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【発明の名称】 足用シャワー・乾燥装置
【発明者】 【氏名】小倉 正男
【要約】 【課題】節水性と省エネルギー性に長けた足用シャワー・乾燥装置を提供することである。

【解決手段】足出入口及び多数のシャワーノズルを設けたシャワー・乾燥室、シャワー・乾燥室の室外上部に設けられた足支持部、温水循環配管と循環ポンプと循環水貯蔵タンクから構成される循環シャワー設備、温風循環配管と送風機から構成される循環乾燥設備とから構成される足用シャワー・乾燥装置において、足用シャワー・乾燥室の底面に循環水貯蔵タンクを設けて、水位検出センサーによってタンク水位面を検出することによって循環ポンプの出力を増減してタンク水位面を一定位置になるようにコントロールすることを特徴とする足用シャワー・乾燥装置。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
足出入口及び多数のシャワーノズルを設けたシャワー・乾燥室、シャワー・乾燥室の室外上部に設けられた足支持部、温水循環配管と循環ポンプと循環水貯蔵タンクから構成される循環シャワー設備、温風循環配管と送風機から構成される循環乾燥設備とから構成される足用シャワー・乾燥装置において、足用シャワー・乾燥室の底面に循環水貯蔵タンクを設けて、水位検出センサーによってタンク水位面を検出することによって循環ポンプの出力を増減してタンク水位面を一定位置になるようにコントロールすることを特徴とする足用シャワー・乾燥装置。
【請求項２】
足支持部に大腿裏側を乗せた場合、足裏より下面にタンク水位をコントロールすることを特徴とする請求項１記載の足用シャワー・乾燥装置。
【請求項３】
人が椅子に腰掛けた姿勢で足用シャワー・乾燥装置を用いる場合、椅子面より足支持部が上に位置することを特徴とする請求項１〜２記載の足用シャワー・乾燥装置。
【請求項４】
温水循環配管の途中にヒーターを設けたことを特徴とする請求項１〜３記載の足用シャワー・乾燥装置。
【請求項５】
上記シャワー・乾燥室の出入口が、足の膝下が収納可能なように、シャワー・乾燥室に開口部を設けていることを特徴とする請求項１〜４記載の足用シャワー・乾燥装置。
【請求項６】
循環水貯蔵タンクの水面が足の形をしていることを特徴とする請求項１〜５記載の足用シャワー・乾燥装置。
【請求項７】
多数のシャワーノズルが足の表裏面、左右前後からシャワー噴水を噴出すること特徴とする請求項１〜６記載の足用シャワー・乾燥装置。
【発明の詳細な説明】【技術分野】
【０００１】
本発明は、椅子に腰掛けた人が、着衣のまま椅子に腰掛けたまま、足にシャワー噴水を浴びせ、かつ乾燥させる足用シャワー・乾燥装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の足温浴装置としては、例えば、特許文献１（特開２００４−２９８５５８号公報）に掲載されているものが知られている。これは、足にマッサージ効果や熱移動効果が十分に及ぶようにして、より一層、消炎鎮痛効果，疲労回復，リラクゼーション効果等の向上を図る発明であり、以下の構成を有する。
上記発明は、足Ｆが入れられるシャワー・乾燥室１と、入れられた足Ｆを支持する足支持部７と、足支持部７に支持された足Ｆに向けて温水を噴射するシャワーノズルＮとを備え、シャワーノズルＮとして、足支持部７に支持された足Ｆの足裏Ｆｂに向けて温水を噴射する足裏用シャワーノズルＮＡと、足支持部７に支持された足の甲Ｆｃに向けて温水を噴射する甲用シャワーノズルＮＢとを備え、足裏用シャワーノズルＮＡ及び甲用シャワーノズルＮＢの温水の噴射範囲を、足指Ｆｄにも及ぶように設定し、足支持部７を、足Ｆの踵Ｆａ以外がシャワー・乾燥室１内に露出するように踵Ｆａを支承する凹部１４からなる踵支承部１３を有して構成されている（図１０参照）。
