| 【発明の名称】 |
アルキルエーテルクエン酸エステルを含有する皮膚洗浄剤組成物 |
| 【発明者】 |
【氏名】谷内 伸次
【住所又は居所】茨城県猿島郡総和町大字北利根９ー３ コグニスジャパン株式会社香粧原料技術グループ内
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| 【要約】 |
【課題】皮膚洗浄剤に優れた洗浄性と低刺激性と優れたコンディショニング性を付与させることを課題とする。
【解決手段】 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】
石けん及び／またはアニオン界面活性剤と
化１で表される成分
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、アンモニウムカチオンもしくは有機塩基のカチオンまたは化２
【化２】
（ｍは１〜２０の整数であり、Ｒ４は炭素数６〜２２の直鎖または分岐鎖のアルキル基）を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは化２の基であるアルキルエーテルクエン酸エステル］とを含有する皮膚洗浄剤組成物
【請求項２】
石けん及び／またはアニオン界面活性剤及び／またはカチオン化高分子と化１で表される成分
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、アンモニウムカチオンもしくは有機塩基のカチオンまたは化２
【化２】
（ｍは１〜２０の整数であり、Ｒ４は炭素数６〜２２の直鎖または分岐鎖のアルキル基）を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは化２の基であるアルキルエーテルクエン酸エステル］とを含有する皮膚洗浄剤組成物
【請求項３】
化１で表されるアルキルエーテルクエン酸エステルの配合量が組成物全体に対して０．１〜１０重量％および／または、石けん及び／またはアニオン界面活性剤量に対して５〜５０重量％である請求項１から３に記載の皮膚洗浄剤組成物
【請求項４】
アニオン界面活性剤がアルキル硫酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルカンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルエーテルスルホコハク酸塩、アシルアミノ酸塩から選ばれる１種以上である請求項１〜３に記載の皮膚洗浄剤組成物
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【発明の詳細な説明】【技術分野】
【０００１】
本発明は、皮膚に対して刺激が少なく泡立ち等洗浄性に影響せず、優れたすすぎ性とコンディショニング性を提供する皮膚洗浄剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大気汚染やエアコンによる乾燥など環境の悪化や社会進出による仕事等のストレス、食生活の変化などから、自分の肌を敏感肌と感じている人が増加している。
その為、毎日のように使用する皮膚洗浄剤は皮膚への負担を軽減させるよう低刺激の製品が求められている。しかし、メークアップ製品は持続性のある、また、水に強い製品が多くなってきて洗浄性は強いものが望まれる傾向がある。従って洗浄成分自体の低刺激性も改善されているが、洗浄性と低刺激性との両立は十分ではない。
【０００３】
洗浄性の強い成分に刺激を抑える成分を併用して洗浄性と低刺激性を両立させようとする提案がなされている。特許２９２２１８０ではアルキルエーテルクエン酸エステルを用いられているが、油分を多く含むクレンジング剤である。特表２００４−５３２３４０にα−ヒドロキシカルボン酸およびそのエトキシ化アルコールとのエステルの使用が刺激性を抑えることが述べられているが、コンディショニング性については言及されていない。
【特許文献１】特許２９２２１８０号
【特許文献２】特表２００４−５３２３４０号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、毎日使用する皮膚洗浄剤に優れた洗浄性と低刺激性と優れたコンディショニング性を付与させることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、石けん及び／またはアニオン界面活性剤と
化１で表される成分
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、アンモニウムカチオンもしくは有機塩基のカチオンまたは化２
【化２】
（ｍは１〜２０の整数であり、Ｒ４は炭素数６〜２２の直鎖または分岐鎖のアルキル基）を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは化２の基であるアルキルエーテルクエン酸エステル］とを含有することで上記課題が解決されることを見出し本発明を完成した。
【発明の効果】
【０００６】
実施例にて更に詳細に本発明を説明するが、これらの実施例に限定されるものではない。
【０００７】
［評価方法］年齢１８〜６０歳の女性パネラー２０名に、顔および身体での実使用で評価をしてもらった。１８名以上のパネラーの意見が一致した場合を評価点とした。
【０００８】
泡立ちおよび泡のきめは、日常使用している製品との比較およびアルキルエーテルクエン酸エステルの有無での比較をおこなった。
◎：非常によい
○：よい
△：同じ
×：悪い
【０００９】
皮膚刺激性はアルキルエーテルクエン酸エステルの有無での比較をおこなった。
◎：皮膚のどの場所でも刺激を感じない
○：皮膚のどの場所でも刺激をほとんどない
△：やや刺激を感じる
