| 【発明の名称】 |
表面処理粉体の製造方法 |
| 【発明者】 |
【氏名】金丸 哲也
【氏名】大野 和久
【氏名】山下 尚義
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| 【要約】 |
【課題】シリコーン被覆粉体における水素発生を抑制し得る、あるいはアルコキシ基の反応（架橋）を十分に行う手段を確立すること。
【構成】Si-H基を１つ以上有するシリコーン化合物や、特定のアルコキシシランが被覆又は表面吸着されている粉体粒子を、炭化珪素粒子と接触させた状態にて、マイクロ波による加熱を行うことにより、所望するシリコーン処理粉体を得ることが可能であることを見出した。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（１）〜（４）から選ばれる有機珪素化合物で表面処理されている粉体粒子を、炭化珪素粒子と接触させた状態にて、マイクロ波による加熱を行うことを特徴とする、表面処理粉体の製造方法。
（１） Si-H基を１つ以上有するシリコーン化合物
（２） （１）のシリコーン化合物と、Si-H基を有していないシリコーン化合物との混合物
（３） 下記一般式（II）にて表されるアルコキシシラン：
ＲｎＳｉ（ＯＲ’）４−ｎ （II）
［式中、Ｒは、炭素原子数１〜１８の直鎖若しくは分岐のアルキル基、フェニル基、又は、水素原子を表し、Ｒ’は、炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は、炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のヒドロキシアルキル基を表し、ｎは、１〜３の数を表す］
（４） 下記一般式（III）に表される分岐型シリコーン：
Ｍｅ３ＳｉＯ‐(Ｒ１ＭｅＳｉＯ)a-(Ｒ２ＭｅＳｉＯ)b-(Ｒ３ＭｅＳｉＯ)c-
(Ｒ４ＭｅＳｉＯ)d-ＳｉＭｅ３ （III）
（式中、Ｒ １ 及びＲ ２ は炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｒ １ 及びＲ ２ の炭素数は同じであっても異なっても構わない。a、bは、整数であり、０≦a＋b≦１０００である。また、c、dは、整数であり、１≦c、d≦１０００である。Ｒ ３ は下記式（IV）；
−ＣＨ２ＣＨ２(Ｒ５ＭｅＳｉＯ)e-(Ｒ6ＭｅＳｉＯ)f-ＳｉＭｅ３ （IV）
を示す。式中、Ｒ５及びＲ６は炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｒ５及びＲ６の炭素数は同じであっても異なっても構わない。e、fは、整数であり、１≦e＋f≦１０００である。Ｒ４は−Ｈ、もしくは下記式（Ｖ）；−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＲ７）３・・・・・（Ｖ）を示す。式中、Ｒ７は炭素数１〜５のアルキル基を示す。）に表される分岐型シリコーン
【請求項２】
前記製造方法において、炭化珪素粒子が球状粒子であり、かつ、その平均粒子径が１００μm〜１cmであることを特徴とする、請求項１記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項３】
前記製造方法において、有機珪素化合物で表面処理されている粉体の核粒子の平均粒子径が１nm〜150μmであることを特徴とする、請求項１又は２記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項４】
前記製造方法において、有機珪素化合物で表面処理されている粉体粒子と炭化珪素粒子が、両粒子の混合物として接触しており、かつ、当該混合物における表面処理粉体粒子と炭化珪素粒子の混合比が、１：１０〜２：１（質量比）の範囲であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項５】
前記製造方法において、（１）及び（２）における、Si-H基を有する有機珪素化合物（１）が、下記一般式（Ｉ）：
（Ｒ１ＨＳｉＯ）ａ（Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ）ｂ（Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２）ｃ （Ｉ）
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は互いに独立に水素原子であるか、又は、少なくとも１個のハロゲン原子で置換可能な炭素原子数１〜１０の炭化水素基であり（但し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が同時に水素原子であることはない）；Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は互いに独立に水素原子であるか、又は、少なくとも１個のハロゲン原子で置換可能な炭素原子数１〜１０の炭化水素基であり；ａは、１以上の整数であり、ｂは、０又は１以上の整数であり、ｃは、０又は２であり（但し、２≦ａ＋ｂ＋ｃ≦１００００である）；そしてこの化合物（Ｉ）はＳｉ−Ｈ基部分を少なくとも１個含むものとする］
にて表されるシリコーン化合物であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項６】
前記製造方法において、有機珪素化合物（Ｉ）が、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン・ジメチルポリシロキサン共重合体、又は、テトラメチルシクロテトラシロキサンであることを特徴とする、請求項５記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項７】
前記製造方法において、アルコキシシラン（II）が、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、又は、オクタデシルトリエトキシシランであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項８】
前記製造方法において、分岐型シリコーン（III）が、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルジメチコン、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコンであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項９】
前記製造方法において、有機珪素化合物（１）〜（４）で表面処理する対象となる粉体粒子が、有機系粉体及び無機系粉体から選ばれる粉体粒子、あるいは、当該有機系粉体及び無機系粉体の複合化粉体粒子であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の表面処理粉体の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれかに記載の表面処理粉体の製造方法にて製造された処理粉体を含有することを特徴とする、外用組成物。