そして、この足温浴装置１００を用いるときは、使用者は、シャワー・乾燥室１０１の開口縁に設けた座部１０５に腰掛けて、足Ｆをシャワー・乾燥室１０１内に入れ支持部１０２に足Ｆをおく。この状態で、ソレノイドバルブからなる流量弁１０６を開にする。この場合、温調弁１０７を調整して給湯配管１０８からの湯と給水配管１０９からの水とを混合して適温の温水にしておく。これにより、温水がシャワーノズル１０３，１０４から噴射され、温水が、足ＦのふくらはぎＬａ及びすねＬｂに当てられ、治療としての鎮静効果や、筋肉の緊張を解かす効果が得られる。
しかし、発明者は、鋭意創意工夫をする段階において、上記従来技術には、以下のような欠点が有ることに気が付いた。
（１）上記従来技術では、シャワー噴水を足に浴びせた後は、シャワー噴水は排水溝に排出されることになっている。浴室で用いるシャワーと考え方は一致するが、例えば、長時間シャワー浴を楽しみたいという場合、大量の水と温水加熱用エネルギーを浪費しなければならず、節水性と省エネルギー性に欠けるという欠点が有った。
（２）上記従来技術では、シャワー噴水の噴出力が水道水圧に拘束され、シャワー噴水による足に対する十分なマッサージ力が期待できないという欠点があった。
（３）上記従来技術では、足を下から支えているため、足を下から支えている部分はシャワー噴水を浴びせることができず、足の全面をシャワー噴水によってマッサージをすることができないという欠点が有った。
（４）上記従来技術では、足のシャワーによるマッサージが終了した時点において、足はシャワー噴水によって塗れており、足をタオル等で拭く必要があったが、完全に水分をふき取ることはできず、室内に水を零すという欠点が有った。
【特許文献１】特開２００４−２９８５５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
（１）発明が解決しようとする第一課題は、節水性と省エネルギー性に長けた足用シャワー・乾燥装置を提供することである。
（２）発明が解決しようとする第二課題は、シャワー噴水による足に対する十分なマッサージ力が期待できる足用シャワー・乾燥装置を提供することである。
（３）発明が解決しようとする第三課題は、足の全面をシャワー噴水によってマッサージをすることができる足用シャワー・乾燥装置を提供することである。
（４）発明が解決しようとする第四課題は、足のシャワーによるマッサージが終了した時点にあたって、足を完全に乾燥させることができる足用シャワー・乾燥装置を提供することである。
（４）発明が解決しようとする第五課題は、上記（１）〜（４）の課題の全てを解消した足用シャワー・乾燥装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
このような目的を達成するため、課題を解決するための手段は、本願の特許請求の範囲の各請求項記載の発明である。
具体的には、以下に記載の発明である。
〔請求項１〕 足出入口及び多数のシャワーノズルを設けたシャワー・乾燥室、シャワー・乾燥室の室外上部に設けられた足支持部、温水循環配管と循環ポンプと循環水貯蔵タンクから構成される循環シャワー設備、温風循環配管と送風機から構成される循環乾燥設備とから構成される足用シャワー・乾燥装置において、足用シャワー・乾燥室の底面に循環水貯蔵タンクを設けて、水位検出センサーによってタンク水位面を検出することによって循環ポンプの出力を増減してタンク水位面を一定位置になるようにコントロールすることを特徴とする足用シャワー・乾燥装置。
ペットシャワー噴水を循環させるためには、エア抜きタンクＴの水位面が洗浄乾燥室の床面よりも下に設置する必要がある。洗浄乾燥室の床面よりも上に設置するとなると、床上まで水が来て足Ｆが水浸しになり、シャワー・マッサージができなくなるという不合理が生じるからである。
