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【発明の名称】 ヘチマ根部の抽出物を含有する抗炎症皮膚外用剤
【発明者】 【氏名】三井 司

【氏名】松本 元伸

【要約】 【課題】抗炎症作用を有する皮膚外用剤の提供。

【解決手段】ヘチマ根部の抽出物を含有する抗炎症作用を有する皮膚外用剤、皮膚化粧料。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
ヘチマ根部の抽出物を含有する抗炎症皮膚外用剤。
【請求項2】
ヘチマ根部の抽出物がエタノール、ブタノール及び水からなる群から選択される少なくとも1種の溶媒の抽出物である請求項1に記載の抗炎症皮膚外用剤。
【請求項3】
炎症が紫外線による炎症である請求項1又は2に記載の抗炎症皮膚外用剤。
【請求項4】
皮膚外用剤が皮膚化粧料である請求項1〜3のいずれかに記載の抗炎症皮膚外用剤。
【発明の詳細な説明】【技術分野】
【0001】
本発明は、ヘチマ根部の抽出物を含有し、紫外線炎症抑制などに優れた抗炎症皮膚外用剤に関する。
【背景技術】
【0002】
近年、オゾン層の減少により、地表に到達する太陽光紫外線量は年々増加している。紫外線を浴びすぎると、皮膚は傷つき、紅斑と呼ばれる炎症が発生し、肌が荒れ、皮膚保湿機能が低下する。また、コラーゲン産生の低下なども引き起こし、シワが形成される。これらのように、紫外線は皮膚に悪影響を及ぼすことから、近年では日焼け止め化粧料や日焼け後のスキンケア化粧料等の日焼けに関連する化粧料の需要が増加している。
【0003】
従来、日焼け止め化粧料には、各種の紫外線散乱剤や紫外線吸収剤が配合されてきた。紫外線散乱剤や紫外線吸収剤は、皮膚が紫外線に暴露されることを軽減させる効果はある。しかし紫外線散乱剤の配合量が多くなると油分の配合量も増加するため使用感が悪化する。
【0004】
紫外線散乱剤や紫外線吸収剤は紫外線から皮膚を防御することを目的としたものであるが、これとは別に、紫外線を浴びた皮膚への悪影響を抑制する物質が研究されている。これら物質を日焼け止めに配合することによって紫外線散乱剤や紫外線吸収剤の配合量を低減させることができ、また、スキンケア化粧料に配合することによって紫外線による皮膚への影響を抑制することができる。
【0005】
一方、一般に植物由来成分は皮膚への刺激が少ないと考えられており、多種の植物抽出物がスキンケア化粧料に配合されている。例えば、ヘチマの果実又は茎から浸出する液汁であるヘチマ水にε−アミノカプロン酸、グリチルリチン酸などの特定成分を加えた化粧料が知られている(特許文献1)。また、ヘチマ全草抽出物と他の植物抽出物を含有する化粧料が知られている(特許文献2)。
【特許文献1】特公平7−25660号公報
【特許文献2】特開2003−261434号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、ヘチマ根部の抽出物に抗炎症作用が存在することは知られていなかった。従って、本発明は、ヘチマ根部の抽出物を含有する抗炎症皮膚外用剤、特に紫外線による炎症を抑制する皮膚外用剤の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者は、上記従来技術の問題点に鑑み鋭意検討を重ねた結果、ヘチマ根部の抽出物が抗炎症作用、特に紫外線による紅斑を抑制する作用を示すことを見出した。
【0008】
すなわち、本発明は、下記の抗炎症皮膚外用剤を提供するものである。
項1.ヘチマ根部の抽出物を含有する抗炎症皮膚外用剤。
項2.ヘチマ根部の抽出物がエタノール、ブタノール及び水からなる群から選択される少なくとも1種の溶媒の抽出物である項1に記載の抗炎症皮膚外用剤。
項3.炎症が紫外線による炎症である項1又は2に記載の抗炎症皮膚外用剤。
項4.皮膚外用剤が皮膚化粧料である項1〜3のいずれかに記載の抗炎症皮膚外用剤
