| 【発明の名称】 |
フレックスリジッド配線板 |
| 【発明者】 |
【氏名】三門 幸信
【住所又は居所】岐阜県大垣市青柳町３００番地 イビデン株式会社内
【氏名】匂坂 克巳
【住所又は居所】岐阜県大垣市青柳町３００番地 イビデン株式会社内
【氏名】川口 克雄
【住所又は居所】岐阜県大垣市青柳町３００番地 イビデン株式会社内
【氏名】村木 哲也
【住所又は居所】岐阜県大垣市青柳町３００番地 イビデン株式会社内
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| 【要約】 |
【課題】屈曲部で生じやすい基材の変形や、導体回路の断線、ウネリ形成等を防止できる接続信頼性に優れるフレックスリジット配線板を提供すること。
【解決手段】 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬質のリジッド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆された導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレックスリジッド配線板において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸せて屈曲可能としたガラスクロスからなり、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが広幅であることを特徴とするフレックスリジッド配線板。
【請求項２】
前記屈曲部にある配線パターンは、幅方向に拡張されていることを特徴とする請求項１に記載のフレックスリジッド配線板。
【請求項３】
前記屈曲部にある配線パターンの最大幅は、非屈曲部の配線パターンの線幅より大きく、かつその線幅の２倍以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のフレックスリジッド配線板。
【請求項４】
前記屈曲部にある配線パターンは、幅方向の片側あるいは両側に膨らんだ形状を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のフレックスリジッド配線板。
【請求項５】
硬質のリジッド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆された導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレックスリジッド配線板において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸せて屈曲可能としたガラスクロスからなり、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが、幅方向に湾曲されていることを特徴とするフレックスリジッド配線板。
【請求項６】
前記屈曲部にある配線パターンの線幅は、非屈曲部の配線パターンの線幅よりも大きく、かつその線幅の２倍以下であることを特徴とする請求項５に記載のフレックスリジッド配線板。
【請求項７】
前記屈曲部にある配線パターンは、半径Rが２〜１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離Ｘが、Ｒ／３≦Ｘ≦Ｒであることを特徴とする請求項５または６に記載のフレックスリジッド配線板。
【請求項８】
前記屈曲可能な基材は、厚さが１００μｍ以下の板状基材であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載のフレックスリジッド配線板。
【請求項９】
前記屈曲可能な基材を構成するガラスクロスは、厚さが３０μｍ以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、１．５〜７．０μｍであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のフレックスリジッド配線板。
【請求項１０】
前記カバーレイは、可撓性を有する樹脂付き銅箔、可撓性を有するソルダーレジスト層、またはガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させた後、半硬化させてなるプリプレグのいずれか１から形成されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載のフレックスリジッド配線板。
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【発明の詳細な説明】【技術分野】
【０００１】
本発明は、折り曲げ可能な可撓性を有するフレックス部と硬質材料からなるリジッド部とからなるフレックスリジッドプリント配線板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、折りたたみ式の携帯電話等の携帯用電子機器には、フレックスリジッド多層配線板が使用されている。このような配線板は、図１１に示すように柔軟性がないリジッド部500、520と、柔軟性のあるフレキシブル部510とをフレキシブル基板544を介して連結するとともに、リジッド部500においては、積層するフレキシブル基板544およびリジッド基板500、520表面のパターン層504、506を、めっきスルーホール502の導体層を介して電気的に接続するものが一般的である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平5−90756号公報
【０００３】
上記従来技術にかかるフレックスリジッド多層配線板は、ガラスエポキシ樹脂や、ガラスポリイミド樹脂等の硬質基材上に回路形成されてなるリジッド基板の間に、ポリイミド樹脂フィルムやポリエステル樹脂フィルム等の屈曲性能に優れた基材上に回路形成されてなるフレキシブル基板をプリプレグあるいは接着シート等を介して熱圧着し、その後、穴あけ、スルーホールメッキ、レジスト塗布、エッチングといった多くの工程を経て製造されている。
【０００４】
上記フレキシブル基板は、自由に折り曲げられることが要求されるため、リジット基板で使用されているような紙や、ガラス繊維等の強化材は使用されず、絶縁材として屈曲性に優れた薄いポリイミド樹脂やポリエステル樹脂などのベースフィルムが採用され、そのベースフィルムに対して柔軟な銅箔を貼り合せたものが基板材料として使用されている。
このベースフィルムとして用いられるポリイミドフィルムは、フィルム単体では400℃以上の耐熱性があり、部品実装時の250℃以上の半田付け温度にも十分耐える上、実際に機器組み込み後の環境変化に対しても安定した性能が発揮できるため、ポリエステルフィルムよりも圧倒的に多く使用されている。
【０００５】
また、ベースフィルム上に貼付された柔軟な銅箔をエッチングして形成される導体回路を保護するためのカバーレイは、屈曲性を考慮して、接着剤付きのポリイミドフィルムが使用されることが多い。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、携帯用電子機器の高機能化および高密度化という社会的要請に応じて、実装部品のより一層の小型化が図られると共に、それに伴なって、実装される基板の配線幅の一層の微細化が求められているのが現状である。
【０００７】
とくに、折り曲げ可能なフレックスリジッド配線板においても、それを構成するフレキシブル基板に形成される配線パターンの微細化および高密度化（単位面積辺りの配線の本数を増やす）が求められている。
しかしながら、フレキシブル基板の絶縁性基材として用いられているポリイミドフィルムは、吸水性が高く、しかも寸法変化が大きいため、ランド径のサイズを予め大きく形成しなければならない等の設計デザイン的な制約を受け、更に、合せ精度を向上させるためにワークサーズを小さくして製造する必要があった。そのため、優れた接続信頼性を得ることができないという問題があり、また、ヒートサイクル等の信頼性試験においても同様の問題があった。
【０００８】
さらに、フレキシブル基板の絶縁性基材として用いられるポリイミド等の樹脂フィルムは、フィルム単体で形成されたもので、芯材に樹脂含浸させたものではないため、(1)十分な強度を確保できない、(2)屈曲部の曲率を一定に保持できない、(3)前記(1)、(2)の故に、屈曲部付近でフレキシブル基材が変形したり、導体回路が断線したりするという問題があった。特に、フレキシブル基材の折り曲げを繰り返したり、導体回路が微細な配線パターンにより形成されているとき場合には、それらの問題が顕著となる。
【０００９】
また、フレキシブル基板の屈曲部分や、リジット部形成領域付近でウネリ（波状）が形成されることがあり、このウネリが形成されると、基材のうねり形成部分に亀裂が生じたり、導体回路が断線するというダメージを受けることがある。
【００１０】
さらに、フレキシブル基板に設けた導体回路を保護するためのカバーレイを、接着剤付きポリイミドフィルムから形成する場合に、スルーホールの接続信頼性や絶縁信頼性が低下するおそれがあるので、穴明け、デスミア、めっき条件等を特別に管理する必要があると共に、他の材料との組み合わせ構成をする上で制約を受けるという問題もあった。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、従来技術が抱える上述した問題を解消し、屈曲部での強度を十分に確保しつつ、そこでの屈曲具合を大きく、かつ一定に保持できるようなフレックスリジット配線板を提案することにある。
本発明の他の目的は、フレキシブル基板の屈曲部付近で生じやすい基材の変形や、導体回路の断線、ウネリ形成等を防止できる接続信頼性に優れるフレックスリジット配線板を提案することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
発明者らは、上記目的を実現するために鋭意研究を重ねた結果、フレキシブル基板を、従来技術のようなポリイミド等の樹脂フィルム単体ではなく、ガラスクロスに樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能な複合基材、特に、ガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる屈曲可能な複合基材から形成すれば、基板の剛性を高め、寸法変化を小さくでき、そのような基材の少なくとも一方の表面に導体回路を設け、その導体回路を構成する配線パターンの屈曲部に位置する部分を線幅を局所的に膨らませて広幅にしたりあるいは湾曲させれば、屈曲を助成することができ、屈曲具合を大きくして、しかもその大きな屈曲状態を一定に保持できることを知見した。