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【発明の詳細な説明】【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧料等の外用組成物に配合するのに好適な表面処理粉体の製造方法に関する発明である。本発明の製造方法にて製造された表面処理粉体は、安全面、品質保持面等、さらには製造効率（省エネルギー）の観点でも非常に有用である。
【背景技術】
【０００２】
従来から粉体の疎水化に関しては多くの方法が知られており、シリコーンオイルの疎水特性を利用して、例えば、疎水性基を持つシランカップリング剤を用いて処理することが知られている（特開平１−９０１１１号公報：特許文献１、特許３０１４２１９号公報：特許文献２、特開平１１−１４８０２８号公報：特許文献３、特開平８−９２０５２号公報：特許文献４等）。
【０００３】
上記疎水化処理に用いられるシリコーン化合物とは、分子中にオルガノハイドロジェンポリシロキサンを有し、場合によりジオルガノポリシロキサンも分子中に併せ有するもの、アルコキシシリル基を有するもの、オルガノハイドロジェンポリシロキサンとジオルガノポリシロキサンの混合物等である。これらが粉体粒子表面に被覆されると粉体粒子の表面活性の影響を受けて、オルガノハイドロジェンポリシロキサン分子のＳｉ−Ｈ基結合部分あるいはＳｉ−ＯＲ基結合部分が空気中の水分等と反応し、さらに生成したＳｉ−ＯＨ基が隣り合う他の分子のＳｉ−Ｈ基またはＳｉ−ＯＲ基と、あるいはＳｉ−ＯＨ基同士が反応し、架橋・重合が進行してシリコーン膜が形成されると考えられる。一方、シランカップリング剤についてもほぼ同様で、Ｓｉ−ＯＲ基部分が加水分解してＳｉ−ＯＨ基が生成し、さらにそれらが隣り合う他の分子とシロキサン結合を形成し、又は、粉体粒子表面のＯＨ基と直接結合を形成することで、シリコーン被覆粉体が得られることが知られている。
【０００４】
しかしながら、通常行われている方法、すなわちオルガノハイドロジェンポリシロキサンを粉体表面に被覆後、空気中における１５０〜２００℃程度の加熱処理では、分子同士の架橋反応はある程度進行するものの残存Ｓｉ−Ｈ基は完全にはなくならないことが知られている。一方、５００℃以上の加熱ではシリコーンが燃焼し始め、シリカに変換されることが知られている（特開平１１−１９９４５８号公報：特許文献５）。
【０００５】
シリコーン被覆粉体は、その性質上、化粧料等の外用組成物に配合されることが多いが、当該粉体において残存するＳｉ−Ｈ基やＳｉ−ＯＲ基（Ｒは炭素数１〜４のアルキル基等）は、中・長期間のうちに空気中の水分やメーキャップ製品中の水分、アルコール、アミン等と反応し水素またはアルコールを発生を起こすことが知られている。この現象により、例えば、化粧品等の外用組成物の製造工程中での水素発生による危険性や、製品容器に充填後の経時での容器の膨張や製品の硬化・ひび割れが起こり、問題が生じる可能性が認識されている。また、この水素やアルコール発生に際して新たなシロキサン結合が形成される場合もあり、その結果、特にファンデーションのような粉末固形製品等では、いわゆるケーキングに似た現象が起き、使用し難いといったことも認識されている。
【特許文献１】特開平１−９０１１１号公報
【特許文献２】特許第３０１４２１９号公報
【特許文献３】特開平１１−１４８０２８号公報
【特許文献４】特開平８−９２０５２号公報
【特許文献５】特開平１１−１９９４５８号公報
【特許文献６】特開昭６３−１１３０８１号
【特許文献７】特開平８−１９２１０１号公報
【特許文献８】特公昭５６−４３２６４号公報
【特許文献９】特開平２００１−２６２００４号公報
【特許文献１０】特公昭５５−３３６１７号公報
【特許文献１１】特開平６−１０５６６８号公報
【特許文献１２】特公昭５７−４２９５１号公報
【特許文献１３】特公昭５５−３０８６５号公報
【特許文献１４】特開平１０−５０４７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の解決すべき課題は、上述のようなシリコーン被覆粉体における水素発生を抑制し得る、あるいはアルコキシ基の反応（架橋）を十分に行う手段を確立することにある。本発明者は、この手段として、マイクロ波加熱に着目した。
【０００７】
すなわち、物質を温める場合、一般には温めたい物質をなんらかの容器に入れた後、容器の周囲からなんらかの熱源（ガス（火）、ヒーター、オイルあるいは水蒸気等）を供給して容器の外壁を温め、それにより徐々に温めたい物質に熱が伝わっていくことで加熱されていく形式が一般的である。これらの方法は、取り扱い上簡便であるが、外から徐々に加熱されていくために規模が大きくなるほど所定の温度まで加熱するのに時間を要し、エネルギー的に無駄があることと、長時間を要することで被加熱物質の劣化を伴う場合もある。
【０００８】
一方、マイクロ波加熱は、急速な加熱が可能な方法として一般化しており、いわゆる電子レンジに代表される家電製品として既に実用化されている。工業分野においては、食品加工技術として応用した例（特許文献１０、１１）あるいはその装置（特許文献１２、１３、１４）等、非常に多くの先行文献が認められる。
【０００９】
しかしながら、化粧料等の外用組成物に配合されるシリコーン被覆粉体は、一般的に誘電率が低く、マイクロ波加熱を行っても容易には加熱され難いという特徴を有しており、その実現は非常に困難であると思われた。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、このような状況にもかかわらず、さらに上記課題の解決に向けて鋭意検討を行った結果、マイクロ波加熱に対する加熱媒体として、炭化珪素粒子を用いることにより、効果的にシリコーン被覆粉体の加熱を行うことが可能であり、かつ、本発明の主要な課題である水素発生の低減効果やアルコキシ基の低減（臭い抑制）効果も著しいことを見いだし、本発明を完成した。
【００１１】
すなわち、本発明は、下記（１）〜（４）から選ばれる有機珪素化合物で表面処理されている粉体粒子を、炭化珪素粒子と接触させた状態にて、マイクロ波による加熱を行うことを特徴とする、表面処理粉体の製造方法（以下、本製造方法ともいう）を提供する発明である。
【００１２】
（１） Si-H基を１つ以上有するシリコーン化合物
【００１３】
（２） （１）のシリコーン化合物と、Si-H基を有していないシリコーン化合物との混合物
【００１４】
（３） 下記一般式（II）にて表されるアルコキシシラン：
【００１５】
ＲｎＳｉ（ＯＲ’）４−ｎ （II）
［式中、Ｒは、炭素原子数１〜１８の直鎖若しくは分岐のアルキル基、フェニル基、又は、水素原子を表し、Ｒ’は、炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は、炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のヒドロキシアルキル基を表し、ｎは、１〜３の数を表す］
（４） 下記一般式（III）に表される分岐型シリコーン：
【００１６】
Ｍｅ３ＳｉＯ‐(Ｒ１ＭｅＳｉＯ)a-(Ｒ２ＭｅＳｉＯ)b-(Ｒ３ＭｅＳｉＯ)c-
(Ｒ４ＭｅＳｉＯ)d-ＳｉＭｅ３ （III）