本発明の抗炎症皮膚外用剤は、ヘチマ根部の抽出物を含有することを特徴とする。ヘチマ(Luffa cylindrica M. Roemen)はウリ科(Cucurbitaceae)に属する草本である。また、ヘチマ根部はヘチマの根を意味する。
【0009】
ヘチマ根部は生のまま抽出に供してもよいが、細切、乾燥、粉砕などの抽出に適した処理を行ってから抽出することが好ましい。通常、上記処理された又は被処理のヘチマ根部を抽出溶媒に接触させ、静置、振盪、超音波照射、加熱、加圧等やそれらを組み合わせることによって抽出する。好ましくは、浸漬し、振盪または撹拌する方法である。
【0010】
抽出溶媒としては、通常、水、有機溶媒などを単独又は2種以上併用して用いる。有機溶媒は、通常、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の低級アルコール類ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ジプロピレングリコール等の多価アルコール類;石油エーテル、シクロヘキサン、トルエン、ベンゼン等の炭化水素類;エチルエーテル、プロピルエーテル等のエーテル類;ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;CO2等の超臨界流体などが使用できる。好ましい抽出溶媒はエタノール、ブタノール、水であり、単独で又は2種以上混合して使用できる。より好ましい抽出溶媒はエタノール、水、含水エタノールである。
【0011】
抽出温度は、通常、3℃〜溶媒の沸点である。抽出時間は、抽出溶媒の種類、抽出温度、ヘチマ根部の形態などによって異なるが、通常1時間〜7日間、好ましくは2時間〜3日間である。また、必要に応じて加圧することもできる。
【0012】
上記抽出溶媒による抽出物は、そのままでも本発明におけるヘチマ根部の抽出物として使用することができるが、濃縮、乾固、凍結乾燥したものを水、有機溶媒等に溶解したり、抽出物の有する抗炎症効果を損なわない範囲で脱色、脱臭、脱塩等の精製処理を行ったり、液・液分配、カラムクロマトグラフィーによる分画処理などを行って得られたものを使用することもできる。また、リポソーム等の担体やマイクロカプセル等に内包させて使用することもできる。
【0013】
本発明の抗炎症皮膚外用剤は、ヘチマ根部の抽出物を含有することにより皮膚の炎症、特に紫外線に基づく皮膚の炎症、を抑制する作用を有する。このため、本発明の抗炎症皮膚外用剤は皮膚への適用に適した剤型、例えば、ゲル剤、クリーム剤、軟膏剤、リニメント剤、ローション剤、乳剤、粉剤、懸濁剤、エアゾール剤、硬膏剤、パップ剤、テープ剤、プラスター剤などで使用できる。好ましくは、ゲル剤、クリーム剤、乳剤である。また、本発明の抗炎症皮膚外用剤は、化粧水、乳液、クリーム、美容液、パック、メイクアップベースローション、メイクアップベースクリーム、ファンデーション、アイカラー、チークカラー、リップスティック、日焼け止め等の皮膚化粧料、クレンジングローション、クレンジングクリーム、クレンジングフォーム、洗顔石鹸、ボディーシャンプー等の皮膚洗浄料、ヘアーシャンプー、ヘアーリンス、ヘアートリートメント等の毛髪用化粧料、浴用剤などとして使用できる。好ましくはクリーム、美容液、日焼け止めである。
【0014】
本発明の抗炎症皮膚外用剤におけるヘチマ根部の抽出物の配合量は抗炎症作用が発揮される限り制限されないが、溶媒抽出液を使用する場合、通常、0.0001〜5重量%、好ましくは0.01〜1重量%、より好ましくは0.05〜0.6重量%であり、溶媒抽出物の乾燥固形物を使用する場合、通常、0.0001〜0.03重量%、好ましくは0.0005〜0.018重量%である。
【0015】
また、本発明の抗炎症皮膚外用剤の投与量は特に制限されず、1日1回又は数回に分けて投与することができる。
【0016】