【００１３】
すなわち、本発明は、上記知見に基づいてなされたものであり、
硬質のリジッド基板と、絶縁性基材上にカバーレイで被覆された導体回路を有する屈曲可能なフレキシブル基板とを備えるフレックスリジッド配線板において、
前記フレキシブル基板は、絶縁性基材が樹脂を含浸せて屈曲可能としたガラスクロスからなり、
前記導体回路は、屈曲部にある配線パターンが広幅であること、あるいは幅方向に湾曲されていることを特徴とするフレックスリジッド配線板である。
【００１４】
本発明において、前記屈曲部にある広幅な配線パターンは、幅方向に拡張されたパターン（以下、「拡張パターン」という）であることを特徴とする。
【００１５】
また、前記拡張パターンの最大幅は、非屈曲部の配線パターンの線幅より大きく、かつその線幅の２倍以下とすることができる。
また、前記拡張パターンは、幅方向の片側あるいは両側に膨らんだ形状とすることができる。
【００１６】
本発明における、前記湾曲されたパターン（以下、「湾曲パターン」という）の線幅は、非屈曲部の配線パターンの線幅よりも大きく、かつその線幅の２倍以下とすることができる。
【００１７】
また、前記湾曲パターンは、半径Rが２〜１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離Ｘが、Ｒ／３≦Ｘ≦Ｒとなるように形成することができる。
【００１８】
また、本発明において、屈曲可能な基材としては、厚さが１００μｍ以下の板状基材を用いることができる。
さらに、前記屈曲可能な基材を構成するガラスクロスは、厚さが３０μｍ以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、１．５〜７．０μｍであるようなものを用いることができる。
【００１９】
本発明において、導体回路を被覆するカバーレイは、可撓性を有する樹脂付き銅箔、可撓性を有するソルダーレジスト層、またはガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させた後、半硬化させてなるプリプレグのいずれか１から形成することができる。
【００２０】
なお、本発明において、「屈曲部」とは、フレキシブル基板を折曲げた時に、曲面となるような表面領域のことで、幅方向の折曲中心の前後に位置する部分であり、「非屈曲部」とは、屈曲部以外の表面領域のことである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のフレックスリジッド配線板によれば、フレキシブル基板を、ガラスクロスに樹脂を含浸させ、乾燥させてなる屈曲可能な基材から形成したので、基材の剛性が高まり、基板の寸法変化も小さくなる。そのため、従来技術のような導体回路形成における制約を受けることがなくなるので、基板材料に起因する導体回路の断線を阻止することができる。特に、フレキシブル基板とリジット基板の接続部における寸法変化による配線の位置ズレも生じないので、電気的接続性を低下させることがない。
【００２２】
また、フレキシブル基板の少なくとも片面に、拡張パターンまたは湾曲パターンを、屈曲部に形成することにより、曲げが助長されるので、屈曲部の曲がり具合を一定にすることができ、バラツキがなくなる。
【００２３】
すなわち、上記ガラスクロスに樹脂含浸させてなる基材は、従来技術のようなポリイミド等の樹脂フィルム単体からなるフレキシブル基材に比べて、曲げにくいし、繰り返しの曲げに対する柔軟性が劣っているが、導体回路を形成する配線パターンの一部を拡張パターンまたは湾曲パターンとすることにより、繰り返しの曲げに対する曲がり具合を安定化させ、曲げに対する柔軟性を向上させることができる。その結果、折り曲げを起因とする導体回路の配線パターンの断線をなくして、接続信頼性の低下を阻止し、ヒートサイクル条件下等の信頼性試験においても、従来よりも長時間にわたって良好な電気的接続性を維持し、外形が損傷を受けることがなくなる。また、ウネリが形成されないので、基材に亀裂が生じたり、導体回路の配線パターンが断線することもなくなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
本発明にかかるフレックスリジッド配線板は、リジッド部およびフレキシブル部を構成するフレキシブル基板の絶縁性基材として、従来技術のようなポリイミド等の樹脂フィルム単体を用いることなく、樹脂を含浸させ、乾燥させて屈曲可能としたガラスクロスを用い、その絶縁性基材の少なくとも一方の表面には、長手方向に延設された配線パターンを有する導体回路を形成すると共に、その配線パターンの一部を、屈曲部において拡張パターンまたは湾曲パターンの形態に形成したことに構成上の特徴がある。
【００２５】
本願発明における「拡張パターン」とは、フレキシブル基板の少なくとも一方の表面に設けた導体回路のうち、長手方向に沿って形成された配線パターンの一部が意図的に線幅が拡張され、または膨らんだ形状を有するパターンのことであり、また、「湾曲パターン」とは、長手方向に沿って形成された配線パターンに連続して形成され、線幅方向に湾曲されたパターンのことである。
【００２６】
前記長手方向に沿って形成された配線パターンは、フレキシブル部の非屈曲部に形成され、かつ電気的な接続を行なう導体層としての機能だけを有しているが、拡張パターンおよび湾曲パターンは、電気的な接続を行なう導体層としての機能だけでなく、フレキシブル基板の屈曲の具合を積極的に助成する機能を兼ねており、主としてフレキシブル部の屈曲部に形成される。
【００２７】
このような拡張パターンあるいは湾曲パターンを、屈曲部に形成することにより、フレキシブル基板の屈曲部における曲げを助け、屈曲具合（曲率半径）を大きくすることができると共に、その大きな屈曲具合を一定に保持することができるのである。
【００２８】
なお、「曲率半径」とは、理化学辞典に「曲線上の２点P（s）、P’(s＋Δs)での接線の間の角度をΔωとして、Δω／ΔsのΔs→０の極限値ｄω／ｄｓをPでの曲率、その逆数ρを曲率半径という。」と記載されているように、曲線や曲面の曲がり程度を円周の一部と見なして、その円の半径で表したものを意味する。
【００２９】
本発明において、前記屈曲可能な絶縁性基材を構成するガラスクロスは、厚さが３０μｍ以下であり、それを構成するガラス繊維の太さが、１．５〜７．０μｍであることが望ましく、３．５〜７．０μｍの範囲がもっとも望ましい。その理由は、ガラスクロスの厚みが３０μｍを越えると、フレキシブル基板の折り曲げを阻害してしまうからであり、また、ガラス繊維の太さが１．５μｍ未満であると、屈曲具合（曲率半径）を大きくすることが難しく、一方、７．０μｍを越えると屈曲自体を阻害してしまうからである。前記ガラス繊維の太さが、３．５〜７．０μｍの範囲である場合には、フレキシブル部としての強度が得やすく、繊維太さのバラツキの影響が出にくいと考えられるからである。
【００３０】
また、前記ガラスクロスに含浸されて、屈曲可能な絶縁性基材をなす樹脂としては、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、液晶ポリマー、フェノール系樹脂等を用いることができ、エポキシ系樹脂がもっとも望ましい。
【００３１】
前記屈曲可能な絶縁性基材の厚さは、１０〜１００μｍ程度とすることが望ましい。その理由は、１０μｍ未満の厚さでは、電気的絶縁性が低下するからであり、一方、１００μｍを超えると、基材を構成するガラスクロスが厚くなりすぎ、屈曲性が低下するからである。
【００３２】
前記絶縁性基材の少なくとも一方の表面には、接続用電極パッドを含んだ導体回路の配線パターンが形成される。この配線パターンは、絶縁性基材の表面にめっき処理によって形成するか、絶縁性基材の表面に金属箔を貼付し、その金属箔をエッチング処理して形成され、前記接続用電極パッドは、配線パターンの一部として形成される。
【００３３】
前記フレキシブル基板上に設ける導体回路の配線パターンの厚みは、３〜７５μｍ程度とする。その理由は、３μm未満の厚さでは、接続信頼性に欠けるからであり、一方、７５μmを超えると、屈曲信頼性が低下するからである。
【００３４】
前記フレキシブル基板に形成した接続用電極パッドは、その形状、大きさ、および個数は、たとえば、直径が５０〜５００μｍ程度の円形とし、１００〜７００μｍ程度のピッチで複数配設したものが好適である。
その理由は、５０μｍ未満では高密度実装に対して、接続信頼性を低下させる要因となり得るからであり、一方、５００μｍを越えると、高密度実装に対する配線密度を高めにくくなるからである。
【００３５】
かかる接続用電極パッドは、基板を貫通して他方の導体回路との電気的接続を行なう形式のビアランドであってもよく、このようなビアホールを介して後述するようなフレキシブル基板とリジッド基板との電気的接続を図るようにしてもよい。
【００３６】
本発明にかかるフレックスリジッド配線板においては、図１に示すようなフレキシブル基板の屈曲部において、導体回路を構成する配線パターンの一部が局所的に膨らんだ形状を有する拡張パターンまたは湾曲パターンとして形成され、それによって、屈曲部における導体回路の断線等を防止することができると共に、フレキシブル基板としての強度を高めて、屈曲部の屈曲具合（曲率半径）を大きくし、しかもその大きな屈曲具合を一定に保持することができる。
【００３７】
すなわち、フレキシブル基板の屈曲部における内側表面あるいは外側表面（図２参照）もしくは内側表面および外側表面の両方の面（図３参照）に設けた配線パターンの一部を、膨らみを付け、あるいは湾曲させることによって、配線パターンを形成する銅箔の伸びる割合を低下させることができるので、導体回路の断線等を防止することができ、しかも基材の屈曲具合を大きくし、かつその大きさを一定に保持することができるのである。
【００３８】
本発明において、図４(a)に示すような湾曲パターンの線幅は、非屈曲部にある長手方向に延設された配線パターンの線幅よりも大きく、かつその線幅の２倍以下であることが望ましい。その理由は、非屈曲部の配線パターンの線幅以下だと、断線しやすくなり、一方、その線幅の２倍を超えると、硬くなって曲りにくくなる共に、配線密度が低下するためである。