×：刺激を感じる
【００１０】
コンディショニング性はアルキルエーテルクエン酸エステルの有無での比較をおこなった。
◎：滑らかでかさつき、つっぱり感もなく非常に満足できる
○：かさつき、つっぱり感はない
△：ややかさつき、つっぱり感を感じる
×：滑らかさがなく、かさつき、つっぱり感が強い
【００１１】
【表１】
【００１２】
【表２】
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
すなわち、本発明で用いられるアルキルエーテルクエン酸エステルは、
化１
【化１】
［式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、同一でも異なっていてもよく、水素、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属、アンモニウムカチオンもしくは有機塩基のカチオンまたは化２
【化２】
（ｍは１〜２０の整数であり、Ｒ４は炭素数６〜２２の直鎖または分岐鎖のアルキル基）を表し、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは化２の基であるアルキルエーテルクエン酸エステル］で表されるものであり、好ましくはｍは５〜１５であり、更に好ましくはｍは７〜１２である。ｍが１より少ないと水への溶解性が低くなり泡立ちや洗浄性が悪くなる。ｍが２０より多いと溶解性が高くなりすぎコンディショニング性が低下する。
【００１４】
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の少なくとも一つは化２の基であるが、好ましくはモノエステルが５０％以上の組成であり、更に好ましくは７０％以上の組成である。また、これらの化合物の混合物であってもよい。
【００１５】
化１の成分は皮膚洗浄剤組成物に対して、０．１〜１０重量％及び／または石けん及び／またはアニオン界面活性剤量に対して５％〜５０重量％であることが好ましい。更に好ましくは、皮膚洗浄組成物に対して１〜１０重量％及び／または石けん及び／またはアニオン界面活性剤量に対して１０〜５０重量％である。皮膚洗浄剤組成物に対して０．１重量％より少ないと刺激性の低下に効果が少なく、２０重量％を越えると泡立ちや洗浄性、すすぎ性が悪くなる。石けん及び／またはアニオ界面活性剤量に対して５重量％より少ないと刺激性低下の効果が少なくなり、５０重量％を越えると泡立ちや洗浄性に悪い影響を及ぼす。
【００１６】
本発明で使用されるアニオン界面活性剤は、化粧品で一般に使用されるアニオン界面活性剤が使用できるが、アルキル硫酸塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルカンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルエーテルスルホコハク酸塩、アシルアミノ酸塩が本発明の効果が著しく発揮される。
【００１７】
本発明の実施形態は、皮膚洗浄組成物として洗顔料、ボディシャンプー、ボディソープ、頭皮の洗浄料としてスカルプシャンプー、スカルプソープがある。剤型は、液状、ペースト状、練り状、乳化物、ゲル状があり、ムースやスプレーとしての使用も可能である。
【００１８】
また、本発明の効果を阻害しない範囲で化粧品で一般に使用されている原料を配合することができる。流動パラフィン、ポリイソブテン、ジアルキルシクロヘキサン、ワセリンなどの炭化水素やパルミチン酸イソプロピル、オクタン酸セチル、ラノリン脂肪酸オクチルドデシルなどのエステル油、動植物油、モノステアリン酸グリセリル、モノオレイン酸グリセリル、トリオクタン酸グリセリルなどのグリセライド、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、ミツロウ、パルミチン酸セチルなどのロウなどの油剤。ジメチルポリシロキサンやポリ（オキシエチレン・オキシプロピレン）メチルポリシロキサン共重合体など非水溶性や水溶性のシリコーン。ポリグリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルグリセリルなどの非シオン界面活性剤、塩化ステアリルトリメチルアンモニウム、塩化セチルピリジニウム、エステルカチオンなどカチオン界面活性剤、アルキルベタインなどの両性界面活性剤。ヒアルロン酸、キサンタンガム、ヒドロキシエチルセルロース、グァーガム、カルボキシビニルポリマー、アクリル酸系ポリマー、カチオン化セルロース、カチオン化グァーガムなどの高分子。防腐剤、紫外線吸収剤、キレート剤、薬効成分、粉体、色素、香料などがある。
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| 【出願人】 |
【識別番号】５０３１０２６３０
【氏名又は名称】コグニスジャパン株式会社
【住所又は居所】東京都品川区東品川二丁目２番８号
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| 【出願日】 |
平成１７年３月２３日（２００５．３．２３） |
| 【代理人】 |
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| 【公開番号】 |
特開２００６−２６５１３６（Ｐ２００６−２６５１３６Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１８年１０月５日（２００６．１０．５） |
| 【出願番号】 |
特願２００５−８３７３９（Ｐ２００５−８３７３９） |
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