の毛髪化粧料を配合して製造することができる
【実施例】
【００１５】
本発明を、実施例に基づき詳細に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。実施例に先立ち、各実施例で採用した試験法、評価法を説明する。なお、配合組成の各配合量は、特に断りのない限り、質量％である。
【００１６】
・試験法、評価法
１０名のパネルが各実施例の試料（以下、単に「試料」という）で洗髪し、洗髪乾燥後の髪のしっとり感、すべり性の有無等の使用感について「良い」、「普通」、「悪い」の３段階で判定し、判定結果を「良い」と回答した人数により判断した。
【００１７】
判断基準は以下の通りである。
◎：大変優れている 「良い」と答えた試験対象者の数が８名以上
○：優れている 「良い」と答えた試験対象者の数が６名以上、８名未満
△：劣っている 「良い」と答えた試験対象者の数が４名以上、６名未満
×：大変劣っている 「良い」と答えた試験対象者の数が４名未満
【００１８】
実施例１〜６及び比較例１〜５（ヘアトリートメント）
表１に記載の配合組成によるヘアトリートメントを常法により調整し、洗髪乾燥後のしっとり感、すべり性について調べ、その結果を表１に示した。
【００１９】
【表１】
【００２０】
表１から明らかなように、本発明による毛髪化粧料は比較例の組成物に比べて、優れた性能を見出した。
【００２１】
実施例７ ヘアトリートメント
セテアリルアルコール １０．０
ベヘナミドプロピルジメチルアミン ３．５
パラフィン １．０
ダイマー酸硬化ヒマシ油 １．０
（商品名：リソカスターＤＡ−Ｌ〔高級アルコール工業社製〕）
セバチン酸ジエチル １．０
ヒドロキシエチルセルロース ５．０
グリコシルトレハロース ５．０
グリセリン ４．０
シリコンエマルジョン １０．０
（商品名：シリコンＢＹ２２−０７９〔東レ・ダウコーニング社製〕）
シリコンエマルジョン １．０
（商品名：シリコンＢＹ２２−０８５〔東レ・ダウコーニング社製〕）
ヒオウギエキス（商品名：ヒオウギ抽出液〔一丸ファルコス社製〕） ０．５
ツバキエキス（商品名：ツバキ種子抽出物〔丸善製薬社製〕） ０．００１コメヌカエキス（商品名：米ぬか抽出液〔香栄興業社製〕） ０．５
コメ胚芽油（商品名：オリザオイル〔一丸ファルコス社製〕） ０．５
クルミ種子油（商品名：クルミ種子油〔サミット製油社製〕） ０．５
カラメル ０．０５
メチルパラベン ０．１
香料 ０．５
精製水 バランス
【００２２】
常法により上記組成のヘアリンスを調整し、しっとり感、すべり性を評価したところ、いずれの特性も優れており良好な結果を得た。
【００２３】
実施例８ ヘアリンス
セタノール ２．５
ベヘニルアルコール ３．０
ベへントリモニウムクロライド ２．５
セトトリモニウムクロリド １．５
白色ワセリン １．０
ダイマー酸硬化ヒマシ油 ０．５
（商品名：リソカスターＤＡ−Ｌ〔高級アルコール工業社製〕）
セバチン酸ジエチル ０．５
グリセリン ４．０
シリコンエマルジョン ０．３
（商品名：シリコンＸＳ６５−Ｂ７１１６〔ＧＥ東芝シリコーン社製〕）
ヒドロキシエチルセルロース ０．３
セテス−６ ０．１
ＰＥＧ−８０水添ヒマシ油 ０．１
モモ葉エキス（商品名：モモの葉エキス〔香栄興業社製〕） ０．５
メチルパラベン ０．１
メチルクロロイソチアゾリンオン・メチルイソチアゾリンオン ０．０５
（１．５％水溶液） （商品名：ケーソンＣＧ〔ローム・アンド・ハース社製〕）
香料 ０．５
精製水 バランス
【００２４】
常法により上記組成のヘアリンスを調整し、しっとり感、すべり性を評価したところ、いずれの特性も優れており良好な結果を得た。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明により、毛髪のパサつきを抑えしっとりさせ、毛髪にすべり性を与えることが可能な毛髪化粧料を提供できる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】３０６０１８３６５
【氏名又は名称】クラシエホームプロダクツ株式会社
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| 【出願日】 |
平成１８年８月３１日（２００６．８．３１） |
| 【代理人】 |
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| 【公開番号】 |
特開２００８−５６６１９（Ｐ２００８−５６６１９Ａ） |
| 【公開日】 |
平成２０年３月１３日（２００８．３．１３） |
| 【出願番号】 |
特願２００６−２３６９４３（Ｐ２００６−２３６９４３） |
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