【００３９】
また、前記湾曲パターンは、半径Rが２〜１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から非屈曲部にある配線パターンまでの最短距離Ｘが、Ｒ／３≦Ｘ≦Ｒであることが望ましい。その理由は、半径Rが２ｍｍ未満であると、パターンを湾曲させる効果がなく、１０ｍｍを超えると配線密度が小さくなるためである。
【００４０】
また、本発明において、図４(b)〜(d)に示すような拡張パターンの最大幅は、非屈曲部にある長手方向に延設された配線パターンの線幅より大きく、かつその線幅の２倍以下であることが望ましい。その理由は、非屈曲部の配線パターンの線幅以下だと、断線しやすくなると共に、配線内部で抵抗が増加するので電気特性が低下するからであり、一方、非屈曲部の配線パターンの線幅の２倍を超えると、配線パターンの高密度化が阻害されると共に、電気特性の低下を招くことがある。さらに、屈曲部における曲げ具合（曲率半径）を大きくすることができないからである。
さらに、前記拡張パターンは、長手方向に延設された配線パターンの片側あるいは両側に形成されていることが望ましい。その理由は、より断線しにくくするためである。
【００４１】
前記拡張パターンまたは湾曲パターンは、基板外形端から０．５ｍｍ以上離れた屈曲部内の領域に配線されることが望ましい。その理由は、フレキシブル基板の絶縁性基材が、基板端面から裂けるなどの不具合を防止することができるからである。一方、０．５ｍｍ未満では、基板端面付近で基材が裂けることがあり、配線パターンが断線するおそれがあるからである。
【００４２】
また、フレキシブル基板の両面に導体回路を設けたフレックスリジッド配線板においては、表面に形成された導体回路の配線パターンの一部を拡張パターンあるいは湾曲パターンに形成するだけでなく、裏面に形成された導体回路の配線パターンの一部も拡張パターンまたは湾曲パターンに形成することもでき、それによって、断線しにくくなる。
【００４３】
前記拡張パターンあるいは湾曲パターンをフレキシブル基板の両面に設ける形態としては、図５(a)に示すような表裏のパターンを同一位置に設ける形態、または、図５(b)に示すような表裏のパターンを互いにずれた位置に設ける千鳥配置の形態が望ましい。特に、千鳥配置の形態では、屈曲しやすくなると共に、断線しにくくなるという点で有利である。
【００４４】
本発明において、フレキシブル基板上に設けた導体回路を絶縁被覆するカバーレイは、可撓性を有する樹脂付き銅箔、可撓性を有するソルダーレジスト層、またはガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させた後、半硬化させてなるプリプレグから形成されることが望ましい。その理由は、絶縁信頼性、接続信頼性がポリイミドフィルム（例えば、接着剤付きポリイミド）を使用する場合よりも向上するからである。
【００４５】
前記可撓性を有する樹脂付き銅箔は、それを形成する樹脂自体の厚みが５０μｍ前後であることが望ましい。その理由は、厚すぎると屈曲しにくくなり、薄すぎると絶縁信頼性が低下するためである。
【００４６】
また、前記可撓性を有するソルダーレジスト層は、主として、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性を有する樹脂、熱硬化性樹脂の一部分に（メタ）アクリル基を有する樹脂などを用いて形成することができ、ソルダーレジスト層の厚みは、２０〜５０μｍであることが望ましい。その理由は、２０μｍ未満では絶縁信頼性が低くなり、一方、５０μｍを超えると屈曲しにくくなるためである。
【００４７】
さらに、前記ガラスクロスにエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させた後、半硬化させてなるプリプレグは、厚みが２０〜５０μｍであることが望ましい。その理由は、厚みが２０μｍ未満では絶縁信頼性が低くなり、５０μｍを超えると曲りにくくなるためである。
【００４８】
また、カバーレイの厚みを表裏で変えることが望ましい。厚みを変えることで、反る方向に屈曲させる構造にすることができるからである。それ故に、曲率半径を大きく一定に保持することができる。
【００４９】
本発明を構成するリジット基板は、柔軟性のあるフレキシブル基板と反対に、柔軟性のない基板であり、その形態、層数、形成方法等には関係なく、硬質で容易に変形しないような基板である。
このリジッド基板において、基板を形成する絶縁性樹脂基材としては、ガラス布エポキシ樹脂基材、ガラス布ビスマレイミドトリアジン樹脂基材、ガラス布ポリフェニレンエーテル樹脂基材、アラミド不織布−エポキシ樹脂基材、アラミド不織布−ポリイミド樹脂基材等の硬質基材が用いられ、ガラス布エポキシ樹脂基材が好適に用いられる。
【００５０】
前記絶縁性樹脂基材の厚さは、２０〜６００μｍ程度とする。その理由は、２０μｍ未満の厚さでは、強度が低下して取扱が難しくなるとともに、電気的絶縁性に対する信頼性が低くなり、６００μｍを超えると微細なビア形成および導電性物質の充填が難しくなるとともに、基板そのものが厚くなるためである。
【００５１】
かかる絶縁性樹脂基材の片面または両面には銅箔が貼付され、その厚さは、５〜１８μｍ程度とする。その理由は、後述するようなレーザ加工を用いて、絶縁性樹脂基材にビア形成用の開口を形成する際に、薄すぎると貫通してしまうからであり、逆に厚すぎるとエッチングにより、微細な線幅の導体回路パターンを形成し難いからである。
【００５２】
前記絶縁性樹脂基材および銅箔にて構成されるリジッド基板は、特に、エポキシ樹脂をガラスクロスに含浸させてＢステージとしたプリプレグと、銅箔とを積層して加熱プレスすることにより得られる片面銅張積層板を用いることができる。このようなリジッド基板は、銅箔がエッチングされた後の取扱中に、配線パターンやビア位置がずれることがなく、位置精度に優れている。
【００５３】
なお、このリジッド基板の片面または両面に形成される前記導体回路は、厚さが５〜１８μｍ程度の銅箔を、半硬化状態を保持された樹脂接着剤層を介して加熱プレスした後、適切なエッチング処理をすることによって形成されたものが好ましい。
【００５４】
そして、その導体回路は、基材表面に貼り付けられた銅箔上に、エッチング保護フィルムを貼付けて、所定の回路パターンのマスクで披覆した後、エッチング処理を行って、電極パッド（ビアランド）を含んで形成されたものが好適である。
【００５５】
こうした導体回路形成工程においては、先ず、銅箔の表面に感光性ドライフィルムレジストを貼付した後、所定の回路パターンに沿って露光、現像処理してエッチングレジストを形成し、エッチングレジスト非形成部分の金属層をエッチングして、電極パッドを含んだ導体回路パターンとする。
【００５６】
前記処理工程において、エッチング液としては、硫酸一過酸化水素、過硫酸塩、塩化第二銅、塩化第二鉄の水溶液から選ばれる少なくとも1種の水溶液を用いることができる。
【００５７】
また、前記銅箔をエッチングして導体回路を形成する前処理として、ファインパターンを形成しやすくするため、あらかじめ、銅箔の表面全面をエッチングして厚さを1〜１０μｍ、より好ましくは２〜８μｍ程度まで薄くすることができる。
【００５８】
前記リジッド基板に形成される接続用電極パッドは、その形状、大きさ、および個数は、特に限定されないが、たとえば、直径が５０〜５００μｍ程度の円形とし、１００〜７００μｍ程度のピッチで複数配設することが望ましい。その理由は、５０μｍ未満では、接続信頼性に不安があり、５００μｍを超えると、高密度実装に不利であるからである。
【００５９】
前記絶縁性樹脂基材に、ビアホール形成用の開口（以下、「ビア開口」という）を設ける。このビア開口は、レーザ照射によって形成することができる。特に、絶縁性樹脂基材の表面に透明な保護フィルム、たとえばPETフィルムを貼付し、そのPETフィルムの上方から炭酸ガスレーザ照射を行ない、PETフィルムを貫通して、絶縁性樹脂基材の表面から銅箔に達する開口を形成する。このような加工条件によるビア開口径は、５０〜２５０μｍ程度であることが望ましい。
【００６０】
なお、レーザ照射によって形成されたビア開口の側面および底面に残留する樹脂残滓を除去するために、デスミア処理を行う。このデスミア処理は、酸素プラズマ放電処理、コロナ放電処理、紫外線レーザ処理またはエキシマレーザ処理等によって行う。
【００６１】
前記ビア開口には導電性物質が充填されて、充填ビアホールが形成されるが、その導電性物質としては、導電性ペーストや電解めっき処理によって形成される金属めっきが好ましい。
【００６２】
前記充填ビアホールの形成工程をシンプルにして、製造コストを低減させ、歩留まりを向上させる点では、導電性ペーストの充填が好ましく、接続信頼性の点では電解めっき処理によって形成される金属めっきが好ましく、とくに、電解銅めっきが好適である。
【００６３】
前記導電性物質は、絶縁性基材を貫通し導体回路に達するビア開口内に充填されるだけでなく、ビア開口の外側に所定の高さまで突出形成することもでき、その突出高さは５〜３０μｍ程度の範囲が望ましい。
その理由は、５μｍ未満では、接続不良を招きやすく、３０μｍを越えると抵抗値が高くなると共に、加熱プレス工程において熱変形した際に、絶縁性基板の表面に沿って拡がりすぎるので、ファインパターンが形成できなくなるからである。
【００６４】
本発明において、リジッド基板とフレキシブル基板との電気的接続は、以下の(1)〜(4)のような種々の形態を採用することができ、これらの接続形態を任意に組合せることによって、基板材料を有効に使用することができると共に、自由な配線接続構造とすることができる。
【００６５】
(1) リジッド基板の片面にフレキシブル基板を接続する場合、すなわち、リジッド基板の片方の最外層の表面に接続用電極パッドを形成すると共に、フレキシブル基板の片方の表面にも接続用電極パッドを形成し、各基板の電極パッド同士を、塊状導電体などを介して接続させる。
(2) リジッド基板の両面に、異なるフレキシブル基板をそれぞれ接続する場合、すなわち、リジッド基板の両方の最外層の表面に接続用電極パッドをそれぞれ形成すると共に、各フレキシブル基板をリジッド基板の両方の最外層に形成した接続用電極パッドに対面して配置させ、それらの対面配置された接続用電極パッド同士を塊状導電体を介して接続させる。