（式中、Ｒ １ 及びＲ ２ は炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｒ １ 及びＲ ２ の炭素数は同じであっても異なっても構わない。a、bは、整数であり、０≦a＋b≦１０００である。また、c、dは、整数であり、１≦c、d≦１０００である。Ｒ ３ は下記式（IV）；
−ＣＨ２ＣＨ２(Ｒ５ＭｅＳｉＯ)e-(Ｒ6ＭｅＳｉＯ)f-ＳｉＭｅ３ （IV）
を示す。式中、Ｒ５及びＲ６は炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｒ５及びＲ６の炭素数は同じであっても異なっても構わない。e、fは、整数であり、１≦e＋f≦１０００である。Ｒ４は−Ｈ、もしくは下記式（Ｖ）；−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＲ７）３・・・・・（Ｖ）を示す。式中、Ｒ７は炭素数１〜５のアルキル基を示す。）に表される分岐型シリコーン
【発明の効果】
【００１７】
本製造方法により製造される処理粉体は、表面処理を行う有機珪素化合物として、上記（１）〜（２）を用いた場合は、粉体に残存するSi-H基が効率的に消去され、（３）〜（４）を用いた場合には、同アルコキシ基が効率的に消去される。その結果、製品中における安定性に優れた疎水化処理粉体として用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
核粒子
本発明では、有機珪素化合物（１）〜（４）にて表面処理する対象となる粉体粒子を「核粒子」という。
【００１９】
本発明で用いる核粒子の粒子径は、特に制限されるものではないが、一般に平均粒子径１５０μｍ以下（１５０μｍより大きいものも含まれることがある）の任意に選択される種類の粉体粒子である。また、平均粒子径が０．０２μｍ以下の超微粉体粒子を選択することも可能である（例えば、二酸化チタン粒子であれば、平均粒子径が０．００１〜１μｍ程度であることが好適である）。
【００２０】
上記核粒子の素材も特に制限されず、例えば、無機系粉体であれば、タルク、セリサイト、マイカ、無水ケイ酸、窒化ホウ素、合成マイカ、二酸化チタン、低次酸化チタン、ベンガラ、黄酸化鉄、黒酸化鉄、赤酸化鉄、雲母チタン、雲母、黒酸化チタン、コンジョウ、グンジョウ、酸化クロム、水酸化クロム、酸化亜鉛、アルミニウム、アルミナ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、酸化コバルト、酸化ニッケル、チタン酸鉄、チタン酸コバルト、リチウムコバルトチタネート、アルミン酸コバルト、オキシ酸ビスマス、等が挙げられる。有機系粉体であれば、例えば、セルロース末、デンプン、シルク末、ナイロン末、ポリアクリル酸、アルキル末、ポリエチレン末、金属石鹸、ポリスチレン末、シリコーン末、弾性ゴム粉末、シリカアルミナ、魚鱗末、色素（タール系色素、レーキ：染料・顔料）が挙げられる。
【００２１】
また、核粒子の形状は、特に限定されず、板状、球状、不定形、花びら状、中空構造等、様々な形状の核粒子を選択することが可能である。さらに、当該核粒子は、それ自体１種類の素材で構成されていてもよいが、２種類以上の素材が複合化していてもよい。なお、核粒子の「複合化」とは、２種類以上の素材が組み合わさって核粒子を構成している状態を意味するものであり、例えば、被覆、表面吸着、担持、焼結、積層等の態様での複合化が例示される。
【００２２】
有機珪素化合物
上述した有機珪素化合物（１）〜（４）について説明する。
【００２３】
（１） 有機珪素化合物（１）、すなわち、Si-H基を１つ以上有するシリコーン化合物は、この条件を満たす限り、特に限定されるものではない。具体的には、例えば、下記式（Ｉ）で表されるシリコーン化合物を挙げることができる。
【００２４】
（Ｒ１ＨＳｉＯ）ａ（Ｒ２Ｒ３ＳｉＯ）ｂ（Ｒ４Ｒ５Ｒ６ＳｉＯ１／２）ｃ （Ｉ）
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は互いに独立に水素原子であるか、又は、少なくとも１個のハロゲン原子で置換可能な炭素原子数１〜１０の炭化水素基であり（但し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３が同時に水素原子であることはない）；Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は互いに独立に水素原子であるか、又は、少なくとも１個のハロゲン原子で置換可能な炭素原子数１〜１０の炭化水素基であり；ａは、１以上の整数であり、ｂは、０又は１以上の整数であり、ｃは、０又は２であり（但し、２≦ａ＋ｂ＋ｃ≦１００００である）；そしてこの化合物（Ｉ）はＳｉ−Ｈ基部分を少なくとも１個含むものとする］
【００２５】
上記の定義のうち、「少なくとも１個のハロゲン原子（塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子）で置換可能な炭素原子数１〜１０の炭化水素基」としては、例えば、同炭素原子数の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、フェニル基、アラルキル基が挙げられる。
【００２６】
シリコーン化合物（Ｉ）のさらなる具体例としては、例えば、メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン・ジメチルポリシロキサン共重合体、又は、テトラメチルシクロテトラシロキサン等を挙げることができる。
【００２７】
（２） 有機珪素化合物（２）、すなわち、上記有機珪素化合物（１）と、Si-H基を有していないシリコーン化合物との混合物のうち、「Si-H基を有していないシリコーン化合物」としては、例えば、ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、アクリル酸アルキル・ジメチルポリシロキサンコポリマー等を挙げることができる。
【００２８】
（３） 有機珪素化合物（３）は、上述したように、下記一般式（II）にて表されるアルコキシシランである。
【００２９】
ＲｎＳｉ（ＯＲ’）４−ｎ （II）
［式中、Ｒは、炭素原子数１〜１８の直鎖若しくは分岐のアルキル基、フェニル基、又は、水素原子を表し、Ｒ’は、炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のアルキル基、又は、炭素原子数１〜４の直鎖若しくは分岐のヒドロキシアルキル基を表し、ｎは、１〜３の数を表す］
【００３０】
Ｒは、直鎖のアルキル基であることが好適であり、特に、炭素原子数が６以上であることが好適である。また、Ｒ’は、メチル基又はエチル基が好適である。ｎは、１であることが好適である。
【００３１】
アルコキシシラン（II）のさらなる具体例としては、例えば、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシランを挙げることができる。
【００３２】
（４） 有機珪素化合物（４）は、上述したように、下記一般式（III）に表される分岐型シリコーンである。
【００３３】
Ｍｅ３ＳｉＯ‐(Ｒ１ＭｅＳｉＯ)a-(Ｒ２ＭｅＳｉＯ)b-(Ｒ３ＭｅＳｉＯ)c-
