| 【発明の名称】
|
|
真空薄膜形成装置
|
|
ＣＶＤ装置
|
|
スパッタ電極及びスパッタ電極を備えたスパッタリング装置
|
|
フレーム
|
|
成膜装置
|
|
無電解めっき装置及びめっき液
|
|
多層膜とその形成装置及び形成方法、及び多層膜を有する光学素子
|
|
パーティクル発生の少ないＭｎ含有銅合金スパッタリングターゲット
|
|
部分マルチコートによる加飾製品の製造方法
|
|
真空蒸着装置
|
|
溶射材料及び溶射皮膜
|
|
ＣＶＤ炭窒化ケイ素膜用前駆体
|
|
環境腐食から保護する被覆ケイ素含有材料
|
|
耐食性、耐熱性、耐指紋性、導電性、塗装性および加工時の耐黒カス性に優れたクロメートフリー表面処理金属材
|
|
サセプタの粗面化による静電荷の削減
|
|
対高温腐食保護手段を含む製品と、該製品を有する往復動ピストン燃焼機関、タービンまたは燃焼ユニットと、高温腐食保護手段としての合金の使用
|
|
モーター駆動式ロータリーカソードを含む真空コーティング機械
|
|
溶接性、密着性および耐食性に優れた溶接缶用鋼板
|
|
堆積膜形成方法及び装置
|
|
クリーニング方法
|
|
鋼製成形品及び亜鉛系めっき鋼材
|
|
高分子繊維材料のメッキ前処理方法及びメッキ方法、高分子材料の被膜形成方法、導電性繊維材料の製造方法並びに導電性材料の製造方法
|
|
半導体デバイスの製造方法
|
|
硬質皮膜
|
|
化成処理における化成処理液成分の回収方法
|
|
スパッタ法における放電維持方法
|
|
硬質皮膜
|
|
蒸着材用酸化マグネシウム粉末および蒸着材用成型物
|
|
耐食性被膜を有する装飾品及びその製造方法
|
|
硬質皮膜
|
|
硬質皮膜
|
|
塗装後耐食性に優れた亜鉛系めっきが施された熱間プレス鋼材
|
|
硬質皮膜
|
|
硬質皮膜
|
|
薄膜及び光学部材の製造方法
|
|
粉体回収方法及び装置、ならびに粉体回収装置付き成膜装置
|
|
ステンレスシンク
|
|
硬質皮膜
|
|
硬質皮膜
|
|
Ｒｕ合金ターゲットとその製造方法
|
|
アーク式金属溶射法
|
|
酸化ガリウム単結晶複合体の製造方法及びこの複合体を用いたＩＩＩ−Ｖ族窒化物半導体の製造方法
|
|
透明導電膜及びその形成方法
|
|
有機材料の真空蒸着方法およびその装置
|
|
窒化処理部材のショットピーニング方法及びその方法で処理された窒化処理部材
|
|
基板処理装置，基板処理装置の基板搬送方法，プログラム，プログラムを記録した記録媒体
|
|
ポリイミド樹脂上の金属めっき皮膜形成方法
|
|
電極パターンの形成方法及び光電池モジュール
|
|
無電解ニッケルめっき浴およびそれを用いた無電解めっき方法
|
|
アーク式イオンプレーティング装置用蒸発源
|