(3) フレキシブル基板の両面に、異なるリジッド基板をそれぞれ接続する場合、すなわち、フレキシブル基板の両面に接続用電極パッドを形成すると共に、それらの接続用電極パッドに対して、片方の最外層の表面に接続用電極パッドがそれぞれ形成された、異なるリジッド基板を、それらの基板の各接続用電極パッドがそれぞれ対面するように配置させ、対面配置された接続用電極パッド同士を塊状導電体を介して接続させる。
(4) フレキシブル基板の複数箇所において、リジッド基板の複数が電気的接続される形態であり、複数のリジッド基板は、それらを構成する導体層および樹脂絶縁層の層数が任意であるように予め形成され、それらの個別に形成されたリジッド基板とフレキシブル基板の接続用電極パッドを対向して配置し、それらの対向配置された接続用電極パッド同士を、塊状導電体を介して接続させる。
【００６６】
なお、フレキシブル基板とリジット基板との接続は、上述したような、各基板に設けた接続用電極パッド同士を塊状導電体を介して接続させる以外にも、フレキシブル基板とリジット基板の重ね合う部分に貫通して設けためっきスルーホールを用いて行ってもよい。
【００６７】
ここで、前記(1)〜(4)の種々の接続形態の中で、特に、(4)に記載されたような、リジッド基板の片方の最外層表面においてフレキシブル基板が接続される形態について説明する。
たとえば、フレキシブル基板の一方の端部において、その片面あるいは両面に対して予め層間接続されたリジッド基板が接合され（一方の「リジッド部」という）、フレキシブル基板の片方の端部においても、その片面あるいは両面に対して、予め層間接続された他のリジッド基板が接合されている（他方の「リジッド部」という）形態が代表的である。
このような接続形態では、フレキシブル基板の両端部間の部分は、リジッド基板との接触がない部分（「フレキシブル部」という）であり、このフレキシブル部には、一方のリジッド部と他方のリジッド部とを電気的接続する導体回路が設けられており、このような導体回路は通常、カバーレイと呼ばれる絶縁層によって被覆されている。
【００６８】
各リジッド部を構成するフレキシブル基板の片面の所定領域、たとえば、細長い矩形状の基板の短辺に沿った表面領域には、導体回路の一部として複数の接続用電極パッドが予め形成されるとともに、導体回路や絶縁層が予め積層形成され、かつ層間接続されたリジッド基板の外側表面の所定領域にも、フレキシブル基板に設けた接続用電極パッドに対応した複数の接続用電極パッドが予め形成される。
【００６９】
各リジッド部におけるこれらの複数の接続用電極パッド対は、リジッド基板とフレキシブル基板との間に介在させた塊状導電体によって電気的に接続されると共に、接続用電極パッド以外の表面領域においては、接着剤によって接着されるように一体形成される。
【００７０】
前記接続用電極パッドは、リジッド基板の最外層を構成する回路基板の一つあるいは二つに対して、めっき処理またはエッチング処理によって導体回路を形成する際に、その導体回路の一部として形成されることができるが、最外層を構成する回路基板の絶縁樹脂層上に単独で形成されてもよいし、その絶縁樹脂層を貫通して下層の導体回路との電気的接続を行なうバイアホールランドとして形成することもできる。
【００７１】
本発明において、前記リジッド基板に形成される接続用電極パッドの形成領域は、必ずしもリジッド基板の最外層の絶縁樹脂層表面の全域である必要はなく、十分な接続強度が得られるような任意の位置であればよい。たとえば、矩形状の基板の短辺あるいは長辺に沿った周縁の表面領域や、基板の周縁から中央に向う表面領域であってもよい。
【００７２】
このような接続用電極パッドの形成領域を任意の位置とすることができるので、電子機器筐体のデザインや、その筐体内に収容される他のリジッド基板や電子部品等のレイアウトに応じて、所望の方向に配線の引き出しが可能となり、極めて有利な配線接続構造を得ることができる。
さらに、前記リジッド基板とフレキシブル基板とは、リジッド基板側あるいはフレキシブル基板側の接続用電極パッドが形成されていない表面領域に貼付または塗布形成された絶縁性接着剤層によって接着される。
【００７３】
本発明において、リジッド基板の層間接続部の位置とフレキシブル基板の層間接続部の位置とを一致させ、これらの層間接続部同士を塊状導電体を介して重ね合わせて導通させたスタック構造部を形成することが、より好ましい実施の形態であり、そのようなスタック構造の採用によって、配線長の短縮化を実現して、大電力が必要な電子部品の実装に好適なフレックスリジッド配線板を提供することができる。
【００７４】
前記リジッド基板およびフレキシブル基板に設けた接続用電極パッド同士を接続する塊状導電体は、リジッド基板もしくはフレキシブル基板のいずれか一方の接続用電極パッド上に突設した形態であることが好ましい。リジッド基板とフレキシブル基板とを重ね合わせる際に、絶縁性接着剤層を貫通しやすいからである。
【００７５】
前記塊状導電体としては、銅、金、銀、スズ等の金属、それらの合金、あるいは種々の半田等を用いて、めっきや、印刷法、転写法、埋め込み法（インプラント）、電着等の手法によって、球状や半球状等の滑らかな凸曲面形状、角柱や円柱等の柱状、あるいは角錐や円錐等の錐状に形成されたバンプ（ポスト）やボール、あるいはピン形状に形成されたものが代表的であるが、これらに限定されるべきものではなく、リジッド基板に設けた接続用電極パッドとフレキシブル基板に設けた接続用電極パッドとを十分な接続強度で接続し、かつ電気的接続できる手段であればよい。
【００７６】
前記バンプ（ポスト）をめっきによって形成する場合には、銅めっきにより形成したものであってもよく、そのような塊状導電体は、フレキシブル基板に設けた接続用電極パッドに対して半田層を介して接続されることが好ましく、それによって優れた電気的接続性が得られる。
また前記バンプ（ポスト）やボールを形成する半田としては、Ｓｎ／Ｐｂ、Ｓｎ／Ｓｂ、Ｓｎ／Ａｇ、Ｓｎ／Ａｇ／Ｃｕ、Ｓｎ／Ｃｕ、Ｓｎ／Ｚｎ、Ｓｎ／Ａｇ／Ｉｎ／Ｃｕから選ばれる少なくとも一種の半田から形成することができる。
【００７７】
すなわち、前記金属あるいは各種半田の中から選ばれる１種類で形成してもよいし、２種類以上を混合して用いてもよい。
特に、自然環境を汚染しないという社会的要請に応じて、鉛を含有しない、いわゆる鉛フリー半田を用いたバンプが好ましい。そのような半田として、たとえばＳｎ／Ｓｂ、Ｓｎ／Ａｇ、Ｓｎ／Ａｇ／Ｃｕ、Ｓｎ／Ｃｕ、Ｓｎ／Ｚｎ、Ｓｎ／Ａｇ／Ｉｎ／Ｃｕからなる半田が挙げられる。リジッド基板やフレキシブル基板の材料を考慮して、融点が１８３℃であるＳｎ−３７Ｐｂ半田や、融点が２１７℃であるＳｎ−３５Ａｇ−０．７Ｃｕ半田が、より好ましい。
【００７８】
さらに、Ｓｎ／Ａｇ半田めっきによって形成したバンプは、展性に優れて冷熱サイクルで発生する応力を緩和するのに有効であるため、より好ましい。
前記半田バンプは、その高さが１０〜１５０μｍ程度であることが好ましく、めっき、印刷法、転写法、埋め込み法（インプラント）、電着等によって形成することができる。
たとえば、印刷法による場合には、接続用電極パッドを有するリジッド基板またはフレキシブル基板の接続用電極パッドに相当する基板上の箇所に、円形の開口を設けた印刷マスク（メタルマスク）を載置し、そのマスクを用いて半田ペーストを印刷し、加熱処理することによって半田バンプを形成する。
【００７９】
また、転写法による場合には、たとえば、水平面を有する水平治具板の当該水平面上に、接続用電極パッドを有するリジッド基板またはフレキシブル基板、半田キャリアおよび荷重用の押さえ治具を順次載置して、水平治具板と押さえ治具とにより基板および半田キャリアを挟持し、両者を平行に保持し、その後、リフローにより半田キャリアの半田パターンを接続用電極パッド上に転写し、その後、半田キャリアを取り除くことで、接続用電極パッド上に半田バンプを形成する。
【００８０】
さらに、前記半田ボールは、たとえば、直径が１００〜８００μｍ程度の銅球と、その銅球を被覆する厚み１５０μｍ以下の半田層とから形成してもよい。
【００８１】
前記リジッド基板とフレキシブル基板との電気的および物理的接続は、フレキシブル基板の接続用電極パッドをリジッド基板の接続用電極パッド上の半田バンプあるいは半田ボールに対して加圧、加熱して半田を溶融・固化させることによって行なわれることが好ましい。
【００８２】
本発明において、リジッド基板とフレキシブル基板とを相互に接着、固定し、かつ前記塊状導電体が貫挿する絶縁性接着剤層をなす樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、フェノール樹脂、ニトリルラバー、ポリイミド樹脂、フェノキシ樹脂、キシレン樹脂もしくはこれらの２種以上の混合物、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、液晶ポリマー、ポリアミド樹脂なども使用することが可能である。また、前記樹脂にガラスマット、無機充填剤、ガラスクロスなどを配合したもの（プリプレグ）でもよい。
【００８３】
例えば、プリプレグを用いる場合には、リジッド基板とフレキシブル基板との間にプリプレグ等を介在させた状態で、熱プレスすることによって絶縁性接着剤層を形成する。
前記プリプレグを用いる場合には、接続用電極パッド上に形成するバンプとしては、金属ペーストを所定の形状に成形した後、硬化して形成したバンプであることが好ましく、所定の位置に精度よく貫通型の導体路を形成するために、その先端部が絶縁性接着剤層を容易に貫挿し得るような円錐型、角錐型など好ましいが、半球状、台形などでもよい。
【００８４】
前記金属ペーストは、たとえば銀、金、銅、半田粉、炭素粉などの導電性粉末、これらの合金粉末もしくは複合（混合）金属粉末と、たとえばポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂などのバインダー成分とを混合して調製された導電性組成物で構成することができる。
【００８５】
そして、前記金属バンプは、例えば、比較的厚いメタルマスクを用いた印刷法により、アスペクト比の高い導電性バンプとして形成でき、そのバンプの高さは、絶縁性接着剤層の厚さの１．３倍程度以上が好ましい。例えば、絶縁性接着剤層の厚さを５０μｍとすると、６５〜１５０μｍ 程度に設定される。
【００８６】