(Ｒ４ＭｅＳｉＯ)d-ＳｉＭｅ３ （III）
（式中、Ｒ １ 及びＲ ２ は炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｒ １ 及びＲ ２ の炭素数は同じであっても異なっても構わない。a、bは、整数であり、０≦a＋b≦１０００である。また、c、dは、整数であり、１≦c、d≦１０００である。Ｒ ３ は下記式（IV）；
−ＣＨ２ＣＨ２(Ｒ５ＭｅＳｉＯ)e-(Ｒ6ＭｅＳｉＯ)f-ＳｉＭｅ３ （IV）
を示す。式中、Ｒ５及びＲ６は炭素数１〜８のアルキル基を示す。Ｒ５及びＲ６の炭素数は同じであっても異なっても構わない。e、fは、整数であり、１≦e＋f≦１０００である。Ｒ４は−Ｈ、もしくは下記式（Ｖ）；−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓｉ−（ＯＲ７）３・・・・・（Ｖ）を示す。式中、Ｒ７は炭素数１〜５のアルキル基を示す。）
【００３４】
分岐型シリコーン（III）のさらなる具体例としては、例えば、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルジメチコン、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコンを挙げることが出来る。
【００３５】
有機珪素化合物による表面処理
核粒子に対する上記有機珪素化合物（１）〜（４）による表面処理は、常法に従って行うことができる。すなわち、有機珪素化合物（１）〜（４）を、それ自体の蒸気の形態、適当な溶媒に溶かした溶液の形態、またはそれ自体の液体の形態で、核粒子と接触させることにより、シリコーンの表面処理粉体を製造することができる。
【００３６】
有機珪素化合物（１）〜（４）を、蒸気の形態で核粒子と接触させる場合、特別な装置は必要なく、例えば、環状オルガノシロキサンと核粒子を、密閉された空間にて別々の容器に入れて上部を開放しておくか、あるいは、気化した有機珪素化合物（１）〜（４）をキャリアガスと混合して、核粒子を装入してある部屋に導入すること等で行うことができる。
【００３７】
有機珪素化合物（１）〜（４）を、それ自体の液体の形態で直接核粒子と接触させる場合、適切な混合機、例えば、回転ボールミル、振動式ボールミル、遊星型ボールミル、サンドミル、アトライター、バグミル、ポニミキサー、プラネタリーミキサー、らいかい機、ヘンシェルミキサー等にて、当該有機珪素化合物と核粒子の接触を行い、核粒子を有機珪素化合物にて表面処理することができる。
【００３８】
有機珪素化合物（１）〜（４）を、溶液として核粒子と接触させる場合、例えば、アルコール類、水、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン等の溶媒中に、当該有機珪素化合物を０．３〜５０重量％を含有する溶液を調製し、その中に核粒子を分散後加熱して、溶媒を蒸発させると共に有機珪素化合物を、核粒子の表面上で重合させることにより処理可能であり、かかる工程は、ヘンシェルミキサー、レーディゲミキサー、ニーダー、媒体攪拌ミル（ビーズミル等）等を用いて行うことができる。
【００３９】
なお、粉体（核粒子からなる）に対する有機珪素化合物（１）〜（４）の質量は、特に限定されるものではないが、概ね、粉体質量に対して当該有機珪素化合物が０．５〜２０質量％程度であり、好適には、同１〜１５質量％程度である。
【００４０】
炭化珪素粒子
特に粒状の炭化珪素（ＳｉＣ）は、マイクロ波を吸収して発熱する高温発熱体として知られている（特許文献１４）。しかしながら、本製造方法、すなわち、有機珪素化合物（１）〜（４）にて表面処理した粉体と、粒状の炭化珪素を接触させた状態で、マイクロ波加熱を行うことにより得られる被加熱粉体が、水素発生が著しく抑制されるという特長を有していることについては、特許文献１４には、記載も示唆もなされていない。
【００４１】
炭化珪素粒子の大きさは、特に限定されないが、好ましくは平均粒子径で１００μm〜１０ｃｍ程度、さらに好ましくは３００μm〜１ｃｍ程度である。当該平均粒子径が１０ｃｍより大きい場合は、被加熱物質であるシリコーン表面処理粉体粒子と、均一に混合された状態とすることや、加熱後に、篩分け等によりシリコーン表面処理粉体粒子を分離することが困難となり、一方、１００μｍより小さい場合は、加熱後に、炭化珪素粒子とシリコーン表面処理粒子とを分離することが難しくなる。また、炭化珪素粒子の形状は特に限定されないが、球状が好適である。
【００４２】
本製造方法
本製造方法は、上述のように、シリコーン［有機珪素化合物（１）〜（３）］で表面処理されている粉体粒子を、炭化珪素粒子と接触させた状態にて、マイクロ波による加熱を行うことにより行われる。
【００４３】
シリコーン表面処理粒子と炭化珪素粒子は、よく混合して両者が可能な限り接触した状態とすることが好適である。当該混合物におけるシリコーン表面処理粉体粒子と炭化珪素粒子の混合比は、十分に両粒子が接触する混合比であれば特に限定されない。具体的には、１：１０〜２：１（質量比）の範囲であることが一般的に好適である。セラミックス等の電子レンジにかけることが可能な素材の容器に、当該混合物を入れて、これに対してマイクロ波を照射して加熱するのみで、本製造方法を行うことができる。
【００４４】
マイクロ波の照射方法は、家庭用又は業務用に市販されている電子レンジ、あるいは、マイクロ波反応装置（例えば、四国計測工業（株）製）等にて行うことが可能である。外部に電磁波が漏洩しないことは勿論のこと、マイクロ波の出力や被加熱物質の温度を測定できることが好適である。照射強度は、１００W程度〜８００W程度まで自由に選択可能であるが、加熱効率と最終的なシリコーン表面処理粉体の品質を考慮すると、３００W〜 ６００W程度が好適である。照射時間は、照射強度に依存し、照射強度が強くなり設定温度が低くなれば短時間であり、照射強度が弱くなれば長時間となる。設定温度としては、有機珪素化合物（１）（２）での表面処理粉体には、２５０〜５００℃程度、好適には、２８０〜４５０℃程度であり、有機珪素化合物（３）（４）での表面処理粉体には、８０〜１８０℃程度、好適には、１００〜１５０℃程度である。これらの設定温度に達するまでの時間を含んだ加熱時間は、概ね、１５〜１２０分程度が、好適には２０〜６０分好適である。
【００４５】
このようなマイクロ波加熱過程を行った、シリコーン表面処理粉体粒子と炭化珪素粒子の混合物を、公知の分離方法、例えば、両者の平均粒子径の差異に着目した篩分け等により、両者を分離し、所望する加熱処理済みのシリコーン表面処理粉体粒子を得ることができる。このようにして得られた加熱処理済みのシリコーン表面処理粉体粒子は、驚くべきことに、他の方法で加熱処理をしたものと比べても水素の発生率が著しく抑制されており、例えば、化粧料等の外用組成物に配合する場合、安全性と品質安定性の両面において非常に優れたものとなる。
【００４６】
処理粉体の使用態様
上述したように、本製造方法により得られる処理粉体には、従来の有機珪素化合物による表面処理粉体には認められない、安全上及び品質管理上の利点を有しており、これを、例えば、化粧品等の外用組成物、医薬品、洗剤、顔料、塗料等として用いることが可能である。これらの応用分野の中でも、特に、化粧品等の外用組成物の配合成分として本処理粉体を用いることにより、本処理粉体の優れた特性を十分に活用することが可能である。
