トップ :: C 化学 冶金 :: C23 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパツタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

【発明の名称】
金属ガラス薄膜積層体
金属ガラス溶射被膜及びその形成方法
基板処理方法および記録媒体
硬質皮膜及びその製造方法
金属酸化物の蒸着方法、複合材料層の作製方法及び表示装置の製造方法
耐食性、加工性、塗装性に優れた合金化溶融亜鉛メッキ鋼板およびその製造方法
デュアル周波数バイアスを具備する化学気相堆積チャンバおよびこれを使用するフォトマスク製造方法
成膜装置および噴出ノズル
成膜装置および成膜方法
膜形成装置および膜形成方法
ポリマー基体のメッキ前処理方法及びメッキ方法並びに熱可塑性樹脂製成形品の製造方法
有機エレクトロルミネッセント残渣を基板から除去する方法
メッキを施された金属帯の不動態化方法およびメッキを施された帯鋼に不動態化層を塗布する装置
ALD工程による非晶質NiO薄膜の製造方法、及び該非晶質NiO薄膜を利用した不揮発性メモリ素子
硬質膜被覆焼結部材およびその製造方法
無電解パラジウムめっき浴及び無電解パラジウムめっき方法
合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法
薄膜形成方法及び薄膜形成装置
機能性薄膜の形成方法及び機能性薄膜形成装置
膜の製造方法、電気光学装置、及びマスク
めっき析出阻害用組成物
窒素含有クロム被膜、その製造方法及び機械部材
化成処理用治具
マグネトロンスパッタリング用の磁石構造体およびカソード電極ユニット並びにマグネトロンスパッタリング装置
無電解めっき方法
容器内面へのバリヤ膜形成装置及び内面バリヤ膜被覆容器の製造方法
積層構造体、半導体装置およびトランジスタ
原料供給装置および蒸着装置
連続熱CVD装置
Al合金反射膜、光情報記録媒体及びAl合金反射膜形成用スパッタリングターゲット
成膜方法及び成膜装置
薄膜堆積装置、薄膜堆積方法及び化合物薄膜
ガンマプライム相含有ニッケルアルミナイド皮膜
ガンマプライム相含有ニッケルアルミナイド皮膜
スラブの寿命検出方法およびそのシステム
検出器の形成方法
中空体プラズマ均一性調整デバイスと方法
ガスタービンエンジン用の白金含有コーティング組成物
変更された低温表面硬化方法
表面被覆方法および表面被覆膜
溶融亜鉛めっき用鋼材の製造方法および溶融亜鉛めっき用鋼材
伸線性および耐食性に優れた被覆線材、この被覆線材を伸線して得られる耐食性に優れたゴム補強用線条体、並びに該ゴム補強用線条体とゴムとの複合体
真空蒸着装置
内径溶射の評価用皮膜形成方法及びこれに用いる試験片取付治具
転動部材および転がり軸受
表面被覆方法および表面被覆膜
蒸着方法及び表示装置の製造方法
硬質皮膜被覆部材およびその製造方法
無機薄膜パターン形成方法
耐食性部材
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