なお、フレキシブル基板とリジット基板との電気的な接続は、上述したような、各基板に設けた接続用電極パッド同士を塊状導電体を介して接続させる形態以外にも、フレキシブル基板とリジット基板の重ね合う部分を貫通しためっきスルーホールを形成し、そのめっきスルーホールを介して電気的な接続を行なうような形態でもよい。フレキシブル基板とリジット基板との電気的接続をめっきスルーホールを介して行う形式のフレックスリジッド配線板を製造する方法の一例を、以下に説明する。
【００８７】
まず、ガラスクロスにエポキシ系樹脂等の樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材の少なくとも一方の表面に、長手方向に延びる導体回路の配線パターンを形成し、その配線パターンのうち屈曲部に位置する部分を、拡張パターンあるいは湾曲パターンに形成したようなフレキシブル基板を用意する。
【００８８】
次に、少なくとも拡張パターンまたは湾曲パターンが形成された表面を被覆するカバーレイを形成し、その基板の両面に対して、屈曲が必要な箇所を開口したプリプレグと、銅箔とを積層した後、加熱プレスすることによって積層体を形成する。
【００８９】
その積層体表面の銅箔にレーザ照射用開口を形成すると共に、所定の照射条件でレーザ照射を行って、基板を貫通する貫通孔を形成した後、貫通孔の内壁を含んだ基板表面に銅めっき層を形成し、めっきスルーホールを形成する。
【００９０】
次いで、銅めっき層を形成した基板の表面および裏面に、エッチング処理により配線パターンを形成すると、めっきスルーホールを介してフレキシブル基板に形成された配線パターンに電気的に接続されることになる。
【００９１】
さらに、ソルダーレジスト層を形成した後、ルータによる外形加工を行なうことによって、少なくとも一方の表面に配線パターンが形成され、その配線パターンのうち屈曲部に位置する部分を、幅方向に広幅な拡張パターンあるいは湾曲パターンに形成してなるフレキシブル部を有するフレックスリジッド配線板を製造することができる。
以下、本発明のフレックスリジッド配線板について、実施例に基づいてさらに詳細に説明する。
【実施例１】
【００９２】
（Ａ）フレキシブル基板の製造工程
(1) 本発明にかかるフレックスリジッド配線板を製造するに当たって、それを構成するフレキシブル基板１００Ａを作製する出発材料として、厚さ２５μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２がラミネートされた厚さ５０μｍである両面銅張積層板（日立化成製：製品名「E-67」）を用いた(図6(a)参照)。
【００９３】
(2) 前記絶縁性フィルム１１の片面にラミネートされた銅箔１２を、塩化第二銅水溶液を用いたエッチング処理を施して、長手方向に延びる線幅１００μmの３本の配線パターン１３と、その配線パターン１３に連続する、後述するリジッド基板との電気的接続のための直径２５０μｍの接続用電極パッド１６を形成した。なお、前記配線パターン１３は、フレキシブル基板１００Ａが折り曲げられた際に内側となるような基板表面に形成され、屈曲部における各配線パターンは、幅方向に膨らんだ領域、即ち、図４(b)に示すように、配線パターンの延設方向に対してほぼ直角な一方向に膨出し、その線幅が１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）に拡張されたような形状の広幅なパターン１８に形成した(図6(b)参照)。
なお、隣接する広幅パターン１８の中心間距離（ｄ）が、配線パターン１３の幅の４倍以内（３２５μｍ）となるようにした。
【００９４】
(3) 前記配線パターン１３を覆って、ソルダーレジスト(日本ポリテック社製：製品名「ＮＰＲ−９０」)をスクリーン印刷により塗布し、乾燥させた後、露光量４００ｍｊ／ｃｍ２で露光し、さらに１５０℃／１時間の条件で乾燥させることによって、直径３００μmの大きさの開口１５を持つ、配線パターン１３を保護する厚さ２５μmの樹脂製カバーレイ１４を形成した。(図6(c)参照)。
【００９５】
（Ｂ）リジッド基板の製造工程
(1) ガラスエポキシ樹脂からなる基板２１の両面に、１２μｍの銅箔２２がラミネートされた厚さ０．１１ｍｍの両面銅張積層板（松下電工製：製品名「Ｒ−１７６６」、図7(a)参照）の片面に塩化第二銅水溶液を用いて、レーザ照射用開口２４を形成し、さらに炭酸ガスレーザを用いて直径２５０μｍの銅めっき充填用開口２６を設けた（図7(b)、(c)参照）。
【００９６】
(2) さらに、貫通孔２６の内壁にPd触媒を付与し、以下のような組成および条件のもとで無電解銅めっき処理を施した後、さらに電解銅めっき処理を施すことによって、開口２６の内部を銅めっき２８で充填した（図7(d)参照）。
【００９７】
（無電解銅めっき溶液）
硫酸銅 １０ｇ／リトッル
ＨＣＨＯ ８ｇ／リットル
ＮａＯＨ ５ｇ／リットル
ロッシェル塩 ４５ｇ／リットル
温度 ３０℃
【００９８】
（電解銅めっき溶液）
硫酸 １８０ｇ／リットル
硫酸銅 ８０ｇ／リットル
アトテックジャパン製 商品名 カパラシドＧＬ
１ｍｌ／リットル
（めっき条件）
電流密度 ２Ａ／ｄｍ２
時間 ３０分
温度 ２５℃
【００９９】
(3) 前記銅めっき２８で充填した基板の両面を塩化第二銅水溶液を用いてエッチングして、表面および裏面にそれぞれパターン３２、３４を形成すると共に、パターン３４の一部を接続用電極パッド３６に形成した。さらに、基板をルータで加工した（図7(e)参照）。
【０１００】
(4) 次いで、円形の開口を設けたメタルマスクを用いて、銀ペースト（DU PONT社製：商品名 SOLAMET）をスキージを用いて充填し、接続用電極パッド３６上に突起４０、すなわち半田バンプを形成した。さらに、これを１５０℃で１時間加熱して硬化させ、リジッド基板２００Ａを製造した（図7(f)参照）。
【０１０１】
（Ｃ）積層工程
(1) 前記（B）で製造したリジッド基板２００Ａのドーム状の突起４０に対して、プリプレグ４２(日立化成製：GIA−６７１N)を１０ｋｇ／ｃｍ２の圧力で突き刺して貫通させた（図8参照）。
【０１０２】
(2) つぎに、前記（Ａ）で製造したフレキシブル基板１００Ａとリジッド基板２００Ａとを積層し、１８０℃、４０ｋｇ／ｃｍ２で加熱プレスし、半田バンプ４０によって接続されたフレックスリジッド配線板３００Ａを得た（図9参照）。
【実施例２】
【０１０３】
屈曲部における配線パターンを、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（２８５μｍ）となるようにした。
【実施例３】
【０１０４】
屈曲部における配線パターンを、図４(b)に示すように、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３７５μｍ）となるようにした。
【実施例４】
【０１０５】
屈曲部における各配線パターンを、図４(c)に示すように、線幅が最大１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍〜６倍の範囲（４７５μｍ）となるようにした。
【実施例５】
【０１０６】
屈曲部における各配線パターンを、図４(c)に示すように、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３８５μｍ）となるようにした。
【実施例６】
【０１０７】
屈曲部における各配線パターンを、図４(c)に示すように、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍〜６倍の範囲（５７５μｍ）となるようにした。
【実施例７】
【０１０８】
屈曲部における３本の配線パターンのうち、図４(d)に示すように、両側に位置する配線パターンを、線幅が最大１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成し、中央の配線パターンを、線幅が最大１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３８５μｍ）となるようにした。
【実施例８】
【０１０９】
屈曲部における３本の配線パターンのうち、図４(d)に示すように、左右両側に位置する配線パターンを、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成し、中央の配線パターンを、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（２９５μｍ）となるようにした。
【実施例９】
【０１１０】
屈曲部における３本の配線パターンのうち、図４(d)に示すように、左右両側に位置する配線パターンを、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成し、中央の配線パターンを、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３９０μｍ）となるようにした。
【参考例１】
【０１１１】
屈曲部における各配線パターンを、図４(c)に示すように、線幅が最大２．５倍（１００×２．５＝２５０μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の６倍を超える（６７５μｍ）ようにした。
【参考例２】
【０１１２】
屈曲部における各配線パターンを、図４(c)に示すように、線幅が最大３．０倍（１００×３．０＝３００μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の６倍を超える（７７５μｍ）ようにした。
【比較例１】
【０１１３】
屈曲部における各配線パターンを、膨出させた拡張パターンに形成しないで、通常の直線状パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板を製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（１７５μｍ）となるようにした。
【比較例２】
【０１１４】
屈曲部における各配線パターンを、最小線幅が１／２となる（１００μｍ×０．５＝５０μｍ）拡張パターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板を製造した。
なお、隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（１７５μｍ）となるようにした。