シャワー・乾燥装置では、本発明では、椅子に座ったままで、両足に足用シャワー・乾燥装置を装着することを前提としているので、足用シャワー・乾燥装置が足の膝下を収納することから、洗浄乾燥室の高さも足の膝下程度の高さに制限される。また、本発明の課題でもあるように、足裏をシャワー・乾燥室の底面から浮かせて、四方八方からシャワー噴水を足に掛けるようにするためには、シャワー・乾燥室の床面の下にエア抜きタンクを設置するためのスペースは、僅か５〜１０ｃｍ程度と非常に小さい。
【０００５】
循環ポンプは、早く足をシャワー・マッサージをし終わるためには、大量に水を循環させる必要があり、送出ポンプの水量を多くすればする程、循環ポンプの入り口側からエア抜きタンクの水面から渦を生ずることとなり、エアを吸い込むこととなる。循環ポンプがエアを吸い込むと、最早正常なポンプ運転は期待できず、本発明では、エア吸い込みを何としてでも回避する必要があった。
種々発明者は、試験を重ねた結果、洗浄乾燥室の床面の下にエア抜きタンクを設置すると共に、水位検出センサーを用いてタンク水面をコントロールすることにより循環ポンプにエアが噛み込まないようにするという特徴的構成要件を想到することにより、本発明を完成させた。
〔請求項２〕 足支持部に大腿裏側を乗せた場合、足裏より下面にタンク水位をコントロールすることを特徴とする請求項１記載の足用シャワー・乾燥装置。
〔請求項３〕 人が椅子に腰掛けた姿勢で足用シャワー・乾燥装置を用いる場合、椅子面より足支持部が上に位置することを特徴とする請求項１〜２記載の足用シャワー・乾燥装置。
〔請求項４〕 温水循環配管の途中にヒーターを設けたことを特徴とする請求項１〜３記載の足用シャワー・乾燥装置。
〔請求項５〕 上記シャワー・乾燥室の出入口が、足の膝下が収納可能なように、シャワー・乾燥室に開口部を設けていることを特徴とする請求項１〜４記載の足用シャワー・乾燥装置。
〔請求項６〕 循環水貯蔵タンクの水面が足の形をしていることを特徴とする請求項１〜５記載の足用シャワー・乾燥装置。
〔請求項７〕 多数のシャワーノズルが足の表裏面、左右前後からシャワー噴水を噴出すること特徴とする請求項１〜６記載の足用シャワー・乾燥装置。
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本願の特許請求の範囲の各請求項、明細書又は図面に記載の用語の解釈上の疑義を解消すべく、以下、定義又は詳説することとする。
○足用シャワー・乾燥装置とは、足出入口及び多数のシャワーノズルを設けたシャワー・乾燥室、シャワー・乾燥室の室外上部に設けられた足支持部、温水循環配管と循環ポンプと循環水貯蔵タンクから構成される循環シャワー設備、温風循環配管と送風機から構成される循環乾燥設備とを有する送風機から構成される。
○足出入口とは、シャワー・乾燥室に足の膝下を入れたり出したりするための開口部をいう。
本願では、シャワー・乾燥室の天井部に足出入口の開口部を設けている。足出入口は、左右の足それぞれ用に二つの開口部を設ける場合と、左右の両足を同時かつ一緒に出し入れする一つの開口部を設ける場合とが有る。
○シャワー・乾燥室とは、足を四方八方に設置したシャワーノズルによりシャワー（シャワーマッサージ）をし、シャワー終了後、温風により乾燥させるための部屋をいう。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の上記構成により、発明が解決しようとする課題は、全て解決することができた。
以下、本発明の効果について、具体的に詳説する。
（１）発明が解決しようとする第一課題は、節水性と省エネルギー性に長けた足用シャワー・乾燥装置を提供することであった。
本発明の構成とすることによって、本発明が解決しようとする第一課題を解消することができた。
（２）発明が解決しようとする第二課題は、シャワー噴水による足に対する十分なマッサージ力が期待できる足用シャワー・乾燥装置を提供することであった。
本発明の構成とすることによって、本発明が解決しようとする第二課題を解消することができた。
（３）発明が解決しようとする第三課題は、足の全面をシャワー噴水によってマッサージをすることができる足用シャワー・乾燥装置を提供することであった。