【００４７】
すなわち、本発明は、本製造方法にて製造される処理粉体を含有する外用組成物（以下、本外用組成物ともいう）を提供する発明でもある。
【００４８】
本外用組成物が採り得る形態は特に限定されず、例えば、粉末化粧品（固形化粧品を含む）、油性化粧品、乳化化粧品、分散化粧品等に用いることができる。
【００４９】
本外用組成物は、所望する形態に応じた既に公知の方法にて製造することができる。粉末化粧品、例えば、固形ファンデーション、プレストパウダー、粉おしろい、ボディパウダー等の場合には、概ね、本製造方法にて製造された処理粉体を含めた粉体成分を組成物の８０質量％以上、油分を２０質量％以下程度の配合比で、常法にて製造することができる。また、乳化化粧品、例えば、乳化ファンデーション、紫外線防御スティック（乳化タイプ）、乳化口紅、乳化サンスクリーン（油中水型であっても水中油型であってもよい）の場合には、概ね、粉体成分を組成物の５〜５５質量％、油分を１０〜７０質量％、水分又は溶剤を５〜８０質量％程度の配合比で、常法にて製造することができる。油性化粧品、例えば、油性口紅、紫外線防御スティック（油性タイプ）、油性サンスクリーン等の場合には、概ね、粉体成分を組成物の６０質量％以下、油分を４０質量％以上程度の配合比で、常法にて製造することができる。また、分散化粧品、例えば、水おしろいや、被膜剤を用いたマスカラ、アイライナー、ネイルカラー等の場合には、概ね、粉体成分を組成物の１０〜３０質量％、油分を０〜１０質量％、水又は溶媒を７０〜９０質量％程度の配合比で、常法にて製造することができる。
【実施例】
【００５０】
以下に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明の範囲はこれら実施例によってなんら限定されるものでない。
【００５１】
１．試験方法
（１）水素ガス発生量
水素ガス発生量の測定は、ガスビュレット法により行った。すなわち、三つ口フラスコに試験対象の処理粉体２ｇとアルコール約４０ｍLを入れ、閉鎖系にて１０％ＮａＯＨ水
溶液を約１ｍＬ滴下することで水素ガスを発生させ、１ｇ当たりの水素発生量（ｍＬ）を算出した。水素ガス発生量が少ないことは、試験対象の粉体における残存Ｓｉ−Ｈ基が少ないことを意味しており、当該発生量は少ない方が好ましい。
【００５２】
（２）撥水性（水に対する接触角）
ＩＲ用錠剤成型機（直径１３mm）を用いて試験対象の処理粉体のペレットを作成し、協和界面科学製自動接触角計（ＣＡ−Ｚ型）を用いて、水に対する接触角を測定した（３回測定の平均値）。上述したように、水に対する接触角は、試験対象の粉体における撥水性の指標であり、当該接触角が大きい方が、撥水性が高く、通常は好適である。
【００５３】
（３）臭い判定
処理粉体を官能試験により臭いを判定した。すなわち、６名のパネラーによる、試験対象となる処理粉体の臭いの判定を、下記の基準にて行った。
【００５４】
判定基準
○： ６名中、５名以上のパネラーが、臭いは全くしない、またはほとんどない、と評価した。
×：上記○判定に評価が及ばなかった。
【００５５】
２．処理粉体の製造
［実施例１］ 有機珪素化合物（１）を表面処理して得られる粉体の処理例
平均粒子径が０．１μｍ以上の粉体粒子から、有機珪素化合物（１）を用いて本処理粉体を製造すべく、下記の工程を行った。
【００５６】
実施例１−１
マイカ（平均粒子径：４μｍ）９７質量部と、メチルハイドロジェンポリシロキサン３質量部をヘキサン１０ｍＬに溶かした溶液をヘンシェルミキサーに入れ、室温で３分攪拌・混合した後、さらに減圧しながら攪拌することで溶媒であるヘキサンを蒸発させて得られたシリコーン表面処理マイカ５０g中に、炭化珪素粒子（平均粒子径１mm）５０gを混合・分散した後、フッ素樹脂製カップ中に入れた状態として、四国計測工業（株）製マイクロ波照射装置内にセットし、６００Ｗの高周波出力で４００℃に設定で、当該設定温度に到達後（以下、実施例と比較例におけるシリコーン表面処理粉末の加熱時間は、特に断らない限り、設定温度に達してからの時間とする）、３０分加熱したところ、得られた処理粉体から発生する水素量が０．２ｍＬ／ｇと低く、かつ十分な撥水性を示し、上記の臭い判定において○の評価を得た。
【００５７】
実施例１−２
実施例１−１のマイカを二酸化チタン粉末（平均粒子径：０．５μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００５８】
実施例１−３
実施例１−１のマイカをシリカ粉末（平均粒子径：５μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００５９】
実施例１−４
実施例１−１のマイカをタルク（平均粒子径：１５μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６０】
実施例１−５
実施例１−１のマイカを亜鉛華（平均粒子径：０．５μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６１】
実施例１−６
実施例１−１のマイカを雲母チタン粉末（平均粒子径：２０μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６２】
実施例１−７
実施例１−１のマイカをベンガラ（平均粒子径：０．４μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６３】
実施例１−８
実施例１−１のマイカを硫酸バリウム粉末（平均粒子径：１０μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６４】
実施例１−９
実施例１−１のマイカを酸化チタン／酸化鉄複合体粉末（平均粒子径：８μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６５】
実施例１−１０
実施例１−１のマイカをベンガラ被覆雲母チタン粉末（平均粒子径：３０μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６６】
実施例１−１１
実施例１−１のマイカを架橋ポリシロキサンエラストマー粉末（平均粒子径：５μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６７】
実施例１−１２
実施例１−１のマイカをシリコーンレジン被覆／架橋ポリシロキサンエラストマー粉末（平均粒子径：５μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６８】
実施例１−１３
実施例１−１のマイカをポリメチルシルセスキオキサン粉末（平均粒子径：５μm
）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００６９】
実施例１−１４
実施例１−１のマイカを窒化ホウ素粉末（平均粒子径：２０μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【００７０】