【実施例１０】
【０１１５】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１１】
【０１１６】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１２】
【０１１７】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１３】
【０１１８】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１４】
【０１１９】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１５】
【０１２０】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１６】
【０１２１】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１７】
【０１２２】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１８】
【０１２３】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例１９】
【０１２４】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２０】
【０１２５】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２１】
【０１２６】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２２】
【０１２７】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２３】
【０１２８】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２４】
【０１２９】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２５】
【０１３０】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２６】
【０１３１】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．０倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２７】
【０１３２】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．０倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２８】
【０１３３】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．０倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例３】
【０１３４】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例４】
【０１３５】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例５】
【０１３６】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例６】
【０１３７】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１．５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例７】
【０１３８】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例８】
【０１３９】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１．５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／４であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例９】
【０１４０】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離ＸがＲ／４であるようなパターンに形成した以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例２９】
【０１４１】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３０】
【０１４２】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３１】
【０１４３】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３２】
【０１４４】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ５．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３３】
【０１４５】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ５．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の片面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３４】
【０１４６】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ５．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例２０と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３５】
【０１４７】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ１．５μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３６】
【０１４８】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ１．５μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３７】
【０１４９】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ１．５μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３８】
【０１５０】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例３９】
【０１５１】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例４０】
【０１５２】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例２０と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例１０】
【０１５３】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１５μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例１１】
【０１５４】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１００μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例１２】
【０１５５】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１５μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例１４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【参考例１３】
【０１５６】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１００μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例２０と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ａを製造した。
【実施例４１】
【０１５７】
(1) 本発明にかかるフレックスリジッド配線板を製造するに当たって、それを構成するフレキシブル基板１００Ｂを作製する出発材料として、厚さ２０μｍ（厚さが３０μm以下）のガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材５２の両面に、厚さが１８μｍの銅箔がラミネートされた厚さ５０μｍである両面銅張積層板（日立化成：製品名「Ｅ−６７」）を用いた。
【０１５８】
(2) まず、厚さ0.05mmの両面銅張積層板の両面にドライフィルムレジストをラミネートし、露光、現像によりエッチングレジストを形成した後、塩化第二銅水溶液を用いたエッチング処理を施して、長手方向に延びる線幅１００μmの３本の配線パターン５３、５４をそれぞれ表裏面に形成した。前記長手方向に延びる配線パターン５３、５４は、屈曲部５５付近において、その一部が幅方向に膨らんだ領域、即ち、図４(b)に示すように、線幅が最大１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターン５６、５７に形成された(図１０(a)参照)。
なお、３本の隣接する拡張パターン５６または５７の中心間距離（ｄ）が、配線パターン５３または５４の幅の４倍以内（３２５μｍ）となるようにした。
【０１５９】
