公開番号 発明の名称
特開2006−117582 インターロイキン4産生抑制剤とその利用
特開2006−117584 スイゼンジナを用いた食品及び医薬組成物
特開2006−117586 総合輸液製剤
特開2006−117587 殺菌消毒剤組成物
特開2006−117588 生薬組成物
特開2006−117592 マトリックスメタロプロテアーゼ−2阻害剤
特開2006−117596 脂質代謝改善用組成物及び飲食品、並びに抽出物
特開2006−117597 ヒト免疫不全ウイルス感染・増殖抑制剤
特開2006−117598 歯磨組成物
特開2006−117600 口腔内装着器具用洗浄剤及び口腔内装着器具用表面処理剤
特開2006−117601 口腔用組成物
特開2006−117606 毛髪化粧料
特開2006−117607 皮膚外用剤
特開2006−117610 温感ゲル状化粧料
特開2006−117611 遺体化粧メーキング剤及びその用途
特開2006−117612 活性酸素消去剤
特開2006−117613 メラニン生成抑制剤
特開2006−117615 皮膚用液体洗浄剤
特開2006−117616 免疫賦活組成物及びその製造方法
特開2006−117618 肌質改善用セット
特開2006−117622 消臭用組成物及び消臭方法
特開2006−117626 コエンザイムQ10配合組成物の製造方法
特開2006−117630 宝石入り化粧品
特開2006−117632 吐出用液体、吐出方法、カートリッジ及び吐出装置
特開2006−117633 インターロイキン−8の模倣剤及び疾病の症状の予防、治療、診断及び改善におけるその使用方法
特開2006−117634 吐出用液体、吐出方法、液滴化方法、液体吐出カートリッジ及び吐出装置
特開2006−117635 毛髪処理剤
特開2006−117643 マイクロエマルション
特開2006−117644 葛花含有組成物
特開2006−117645 HMG−CoAリダクターゼ阻害剤とグルタチオンを含有する医薬組成物
特開2006−117646 粉末状化粧料
特開2006−117649 イソソルビド製剤
特開2006−117651 SGLT2の活性阻害剤
特開2006−117652 高分子修飾剤及びタンパク質を含有する医薬組成物
特開2006−117653 皮膚疾患治療剤
特開2006−117654 呼吸器疾患治療剤
特開2006−117656 ヒアルロン酸又はその塩を含有する粘膜適用組成物
特開2006−117657 テカリ抑制剤
特開2006−117658 血中中性脂肪低減剤
特開2006−117659 脱毛改善剤
特開2006−117662 治療剤
特開2006−117663 ガン治療用の当帰抽出物
特開2006−117665 不飽和シリコーン化合物を含む組成物、それらを含む歯科材料、およびそれらの使用
特開2006−117666 少なくとも一つのラテックスまたは擬ラテックスを含有する容易に除去できる耐水性化粧用ケア及び/またはメイクアップ組成物
特開2006−117668 神経障害の修復、神経機能回復増進用組成物およびその方法
特開2006−117669 ジベンゾイルメタン誘導体、アリールアルキルベンゾエート誘導体、及び前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項レベルエネルギーを受容しうる化合物を含む光保護組成物及び光保護方法
特開2006−117670 ジベンゾイルメタン誘導体、ビスレゾルシニルトリアジン化合物、及び前記ジベンゾイルメタンの励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む光保護組成物;光安定化方法
特開2006−117671 ジベンゾイルメタン誘導体、特定のアミドオイル、及び前記ジベンゾイルメタン誘導体の励起三重項エネルギーを受容可能な化合物を含む光保護組成物;光安定化方法
特開2006−117678 安定性トロンビン組成物
特開2006−117683 求電子性モノマー及び非シリコーンポリマーを含むフィルム形成組成物(これは硬質被覆物を生じる)のケラチン物質の化粧トリートメントのための使用
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