実施例１−１５
実施例１−１のマイカを酸化セリウム粉末（平均粒子径：０．６μm）に代えて同
様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００７１】
実施例１−１６
実施例１−１のマイカを酸化クロム粉末（平均粒子径：０．５μm）に代えて同様
の処理を行い、処理粉体を得た。
【００７２】
実施例１−１７
実施例１−１のマイカをアルミナ粉末（平均粒子径：０．３μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【００７３】
実施例１−１８
実施例１−１のマイカをオキシ塩化ビスマス粉末（平均粒子径：３μm）に代えて
同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００７４】
実施例１−１９
実施例１−１のマイカをセリサイト（平均粒子径：４μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００７５】
比較例１−１〜１９
実施例１において、マイクロ波加熱する代わりに、電気炉にて３５０〜４００℃で３０分加熱した以外は、実施例１と同様の操作を行い、処理粉体を得た。
【００７６】
［実施例２］ 有機珪素化合物（３）にて表面処理して得られる粉体の処理例
平均粒子径が０．１μm以上の粉体粒子から、有機珪素化合物（３）を用いて処理粉体を製造すべく、下記の工程を行った。
【００７７】
実施例２−１
セリサイト（平均粒子径：４μｍ）９７質量部と、オクチルトリエトキシシラン３質量部をヘキサン１０ｍＬに溶かした溶液をヘンシェルミキサーに入れ、室温で３分攪拌・混合した後、さらに減圧しながら攪拌することで溶媒であるヘキサンを蒸発させて得られたシリコーン表面処理セリサイト５０g中に、炭化珪素粒子（平均粒子径１mm）５０gを混合・分散した後、フッ素樹脂製カップ中に入れた状態として、四国計測工業（株）製マイクロ波照射装置内にセットし、３００Ｗの出力で１５０℃に設定で３０分加熱したところ、十分な撥水性を示し、上記の臭い判定において○の評価を得た。
【００７８】
実施例２−２
実施例２−１のセリサイトを二酸化チタン粉末（平均粒子径：０．５μm）に代えて同
様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００７９】
実施例２−３
実施例２−１のセリサイトをシリカ粉末（平均粒子径：５μm）に代えて同様の処理を
行い、処理粉体を得た。
【００８０】
実施例２−４
実施例２−１のセリサイトをタルク（平均粒子径：１５μm）に代えて同様の処理を行
い、処理粉体を得た。
【００８１】
実施例２−５
実施例２−１のセリサイトを亜鉛華（平均粒子径：０．５μm）に代えて同様の処理を
行い、処理粉体を得た。
【００８２】
実施例２−６
実施例２−１のセリサイトを雲母チタン粉末（平均粒子径：２０μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【００８３】
実施例２−７
実施例２−１のセリサイトをベンガラ（平均粒子径：０．４μm）に代えて同様の処理
を行い、処理粉体を得た。
【００８４】
実施例２−８
実施例２−１のセリサイトを硫酸バリウム粉末（平均粒子径：１０μm）に代えて同様
の処理を行い、処理粉体を得た。
【００８５】
実施例２−９
実施例２−１のセリサイトを酸化チタン／酸化鉄複合体粉末（平均粒子径：８μm）に
代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００８６】
実施例２−１０
実施例２−１のセリサイトをベンガラ被覆雲母チタン粉末（平均粒子径：３０μm）に
代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００８７】
実施例２−１１
実施例２−１のセリサイトを架橋ポリシロキサンエラストマー粉末（平均粒子径：５μm）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００８８】
実施例２−１２
実施例２−１のセリサイトをシリコーンレジン被覆／架橋ポリシロキサンエラストマー粉末（平均粒子径：５μm）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００８９】
実施例２−１３
実施例２−１のセリサイトをポリメチルシルセスキオキサン粉末（平均粒子径：５μm
）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００９０】
実施例２−１４
実施例２−１のセリサイトを窒化ホウ素粉末（平均粒子径：２０μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【００９１】
実施例２−１５
実施例２−１のセリサイトを酸化セリウム粉末（平均粒子径：０．６μm）に代えて同
様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００９２】
実施例２−１６
実施例２−１のセリサイトを酸化クロム粉末（平均粒子径：０．５μm）に代えて同様
の処理を行い、処理粉体を得た。
【００９３】
実施例２−１７
実施例２−１のセリサイトをアルミナ粉末（平均粒子径：０．３μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【００９４】
実施例２−１８
実施例２−１のセリサイトをオキシ塩化ビスマス粉末（平均粒子径：３μm）に代えて
同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００９５】
実施例２−１９
実施例１−１のマイカをセリサイト（平均粒子径：４μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【００９６】
比較例２−１〜１９
実施例２−１〜１９において、マイクロ波加熱の代わりに通常の電気オーブンにて３０分加熱（１５０℃に設定）したところ、撥水性は示したが、臭いが残った。
【００９７】
［実施例３］ 有機珪素化合物（４）にて表面処理して得られる粉体の処理例
平均粒子径が０．１μm以上の粉体粒子から、有機珪素化合物（４）を用いて処理粉体を製造すべく、下記の工程を行った。
【００９８】
実施例３−１
セリサイト（平均粒子径：４μｍ）９７質量部と、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコン（信越化学工業製：ＫＦ９９０９）３質量部をヘキサン１０ｍＬに溶かした溶液をヘンシェルミキサーに入れ、室温で３分攪拌・混合した後、さらに減圧しながら攪拌することで溶媒であるヘキサンを蒸発させて得られたシリコーン表面処理セリサイト５０g中に、炭化珪素粒子（平均粒子径１mm）５０gを混合・分散した後、フッ素樹脂製カップ中に入れた状態として、四国計測工業（株）製マイクロ波照射装置内にセットし、３００Ｗの出力で１５０℃に設定で３０分加熱したところ、十分な撥水性を示した。
【００９９】
実施例３−２
実施例２−１のセリサイトを二酸化チタン粉末（平均粒子径：０．５μm）に代えて同