(3) 上記（2）により拡張パターン５６、５７を形成した基板の両面に、スクリーン印刷によってソルダーレジスト（日本ポリテック製：NPR-90）を塗布し、400mj/cm2の条件下で露光し、150℃、１時間の条件下で乾燥させることによって、カバー層５８を形成した(図１０(b)参照)。
【０１６０】
(4) 上記カバー層５８を形成した基板の両面に対して、屈曲が必要な箇所を開口（符号６２で示す）したプリプレグ６０（松下電工製：R-1661）と、厚さ12μmの銅箔６４とを積層し(図１０(c)参照)、その積層体を圧力35kg/cm2 、温度180℃で加熱プレスした(図１０(d)参照)。
【０１６１】
(5) 上記(4)で得た積層体の表面に、所定の照射条件にて炭酸ガスレーザ照射を行って、銅箔６４に直径１００μｍの開口６６を形成すると共に、その開口６６から更に照射条件を変えた炭酸ガスレーザ照射を行って、基板を貫通する直径３００μｍの貫通孔６８を形成した（図１０(e)参照）。
レーザ照射の後、過マンガン酸溶液を用いて、貫通孔６８内に残存する樹脂残さ（スミア）を除去するためにデスミア処理を行なった。
【０１６２】
(6) 上記（5）で形成した貫通孔６８の内壁にPd触媒を付与し、以下のような組成および条件のもとで無電解銅めっき処理を施した後、さらに電解銅めっき処理を施すことによって、貫通孔６８の内壁を含んだ基板全体に銅めっき層７０を形成した（図１０(f)参照）。
これによって、めっきスルーホール７６が形成された。
【０１６３】
（無電解銅めっき溶液）
硫酸銅 １０ｇ／リトッル
ＨＣＨＯ ８ｇ／リットル
ＮａＯＨ ５ｇ／リットル
ロッシェル塩 ４５ｇ／リットル
温度 ３０℃
【０１６４】
（電解銅めっき溶液）
硫酸 １８０ｇ／リットル
硫酸銅 ８０ｇ／リットル
アトテックジャパン製 商品名 カパラシドＧＬ
１ｍｌ／リットル
（めっき条件）
電流密度 ２Ａ／ｄｍ２
時間 ３０分
温度 ２５℃
【０１６５】
(7) 次いで、上記（6）にて銅めっき層７０を形成した基板の表面および裏面にドライフィルムレジストをラミネートし、露光、現像によりエッチングレジストを形成した後、塩化第二銅水溶液を用いたエッチング処理を施して、基板の表面および裏面にそれぞれ配線パターン７２、７４を形成した。
前記配線パターン７２および７４は、めっきスルーホール７６を介してフレキシブル基板５２上に形成された配線パターン５３、５４に電気的に接続される（図１０(g)参照）。
【０１６６】
(8)さらに、ソルダーレジスト層を形成した後、ルータにて外形加工を行って、基板表裏面の屈曲部５５付近にそれぞれ拡張パターン５６、５７を有するフレックスリジッド配線板３００Bを製造した。
【実施例４２】
【０１６７】
屈曲部における配線パターンの一部を、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）となるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（２８５μｍ）となるようにした。
【実施例４３】
【０１６８】
屈曲部における配線パターン５３、５４の一部を、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターン５６、５７に形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３７５μｍ）となるようにした。
【実施例４４】
【０１６９】
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、図４(c)に示すように、線幅が最大１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍〜６倍の範囲（４７５μｍ）となるようにした。
【実施例４５】
【０１７０】
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、図４(c)に示すように、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３８５μｍ）となるようにした。
【実施例４６】
【０１７１】
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、図４(c)に示すように、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍〜６倍の範囲（５７５μｍ）となるようにした。
【実施例４７】
【０１７２】
屈曲部における３本の配線パターンのうち、図４(d)に示すように、両側に位置する配線パターンの一部を、線幅が最大１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成し、中央の配線パターンの一部を、線幅が最大１．５倍（１００×１．５＝１５０μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３８５μｍ）となるようにした。
【実施例４８】
【０１７３】
屈曲部における３本の配線パターンのうち、図４(d)に示すように、両側に位置する配線パターンの一部を、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成し、中央の配線パターンの一部を、線幅が最大１．０５倍（１００×１．０５＝１０５μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（２９５μｍ）となるようにした。
【実施例４９】
【０１７４】
屈曲部における３本の配線パターンのうち、図４(d)に示すように、両側に位置する配線パターンの一部を、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように片側に膨出した形状の拡張パターンに形成し、中央の配線パターンの一部を、線幅が最大２．０倍（１００×２．０＝２００μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の４倍以内（３９０μｍ）となるようにした。
【参考例１４】
【０１７５】
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、図４(c)に示すように、線幅が最大２．５倍（１００×２．５＝２５０μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の６倍を超える（６７５μｍ）ようにした。
【参考例１５】
【０１７６】
屈曲部における各配線パターンを、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、線幅方向に膨らんだ領域、即ち、図４(c)に示すように、線幅が最大３．０倍（１００×３．０＝３００μｍ）になるように両側に膨出した形状の拡張パターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
なお、３本の隣接する拡張パターンの中心間距離（ｄ）が、配線パターンの幅の６倍を超える（７７５μｍ）ようにした。
【実施例５０】
【０１７７】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５１】
【０１７８】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５２】
【０１７９】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５３】
【０１８０】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５４】
【０１８１】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５５】
【０１８２】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５６】
【０１８３】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５７】
【０１８４】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５８】
【０１８５】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例５９】
【０１８６】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲであるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６０】
【０１８７】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６１】
【０１８８】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／３であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６２】
【０１８９】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６３】
【０１９０】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６４】
【０１９１】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６５】
【０１９２】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が１．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６６】
【０１９３】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．０倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６７】
【０１９４】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．０倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６８】
【０１９５】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．０倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例１６】