本発明の抗炎症皮膚外用剤には、皮膚外用剤の成分として一般に使用される成分を、本発明の効果が発揮される範囲の配合量で配合することができる。このような成分としては、界面活性剤、水溶性高分子、着色剤、酸化防止剤、金属封鎖剤、防腐剤、pH調整剤、清涼剤、香料、保湿剤、紫外線吸収剤、紫外線散乱剤、抗酸化剤などが使用できる。また、皮膚外用剤の他の有効成分を本発明の効果が発揮される範囲の配合量で配合することもできる。このような有効成分としては、美白剤、抗炎症剤、シワ形成抑制剤、脂肪分解剤、育毛剤などが使用できる。
【発明の効果】
【0017】
本発明の抗炎症皮膚外用剤は皮膚の炎症を予防又は抑制することができ、特に紫外線に起因する炎症(例えば、紫外線による紅斑)の予防又は抑制に効果が高い。
【発明を実施するための最良の形態】
【0018】
以下、実施例を挙げてより詳細に本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【0019】
製造例1(ヘチマ根部の抽出物)
ヘチマの根部を乾燥し、粉砕した。粉砕物1kgを95%エタノール20L中に浸漬し、25℃で3日間抽出した後、ろ過して濾液を回収し、ヘチマ根部抽出物を得た。
【0020】
実施例1(ヘチマ根部の抽出物の抗炎症作用)
製造例1で得られたヘチマ根部の抽出物に95%エタノールを添加し、該抽出物を0.2重量%及び0.3重量%含有するサンプルを調製した。また、コントロールとして95%エタノールを使用した。サンプル塗布前の被験者の背部の赤みの程度を色差計CR−200(ミノルタ製)で測定した後(測定値をa0とする)、測定部位に20μlのサンプル又はコントロールを塗布し1時間経過後、95%エタノールを含んだ脱脂綿でサンプル塗布部位を拭き取り、予め測定しておいた被験者の最小紅斑量(MED:皮膚に紅斑を引き起こす最も少ない紫外線量)に相当する紫外線量を塗布部位に照射した。紫外線照射の6時間後のサンプル塗布部位の赤みの程度を色差計で測定し(測定値をa6とする)、得られた測定値からサンプル塗布前の測定値を差し引き、赤みの変化の程度(色差:Δa)を算出した(Δa=a6−a0)。算出された色差を表1及び図1に示す。なお、各サンプル毎に3人の被験者に協力してもらった。表1及び図1は色差の平均値を示している。
【0021】
【表1】


【0022】
この結果から、ヘチマ根部の抽出物の塗布により紫外線による皮膚の紅斑の程度が抑制されることが確認された。
【0023】
以下、処方例を示す。なお、各処方は常法により調製され、各成分の量は重量%である。なお、ヘチマ根部抽出物は製造例1で得られた抽出物を使用した。
【0024】
処方例1(化粧水)
ヘチマ根部抽出物 0.3
エタノール 5.0
濃グリセリン 4.0
ポリエチレングリコール1500 3.0
ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(60E.O.) 0.3
トレハロース 1.0
香料 0.03
フェノキシエタノール 0.7
クエン酸 0.08
クエン酸ナトリウム 0.08
精製水 残部
計 100.0
【0025】
処方例2(化粧水)
ヘチマ根部抽出物 0.3
エタノール 17.0
1,3−ブチレングリコール 2.0
アセチル化ヒアルロン酸ナトリウム 0.01
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(60E.O.) 0.3
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(40E.O.) 0.05
香料 0.03
メントキシプロパンジオール 0.02
フェノキシエタノール 0.5
クエン酸 0.08
クエン酸ナトリウム 0.2
アラントイン 0.02
dl−ピロリドンカルボン酸ナトリウム液 0.1
ゲンチアナエキス 0.1
精製水 残部
計 100.0
【0026】
処方例3(美容液)
ヘチマ根部抽出物 0.3
エタノール 10.0
濃グリセリン 10.0
1,3−ブチレングリコール 6.0
dl−ピロリドンカルボン酸ナトリウム 0.5
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(60E.O.) 0.5