本発明の構成とすることによって、本発明が解決しようとする第三課題を解消することができた。
（４）発明が解決しようとする第四課題は、足のシャワーによるマッサージが終了した時点にあたって、足を完全に乾燥させることができる足用シャワー・乾燥装置を提供することであった。
本発明の構成とすることによって、本発明が解決しようとする第四課題を解消することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
添付図面に基づいて、発明を実施するための最良の形態である実施例１について、以下詳細に説明する。
【実施例１】
【０００８】
図１示すように、実施の形態に係る足用シャワー・乾燥装置１００の基本的構成は、足Ｆが入れられるシャワー・乾燥室１と、入れられた足Ｆを支持する足支持部７と、足支持部７に支持された足Ｆに向けて温水を噴射するシャワーノズルＮとを備えてなる。
【０００９】
シャワー・乾燥室１は、両足Ｆの膝下が入れられる大きさのシャワー・乾燥室本体２と、シャワー・乾燥室本体２の天井部に両足Ｆが出入り可能となるように足出入口が設けられている。シャワー・乾燥室本体２は、樹脂などで一体成形されることも可能である。足出入口６は、シャワー噴水が足との隙間から漏出しないように密封構造とされている。シャワー・乾燥室本体２の床部は、桟構造になっている。桟構造とすることによって、シャワー噴水は、落下してシャワー・乾燥室１の下に設けられた循環水貯蔵タンクＴに貯蔵される。そして、シャワー循環水は、取水口１１から、循環ポンプＰによって吸引されて、循環ポンプＰを通って、多数のシャワーノズルＮへそれぞれ送出される。そして、各シャワーノズルＮからは、シャワー・乾燥室１へ収納した足Ｆに対して四方八方からシャワー噴水が勢い良く掛けられ、足のマッサージ効果を奏することとなる。そして、足Ｆに掛けられたシャワー噴水は、シャワー・乾燥室本体２の床部５に落下する。シャワー噴水は、乾燥室本体２の床部５の桟から循環水貯蔵タンクＴに貯蔵されることとなる。上記のようにして、シャワー循環水は、循環ポンプＰの動力によって循環することとなる。
図１には、一例として、排水配管１４が循環水貯蔵タンクＴと接続されて設置されており、足へのシャワー浴が終了後、シャワー・乾燥室１の系外に排出される。
また、シャワー・乾燥室本体２には、両足の出入口５が設けられている。足出入口６のシャワー・乾燥室本体２の側縁には、大腿裏側を支承する足支持部（クッション部材）６設けられている。そして、使用者は、椅子ＳＴ等に座することにより足出入口６からシャワー・乾燥室１内部に足Ｆを入れることができる。
シャワー・乾燥室本体の床部は、図１にも示すように、樹脂で一体成形されシャワー・乾燥室本体１の桟構造を備えている。シャワー・乾燥室本体の床部は、シャワー・乾燥室本体の壁部４から水平方向に突設された取ボルト及びナットでワッシャを介して固定されて水平を維持するように架設されている。
シャワー・乾燥室本体の床部５の下部に、循環水貯蔵タンクＴが設置されている。
循環水貯蔵タンクＴには、タンク水位面Ｗを検出するべく、水位検出センサーＳＮが検出する循環水貯蔵タンクＴの側壁に設置されている。
図１に用いられた水位検出センサーＳＮは、圧力スイッチ型のセンサーであって、水位検出センサーの設置位置より上方に水位面がある場合には＋１信号を送信し、水位検出センサーの設置位置より下方に水位面がある場合には−１信号を送信する。
循環水貯蔵タンクＴの下方に、シャワー循環水を吸引する取水孔１３を多数有する取水板１２を水平になるように、循環水貯蔵タンクＴの底面近くに設置されている。
【００１０】
そして、取水板１２の下方側面の取水口１１において、温水循環配管１０と接続している。温水循環配管１０は、シャワー循環ポンプＰを介して、多数のシャワーノズルへ接続されている。
【００１１】