様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１００】
実施例３−３
実施例３−１のセリサイトをシリカ粉末（平均粒子径：５μm）に代えて同様の処理を
行い、処理粉体を得た。
【０１０１】
実施例３−４
実施例３−１のセリサイトをタルク（平均粒子径：１５μm）に代えて同様の処理を行
い、処理粉体を得た。
【０１０２】
実施例３−５
実施例３−１のセリサイトを亜鉛華（平均粒子径：０．５μm）に代えて同様の処理を
行い、処理粉体を得た。
【０１０３】
実施例３−６
実施例３−１のセリサイトを雲母チタン粉末（平均粒子径：２０μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【０１０４】
実施例３−７
実施例３−１のセリサイトをベンガラ（平均粒子径：０．４μm）に代えて同様の処理
を行い、処理粉体を得た。
【０１０５】
実施例３−８
実施例３−１のセリサイトを硫酸バリウム粉末（平均粒子径：１０μm）に代えて同様
の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１０６】
実施例３−９
実施例３−１のセリサイトを酸化チタン／酸化鉄複合体粉末（平均粒子径：８μm）に
代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１０７】
実施例３−１０
実施例３−１のセリサイトをベンガラ被覆雲母チタン粉末（平均粒子径：３０μm）に
代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１０８】
実施例３−１１
実施例３−１のセリサイトを架橋ポリシロキサンエラストマー粉末（平均粒子径：５μm）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１０９】
実施例３−１２
実施例３−１のセリサイトをシリコーンレジン被覆／架橋ポリシロキサンエラストマー粉末（平均粒子径：５μm）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１０】
実施例３−１３
実施例３−１のセリサイトをポリメチルシルセスキオキサン粉末（平均粒子径：５μm
）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１１】
実施例３−１４
実施例３−１のセリサイトを窒化ホウ素粉末（平均粒子径：２０μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１２】
実施例３−１５
実施例３−１のセリサイトを酸化セリウム粉末（平均粒子径：０．６μm）に代えて同
様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１３】
実施例３−１６
実施例３−１のセリサイトを酸化クロム粉末（平均粒子径：０．５μm）に代えて同様
の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１４】
実施例３−１７
実施例３−１のセリサイトをアルミナ粉末（平均粒子径：０．３μm）に代えて同様の
処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１５】
実施例３−１８
実施例３−１のセリサイトをオキシ塩化ビスマス粉末（平均粒子径：３μm）に代えて
同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１６】
実施例３−１９
実施例３−１のマイカをセリサイト（平均粒子径：４μｍ）に代えて同様の処理を行い、処理粉体を得た。
【０１１７】
比較例３−１〜１９
実施例３−１〜１９において、マイクロ波加熱する代わりに、通常のオーブンにて３０分加熱（１５０℃に設定）したところ、撥水性は示したが、臭いが残った。
【０１１８】
【表１】
【０１１９】
表１から明らかなように、実施例１−１〜１９の処理粉体は、水素発生がほとんどなく、撥水性も十分であった。比較例では加熱時間が短いためか、水素発生量が高かった。また、実施例については処理粉体の臭いについても優れていた。
【０１２０】
【表２】
【０１２１】
表２により明らかなように、実施例２−１〜１９で得られた粉体は比較例２−１〜１９で得られた粉体と比べて臭いがなく、かつ良好な撥水性を示す粉体であることが判明した。
【０１２２】
【表３】
【０１２３】
表３により明らかなように、実施例３−１〜１９で得られた粉体は比較例３−１〜１９で得られた粉体と比べて臭いがなく、かつ良好な撥水性を示す粉体であることが判明した。
【０１２４】
３．本外用組成物
本製造方法にて製造された処理粉体を配合した化粧料等の外用組成物（本外用組成物）についての処方例と製造例であり、これらの例についての試験を行った。
【０１２５】
（Ａ）試験方法
（１）使用性評価
２０名の女性パネラーにより、各種使用性（とれ、つき、のび、仕上り、透明感等）について、それぞれ評価した。
【０１２６】
＜評価＞
１７名以上が良いと回答 ◎
１２名〜１６名が良いと回答 ○
９名〜１１名が良いと回答 △
５名〜８名が良いと回答 ×
４名以下が良いと回答 ××
【０１２７】
（２）ＳＰＦ（紫外線防止効果）の評価
Spectro Radiometer法によりin vitro ＳＰＦ値を測定した。
【０１２８】
（３）経時的安定性評価
試験対象品を、密封容器にて５０℃で１ヶ月保持後の使用性を、上記評価方法で評価し、さらに、その製品に求められる品質の安定性を検討した。
【０１２９】
［実施例４］ 固型ファンデーション
（Ａ）下記の処方と製法で、固型ファンデーションを調製した。
配合成分 配合量（質量％）
（１）実施例１−１の処理粉体 ３５．０
（２）実施例１−２の処理粉体 １３．０
（３）実施例１−４の処理粉体 ２４．７
（４）実施例１−１０の処理粉体 １０．０
（５）実施例１−７の処理粉体 １．０
（６）実施例１−８の処理粉体 ２．５
（７）実施例１−９の処理粉体 ０．１
（８）流動パラフィン ８．０
（９）セスキオレイン酸ソルビタン ３．５
（１０）グリセリン ２．０
（１１）エチルパラベン ０．２
＜製法＞
上記成分（１）〜（７）を混合し、粉砕機で粉砕した。これを高速ブレンダーに移し、成分（１０）を加えて混合した。これとは別に成分（８）、（９）及び（１１）を混合し、均一にしたものを上記混合物に加えてさらに均一に混合した。これを粉砕機で処理し、ふるいを通し、粒度を整えた後、圧縮成形し、固型ファンデーションを得た。得られた固型ファンデーションは化粧持ちが良好であった。
【０１３０】
比較例４
実施例４の固型ファンデーション中の配合成分（１）〜（７）を、それぞれに対応する比較例１の各成分にすべて置換して、実施例５と同様に固型ファンデーションを調製した。
【０１３１】
比較例５
同様に、実施例４の固型ファンデーション中の配合成分（１）〜（７）を、それぞれに対応する比較例２の各成分にすべて置換して、実施例４と同様に固型ファンデーションを調製した。
【０１３２】
（Ｂ）上記の実施例４と比較例４〜５について、上記の経時的安定性評価を行った。結果を表４に示す。
【０１３３】
【表４】