キサンタンガム 0.4
寒天末 2.0
ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
クエン酸 0.08
クエン酸ナトリウム 0.08
水素添加大豆リン脂質 0.5
シクロデキストリン 0.1
香料 0.1
フェノキシエタノール 0.8
精製水 残部
計 100.0
【0027】
処方例4(美容液)
ヘチマ根部抽出物 0.3
エタノール 8.0
1,3−ブチレングリコール 5.0
濃グリセリン 5.0
カルボキシビニルポリマー 0.5
フェノキシエタノール 0.5
水酸化カリウム 0.3
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(60E.O.) 0.3
ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(40E.O.) 0.1
メントキシプロパンジオール 0.2
エンブリコエキス 0.1
香料 0.1
エデト酸二ナトリウム 0.05
クエン酸 0.05
精製水 残部
計 100.0
【0028】
処方例5(乳液)
ヘチマ根部抽出物 0.3
1,3−ブチレングリコール 12.0
カルボキシビニルポリマー 0.2
ステアリン酸 1.0
エタノール 3.0
オリーブ油 8.0
トリ(カプリル/カプリン酸)グリセリン 1.0
メチルポリシロキサン 2.0
レシチン 0.1
バチルアルコール 1.0
シクロデキストリン 0.5
水酸化カリウム 0.2
クエン酸 0.1
ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
香料 0.1
フェノキシエタノール 0.7
精製水 残部
計 100.0
【0029】
処方例6(クリーム)
ヘチマ根部抽出物 0.3
濃グリセリン 10.0
モノステアリン酸ポリグリセリル 4.0
親油性モノステアリン酸グリセリル 4.0
ステアリン酸 4.0
スクワラン 6.0
オリーブ油 8.0
メチルポリシロキサン 0.7
セタノール 3.0
エタノール 3.0
シクロデキストリン 0.1
香料 0.1
水酸化カリウム 0.6
カルボキシビニルポリマー 0.2
dl−ピロリドンカルボン酸ナトリウム 0.1
クエン酸 0.1
フェノキシエタノール 0.9
1,2−ヘキサンジオール 1.0
ヒドロキシステアリン酸コレステリル 0.5
ダイマージリノール酸(フィトステリル/
イソステアリル/セチル/ステアリル/ベヘニル) 0.4
精製水 残部
計 100.0
【0030】
処方例7(洗顔フォーム)
ヘチマ根部抽出物 0.3
ステアリン酸 10.0
パルミチン酸 12.0
ミリスチン酸 15.0
ラウリン酸 3.0
ラウリルジメチルアミンオキシド液 5.0
サラシミツロウ 2.0
ポリエチレングリコール4000 4.0
水酸化カリウム 8.0
香料 0.6
フェノキシエタノール 0.9
1,3−ブチレングリコール 4.0
1,2−ヘキサンジオール 1.0
濃グリセリン 5.0
ヤシ油脂肪酸サルコシンナトリウム 3.0
クエン酸 0.1
エタノール 2.0
エデト酸二ナトリウム 0.2
精製水 残部
計 100.0
【0031】
処方例8(クレンジングジェル)
ヘチマ根部抽出物 0.3
エタノール 5.0
ジプロピレングリコール 17.0
ポリオキシエチレンヤシ油脂肪酸グリセリン(7E.O.) 15.0
濃グリセリン 17.0
カルボキシビニルポリマー 1.0
Nε―ラウロイルーL−リジン 0.1
オリーブ油 2.0
マカデミアナッツ油 1.0
クエン酸 0.1
水酸化ナトリウム 0.5
フェノキシエタノール 0.9
香料 0.1
精製水 残部
計 100.0
【0032】
処方例9(化粧下地)
ヘチマ根部抽出物 0.3
デカメチルシクロペンタシロキサン 45.0
酸化チタン 2.0
酸化亜鉛 26.0
ポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン)