足出入口は、足の膝下部がシャワー・乾燥室１内に格納されるように構成され、足との間は隙間がないように密封構造をとっている。
だいたい羅側を支承する足支持部が、シャワー・乾燥室の室外上部に設置されている。
【００１２】
シャワーノズルＮとしては、基本的には、足Ｆの四方八方からシャワー噴水を足Ｆに掛けるように設計されている。
足Ｆの足裏に向けて温水シャワー噴水を噴射する足裏用シャワーノズルＮＡと、足Ｆの甲に向けて温水を噴射する甲用シャワーノズルＮＢと、足Ｆのふくらはぎ（脹脛）に向けて温水シャワー噴水を噴射するふくらはぎ用シャワーノズルＮＣとを備えている。足裏用シャワーノズルＮＡ，甲用シャワーノズルＮＢ及びふくらはぎ用シャワーノズルＮＣは、両足Ｆに対応して一対ずつ設けられている。
【００１３】
また、足裏用シャワーノズルＮＡは、シャワー・乾燥室本体の床部にノズル口を足裏に向けて噴出するように設置されている。ふくらはぎ用シャワーノズルＮＣは、シャワー・乾燥室本体２の側壁に設けられ、甲用シャワーノズルＮＢは、シャワー・乾燥室本体の天井部３に設けられている。
更に、足裏用シャワーノズルＮＡ及び甲用シャワーノズルＮＢの温水シャワーの噴射範囲は、足指Ｆｄにも及ぶように設定されている。
【００１４】
＜足用シャワー・乾燥装置における循環シャワー設備＞
足用シャワー・乾燥装置における循環シャワー設備及び排水設備について、説明する。
本実施例に係る足用シャワー・乾燥装置１００は、図１に示すように、循環設備として循環ポンプＰ及び水循環配管１０を有し、また排水設備として排水配管１４を有するものである。
洗浄・乾燥室１の床５の下に、エア抜きタンクＴが設けられている。エア抜きタンクＴの側壁に水位検出センサーＳＮが取り付けられている。
水位検出センサーＳＮは、エア抜きタンクＴの水面高さＨ（ｍｍ）を検知して、コントロール装置（図示せず）により、エア抜きタンクＴの水位面Ｗを一定高さＨａ（ｍｍ）になるよう保っている。
エア抜きタンクＴのタンク底面には排水配管１４が設けられ、排水口に向かって水勾配が取られている。
また水循環配管１０は、シャワー・乾燥室１の側壁であって、タンク底部となる隅部分に接続されており、さらに接続口には電磁弁が設けられている。
まずシャワー噴水を循環させて足をシャワー・マッサージする場合を想定する。シャワー噴水は、シャワー・乾燥室１に多数設けられたシャワーノズルＮから噴射され、これによって足Ｆを四方八方からしゃわー・マッサージをする。
足マッサージ時には、シャワー噴水を循環させて使用するため、排水バルブ（図示せず）が閉じられて、シャワー噴水が排水されてしまわないようになっている。シャワーノズルＮからひとたび噴射されたシャワー噴水は、床に落下し、さらに循環水貯蔵タンクＴに落下する。そして、水循環配管１０内を通って循環し、再びシャワー噴水としてシャワーノズルＮから噴射される。
このようにして、循環ポンプＰと水循環配管１０によって、何度でもシャワー噴水を循環させることが可能である。
次に、シャワー噴水を循環させないで排水する場合を説明する。
排水時には、排水バルブ（図示せず）が開かれ、排水口から流入したマッサージ後のシャワー噴水が排水管１４を通って排水されることになる。
排水時、水循環配管１０に設けられた電磁弁（図示せず）は閉じられており、さらにシャワー・乾燥室１のタンク底面は排水口に向かって傾斜角度がつけられているため、排水が水循環配管１０内には流入しないようになっている。
＜足用シャワー・乾燥装置における循環乾燥設備＞
以下、＜足用シャワー・乾燥装置における循環乾燥設備＞について説明する。
ここで、シャワー・乾燥室１は、シャワー・乾燥室本体の側壁４を有し、内法寸法は、足Ｆを収納するに十分な程度の室内により構成されている。天井３、側壁４、床５には、図１に示す如く、全体で多数のシャワーノズルＮが設けられている。シャワー・乾燥室本体の側壁部４から乾燥用の温風を噴射することが可能となっている。従って、セットされた足Ｆは、多数のノズルＮよりシャワー噴水が噴射され、足Ｆは、四方八方からシャワー・マッサージされる。また、乾燥される場合も同様で、側壁部４に設けられた送風口２２から乾燥用温風が室全体に供給され、短時間に足Ｆ全体の乾燥が可能となる。