【０１３４】
表４において示したように、実施例４、比較例４〜５は、両用タイプの固型ファンデーションとしての水使用でも問題なく塗布できた。しかしながら、実施例４はパクト面のひび割れが認められず、品質が経時的に安定していることが認められた。さらに、実施例４は、無賦香であるが、パクト面からの臭いも認められなかった。これに対して、比較例４〜５においては臭いが認められ、無賦香の製品としては十分ではないことが認められた。
【０１３５】
［実施例５］ 乳化ファンデーション
（Ａ）下記の処方と製法で、乳化ファンデーションを調製した。
配合成分 配合量（質量％）
（１）イオン交換水 ４３．５
コンドロイチン硫酸ナトリウム １．０
１，３−ブチレングリコール ３．０
メチルパラベン 適量
（２）ジメチルポリシロキサン（２０ｃｓ） １６．０
デカメチルシクロペンタシロキサン ５．０
シリコーン樹脂 １．０
セチルイソオクタネート １．０
ポリオキシアルキレン変性オルガノポリシロキサン ４．０
（変性率２０％）
酸化防止剤 適量
香料 適量
（３）実施例１−８の処理粉体 １．０
実施例２−３の処理粉体 ０．４５
実施例２−４の処理粉体 ０．２
実施例１−２の処理粉体 １１．７
実施例１−１の処理粉体 ９．６５
実施例２−７の処理粉体 ２．０
＜製法＞
成分（２）を加熱溶解後、成分（３）の粉体を添加・分散した。さらに予め溶解・加熱しておいた成分（１）を添加・乳化し、室温まで冷却して乳化ファンデーションを得た。得られたファンデーションは化粧持ちが良好であった。
【０１３６】
比較例６
実施例５で調製した乳化ファンデーション中の配合成分（３）を、それぞれ対応する比較例１の各成分にすべて代えて実施例５と同様に乳化ファンデーションを調製した。
【０１３７】
比較例７
実施例５で調製した乳化ファンデーション中の配合成分（３）を、それぞれ対応する比較例２の各成分にすべて代えて実施例５と同様に乳化ファンデーションを調製した。
【０１３８】
（Ｂ）上記の実施例５と比較例６〜７について、上記の経時的安定性評価を行った。結果を表５に示す。
【０１３９】
【表５】
【０１４０】
表５から明らかなように、実施例５の乳化ファンデーションは、化粧持ちが良く、経時安定性にも優れていた。また、製剤における粉末由来と考えられる臭いは認められなかった。
【０１４１】
［実施例６］ プレストパウダー
下記の処方と製法で、プレストパウダーを調製した。
配合成分 配合量（質量％）
（１）実施例１−５の処理粉体 ３０．０
（２）実施例１−４の処理粉体 ６５．８
（３）酸化鉄顔料 ０．１
（４）スクワラン ２．０
（５）２−エチルへキシルパルミテート ２．０
（６）香料 ０．１
＜製法＞
成分（１）、（２）及び（３）をヘンシェルミキサーで混合し、これに成分（４）及び（５）を加熱混合したものを吹き付け、混合後粉砕し、さらに（６）を加えた後、中皿に成型してプレストパウダーを得た。得られたプレストパウダーは保湿効果があり、化粧もちが良好で経時安定性にも優れていた（実施例５において行った評価方法による）。
【０１４２】
［実施例７］ ボディパウダー
下記の処方と製法で、ボディーパウダーを調製した。
配合成分 配合量（質量％）
（１）実施例１−４の処理粉体 ８０．０
実施例１−６の処理粉体 １０．０
着色顔料 適量
（２）実施例１−５の処理粉体 ３．０
（３）ステアリン酸マグネシウム ４．０
流動パラフィン １．０
殺菌剤 適量
（４）香料 適量
＜製法＞
成分（１）をブレンダーで混合し、これに成分（２）を添加してよく混合してから成分（３）を加え、調色した後、成分（４）を噴霧し均一に混ぜた。これを粉砕機で粉砕した後、ふるいを通すことによりボディパウダーを得た。得られたボディパウダーは、撥水性に優れていた（使用後、その上に水を噴霧した時の水弾きの様子を目視観察した）。
【０１４３】
［実施例８］ 口紅
下記の処方と製法で、口紅を調製した。
配合成分 配合量（質量％）
（１）炭化水素ワックス ３．０
（２）カルナウバロウ １．０
（３）グリセリルイソステアレート ４０．０
（４）流動パラフィン ４５．８
（５）実施例１−３の処理粉体 ４．０
（６）実施例１−２及び１−７の混合処理粉体 ６．０
（配合質量比１：１）
（７）香料 ０．２
＜製法＞
成分（１）〜（４）を８５℃で溶かし、その中に成分（５）、（６）を攪拌しながら加えた。次いで攪拌下、成分（７）を加え、これを容器に装入した。得られた口紅は、保湿効果に優れるものであった（水分蒸散量測定により評価）。
【０１４４】
［実施例９］ 油中水型乳化サンスクリーン
（Ａ）下記の処方と製法で、油中水型乳化サンスクリーンを調製した。
配合成分 配合量（質量％）
（１）デカメチルシクロペンタシロキサン 残余
ジメチルポリシロキサン ５．０
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共重合体 ３．０
有機変性ベントナイト １．０
（２）実施例３−２の処理粉体 ４．０
実施例２−４の処理粉体 ５．０
実施例３−４の処理粉体 １６．０
シリコーン弾性粉末 ３．０
香料 適量
酸化防止剤 適量
（３）イオン交換水 ３５．０
グリセリン ５．０
防腐剤 適量
＜製法＞
（１）相を加熱溶解した後、（２）相を添加し、ホモミキサーで均一に分散させた。それに（３）相を徐々に添加してよく攪拌し、ホモミキサーで均一に乳化後、攪拌冷却することにより油中水型乳化サンスクリーンを得た。得られたサンスクリーンは、下記に示す通り、ＳＰＦが大きく、日焼け止め効果に優れたものであった。
【０１４５】
比較例８
実施例９で調製した油中水型乳化サンスクリーン中、配合成分（２）の中の処理粉体部分を、各々の実施例の処理粉体に対応する比較例に全て代えて、実施例１０と同様の要領で油中水型乳化サンスクリーンを調製した。
【０１４６】
実施例９及び比較例８の、５０℃，１ヶ月後の使用性（のび、透明感）、耐水性、ＳＰＦ及び経時安定性を比較した結果を表６に示す。
【０１４７】
【表６】
【０１４８】
実施例９及び比較例８のサンスクリーンは、いずれも良好な使用性・安定性及びＳＰＦを示したが、比較例８のサンスクリーンは、粉末由来と思われる臭いがパネルによる官能評価の結果、認められた。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００００１９５９
【氏名又は名称】株式会社資生堂
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| 【出願日】 |
平成１８年８月１０日（２００６．８．１０） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１００１０３１６０
【弁理士】
【氏名又は名称】志村 光春
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| 【公開番号】 |
特開２００８−３７８４６（Ｐ２００８−３７８４６Ａ） |
| 【公開日】 |
平成２０年２月２１日（２００８．２．２１） |
| 【出願番号】 |
特願２００６−２１８１４６（Ｐ２００６−２１８１４６） |
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