メチルポリシロキサン共重合体 0.5
オリーブ油 3.0
モノイソステアリン酸ポリグリセリル 2.0
1,3−ブチレングリコール 5.0
塩化ナトリウム 0.5
濃グリセリン 1.0
エタノール 1.0
フェノキシエタノール 0.8
クエン酸 0.1
精製水 残部
計 100.0
【0033】
処方例10(パウダーファンデーション)
ヘチマ根部抽出物 0.3
酸化チタン 10.0
セリサイト 40.0
酸化亜鉛 10.0
タルク 残部
酸化アルミニウム 1.0
酸化鉄 5.0
ベンガラ 2.0
メチルポリシロキサン 1.0
メチルハイドロジェンポリシロキサン 1.0
イソステアリン酸グリセリル 0.5
エタノール 0.1
植物性スクワラン 2.0
オリーブ油 0.1
フェノキシエタノール 0.1
計 100.0
【0034】
処方例11(リキッドファンデーション)
ヘチマ根部抽出物 0.3
デカメチルシクロペンタシロキサン 35.0
酸化チタン 8.0
酸化亜鉛 5.0
酸化鉄 3.0
塩化ナトリウム 0.5
エタノール 1.0
フェノキシエタノール 0.5
メチルポリシロキサン・セチルメチルポリシロキサン・
ポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン)
メチルポリシロキサン共重合体 3.5
植物性スクワラン 5.0
1,3−ブチレングリコール 5.0
1,2−ペンタンジオール 3.0
セリサイト 3.0
ジイソステアリン酸ポリグリセリル 2.0
精製水 残部
計 100.0
【0035】
処方例12(シャンプー)
ヘチマ根部抽出物 0.3
ポリオキシエチレン(3E.O.)
ラウリルエーテル硫酸ナトリウム 15.0
ヤシ油脂肪アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタイン 5.0
ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド 3.0
プロピレングリコール 8.0
フェノキシエタノール 0.8
香料 0.7
精製水 残部
計 100.0
【0036】
処方例13(ヘアコンディショナー)
ヘチマ根部抽出物 0.3
プロピレングリコール 3.0
ポリオキシエチレン(5E.O)オレイルエーテル 2.5
セタノール 2.5
トリカプリル酸グリセリル 5.0
塩化ステアリルトリメチルアンモニウム 4.0
クエン酸 0.15
香料 0.5
フェノキシエタノール 0.8
精製水 残部
計 100.0
【0037】
処方例14(入浴剤)
ヘチマ根部抽出物 0.3
硫酸ナトリウム 50.0
炭酸水素ナトリウム 残部
酸化チタン 1.0
香料 0.7
計 100.0
【産業上の利用可能性】
【0038】
本発明の抗炎症皮膚外用剤は抗炎症性を有する化粧水、乳液、クリーム、美容液、パック、メイクアップベースローション、メイクアップベースクリーム、ファンデーション、アイカラー、チークカラー、リップスティック、日焼け止め等の皮膚化粧料、クレンジングローション、クレンジングクリーム、クレンジングフォーム、洗顔石鹸、ボディーシャンプー等の皮膚洗浄料、ヘアーシャンプー、ヘアーリンス、ヘアートリートメント等の毛髪用化粧料、浴用剤などとして使用できる。
【図面の簡単な説明】
【0039】
【図1】図1は、ヘチマ根部の抽出物による色差の変化を示すグラフである。
【出願人】 【識別番号】000106324
【氏名又は名称】サンスター株式会社
【出願日】 平成16年8月18日(2004.8.18)
【代理人】 【識別番号】100065215
【弁理士】
【氏名又は名称】三枝 英二

【識別番号】100076510
【弁理士】
【氏名又は名称】掛樋 悠路

【識別番号】100099988
【弁理士】
【氏名又は名称】斎藤 健治

【公開番号】 特開2006−56808(P2006−56808A)
【公開日】 平成18年3月2日(2006.3.2)
【出願番号】 特願2004−238725(P2004−238725)