さらに、この洗浄液は循環ポンプＰと水循環配管１０を使用して何度も循環させることも可能となっている。さらに、このシャワー・乾燥室本体の側壁部４には、乾燥時に、乾燥用の温風を排気させるための排気口（図示せず）が設けられている。ダンパーの切り替え行為により、温風全部あるいは温風の一部を排気することが可能な構造となっている。
【００１５】
従って、この実施の形態に係る足用シャワー・乾燥装置１００により足Ｆの入浴を行なうときは、図１に示すように、シャワー・乾燥室本体の天井部３に設けられた足出入口に両足を挿入する。使用者は、椅子ＳＴ等に座して足Ｆをシャワー・乾燥室本体２内に入れる。このとき、足裏を足支持部７に載せ支承させる。
この場合、足Ｆと足出入口の間に隙間ができないように、密閉するようにする。
足Ｆと足出入口の間に隙間ができると、シャワー循環水がシャワー・乾燥室の系外に出て部屋を汚す等の不都合を生じさせるからである。
【００１６】
この状態で、図９に示すように、メインスイッチ（図示せず）をオンにし、給湯ポンプ（又は、給水ポンプ）を駆動する。温水（又は水）が、循環水貯蔵タンクＴに貯蔵される。
温水（又は水）が、所定のタンク水位面まで貯水されたならば、給湯ポンプ（又は、給水ポンプ）を停止する。そして、循環水ポンプＰを駆動させて、貯蔵したタンク水を循環させる。ヒーターＨＴ（図示せず）により、循環水の温度を設定温度になるようにする。温度調整は、自動制御によって行うのが望ましく、その場合には、予め適正温度に設定しておく必要がある。
【００１７】
設定温度は、シャワー噴水の運動エネルギーにより皮膚表面温度遷移層（境界層あるいは境界膜とも言う）が薄くなる為に、所謂不感温度域（３５〜３６℃）あるいは微温度域（３７〜３９℃）といわれる低温度でも十分であり、暖かく感じられる。
【００１８】
適正温度状態において、ポンプの樹幹力により、足裏用シャワーノズルＮＡ，甲用シャワーノズルＮＢ及びふくらはぎ用シャワーノズルＮＣから温水が勢い良く噴射される。
足裏用シャワーノズルＮＡから噴射された温水は、足裏に当たり、シャワー噴水であるので、足裏が非常に良くマッサージされると共に、シャワー噴水の運動エネルギーにより皮膚表面温度遷移層（境界層あるいは境界膜とも言う）が薄くなる為に、熱移動量（熱流束）も多くなり、末梢血管の血流量の増加が図られる。特に、足裏用シャワーノズルＮＡの温水の噴射範囲が、足指Ｆｄにも及ぶように設定されているので、この足指Ｆｄの血流量も直接的に増大させられる。足裏及び足指Ｆｄは、第二の心臓ともいわれ、この部位の血流量の増大は、健康の向上に特に寄与することになる。
【００１９】
また、甲用シャワーノズルＮＢから噴射された温水は、足Ｆの甲に当たり、シャワー噴水であるので、甲が良くマッサージされると共に、シャワー噴水の運動エネルギーにより、上記と同様に熱移動量も多くなり、末梢血管の血流量の増加が図られる。特に、甲用シャワーノズルＮＢの温水の噴射範囲が、足指Ｆｄにも及ぶように設定されているので、この足指Ｆｄの血流量も直接的に増大させられる。
【００２０】
更に、ふくらはぎ用シャワーノズルＮＣから噴射された温水は、足Ｆのふくらはぎに当たり、シャワー噴水であるので、ふくらはぎが良くマッサージされると共に、シャワー噴水の運動エネルギーにより、上記と同様に熱移動量も多くなり、末梢血管の血流量の増加が図られる。
【００２１】
そして、足Ｆは足指Ｆｄと共に足裏用シャワーノズルＮＡ及び甲用シャワーノズルＮＢの両方のノズルからの温水に晒されるので、相乗的に末梢血管の血流量の増加が図られる。加えて、ふくらはぎＬａもふくらはぎ用シャワーノズルＮＣから噴射された温水に晒されるので、より相乗的に末梢血管の血流量の増加が図られる。
【００２２】
この場合、足Ｆは、足支持部に支承されており、足Ｆの膝下部はシャワー・乾燥室１内に露出しているので、シャワーが満遍なく足Ｆに当たることになり、そのため、確実にマッサージが行なわれ、シャワー噴水の運動エネルギーが伝達されて、末梢血管の血流量の増加が図られる。
【００２３】
更に、足が足支持部によって、支持されるために、足の膝下部は、完全に空中に浮かんだ状態になる。したがって、足Ｆの足ふくらはぎ部Ｆａ、足裏部Ｆｂ、足甲部Ｆｃ等に対して任意にかつ四方八方からシャワー噴水を当てることができるので、足Ｆの全ての部位を同時にシャワー噴水のマッサージを行うことができる。足Ｆの膝下部は完全に空中に浮かぶことから、何物にも邪魔されることなく、シャワー温水が目標に向けて確実に噴射されることになるので、確実にマッサージが行なわれる。シャワー噴水の運動エネルギーが目標の足部位に伝達されて、末梢血管の血流量の増加が図られる。
【００２４】
また、足出入口６のシャワー・乾燥室本体２側の足出入口６の縁側に、大腿裏側を支承するクッション部材６が設けられているので、大腿裏側が痛くなるなどの支障が防止される。
【００２５】
使用後においては、特に、通常入浴に比較して、保温維持機能が高く、長時間にわたって末梢血管の血流量が増加し、疲労回復が促進される。実験によれば、通常の温浴に比較して血流量や皮膚表面温度が明らかに高く維持されることが証明されている。このため、心身がリフレッシュされ、精神のリラクゼーションが導かれる。
【００２６】
〔評価例〕
次に、本装置の使用を行ない、本装置の評価を行なった。
先ず、疲労回復に関する評価については、全体として本装置が疲労回復に役立っていることについて、本装置の評価が高かった。
また、リラクゼーションに関する評価についても、高い評価となった。疲労回復と同時に、心身をリラックス状態に引き込む本装置の効能が大きかった。
【００２７】
尚、上記実施の形態では、シャワーノズルＮとしては、足裏用シャワーノズルＮＡ，甲用シャワーノズルＮＢ及びふくらはぎ用シャワーノズルＮＣの３種類にしているが、必ずしもこれに限定されるものではなく、例えば、足Ｆのすね（脛）Ｌｂに向けて温水を噴射するすね用シャワーノズルＮを設ける等、他にシャワーノズルＮを設けてもよく適宜変更して差支えない。
また、上記実施の形態では、シャワー・乾燥室１は、足の膝下を収容する大きさに形成されているが腿下が入るようにしても良く、大きさは適宜変更して差支えない。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態に係る足温浴装置を示す側面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１００ 足用シャワー・乾燥装置
１ シャワー・乾燥室
２ シャワー・乾燥室本体
３ シャワー・乾燥室本体の天井部（天井）
４ シャワー・乾燥室本体の側壁部（側壁）
５ シャワー・乾燥室本体の床部（床）
６ 足出入口
７ 足支持部（クッション部材）
１０ 水循環配管
１１ 取水口(吸引口)
１２ 取水板
１３ 取水孔
１４ 排水配管
Ｐ 循環ポンプＰ
Ｔ 循環水貯蔵タンク
Ｗ タンク水位(タンク水面)

２０ 温風循環配管
２１ 吸引口
２２ 送風口
Ｂ 送風機
ＨＴ ヒーター

Ｎ シャワーノズル
ＮＡ 足裏用シャワーノズル
ＮＢ 甲用シャワーノズル
ＮＣ ふくらはぎ用シャワーノズル
ＳＴ 椅子

Ｆａ ふくらはぎ（ふくらはぎ部）
Ｆｂ 足裏（足裏部）
Ｆｃ 足甲（足甲部）
Ｆｄ 足指（足指部）
【出願人】 【識別番号】５０５２０３１１７
【氏名又は名称】小倉 正男
【出願日】 平成１７年５月３１日（２００５．５．３１）
【代理人】 【識別番号】１００１０４６０６
【弁理士】
【氏名又は名称】佐藤 富徳
【公開番号】 特開２００６−３３３９７６（Ｐ２００６−３３３９７６Ａ）
【公開日】 平成１８年１２月１４日（２００６．１２．１４）
【出願番号】 特願２００５−１５９８３０（Ｐ２００５−１５９８３０）