【０１９６】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例１７】
【０１９７】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが８ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例１８】
【０１９８】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が２．５倍であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１０ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例１９】
【０１９９】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１．５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例２０】
【０２００】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／２であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例２１】
【０２０１】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１．５ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／４であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例２２】
【０２０２】
屈曲部における各配線パターンを、幅方向に湾曲された、線幅が同一であるパターンに形成し、その湾曲されたパターンが、半径Ｒが１２ｍｍであるような円弧であり、かつそのパターンの最大湾曲部から前記非屈曲部の配線パターンまでの最短距離XがＲ／４であるようなパターンに形成した以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例６９】
【０２０３】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．0μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７０】
【０２０４】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７１】
【０２０５】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７２】
【０２０６】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ５．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例５１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７３】
【０２０７】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ５．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例５４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７４】
【０２０８】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ５．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例５７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７５】
【０２０９】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ１．５μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７６】
【０２１０】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ１．５μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７７】
【０２１１】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ１．５μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７８】
【０２１２】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ２０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例５１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例７９】
【０２１３】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ３０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例５４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【実施例８０】
【０２１４】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ６０μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１００μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例５７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例２３】
【０２１５】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１５μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例２４】
【０２１６】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１００μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ４．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の片面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４４と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例２５】
【０２１７】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１５μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例４７と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【参考例２６】
【０２１８】
フレキシブル基板を作製する出発材料として、厚さ１００μｍのガラスクロス（ガラス繊維の平均太さ７．０μｍ）にエポキシ系樹脂を含浸、乾燥させてなる絶縁性基材１１の両面に、厚さが１８μｍの銅箔１２を加熱プレスして、エポキシ系樹脂を硬化させてなる厚さ１５０μｍの両面銅張積層板を用いた以外は、実施例５１と同様にして、フレックスリジッド配線板３００Ｂを製造した。
【０２１９】
以上説明したように、フレキシブル基板とリジッド基板との電気的接続が塊状導電体を介して行われる形態の実施例１〜３９、参考例１〜１３、比較例１〜２およびフレキシブル基板とリジッド基板との電気的接続がめっきスルーホールを介して行われる形態の実施例４０〜８０、参考例１４〜２６について、それぞれ以下の（１）および（２）のような評価試験を行なうと共に、各例の屈曲部における屈曲半径（ｍｍ）を測定した。
【０２２０】
なお、各例において、フレキシブル基板の屈曲部における隣り合う配線の中心間距離（ｄ）が、配線幅の４倍以内の場合には○、配線幅の４倍〜６倍の範囲にある場合には△、配線幅の６倍を超える場合には×、で示した。
【０２２１】
（１）導通試験
フレキシブル基板の折り曲げを３回繰り返した後に、フレキシブル基板の導体回路の配線パターンの電気的導通の有無を調べた。その導通試験の結果を表１〜３および表４〜６に示す。なお、電気的導通が有れば○とし、無ければ×とした。
【０２２２】
（２）信頼性（耐折性）評価試験
JIS C5016に準拠するMIT testを実施した。この試験は、フレキシブル基板の折り曲げを繰り返し行い、フレキシブル基板の導体回路の配線パターンが断線するまでの回数を測定したもので、その試験結果を表１〜３および表４〜６に示す。なお、断線までの折り曲げ回数が５０以上である場合には、◎とし、３０以上である場合には、○とし、２９以下である場合には、△とし、１５以下の場合には、×とした。
【０２２３】
【表１】
【０２２４】
【表２】
【０２２５】
【表３】
【０２２６】
【表４】
【０２２７】
【表５】
【０２２８】
【表６】
【０２２９】
以上の試験結果から、実施例１〜９（実施例４１〜４９）および参考例１，２（参考例１４，１５）については、広幅の拡張パターンほど導通試験および信頼性試験の結果が良好で、断線がしにくく、耐折性に優れていることがわかった。また、屈曲半径についても、０．０５０〜０．０５５ｍｍの範囲内であるため、屈曲具合も大きく、一定になっていると判断することができる。また、屈曲部の配線密度について、拡張パターンの幅が、非屈曲部の配線パターンの幅の２倍以下である場合には、配線密度に影響を与えないが、２倍を超えると、拡張パターン同士のクリアランスを確保できないので配線密度を低下させてしまうこともわかった。
これに対して、線幅を拡張しない比較例１や、線幅を縮小した比較例２では、屈曲半径が０．０６０〜０．０６２ｍｍと比較的に大きく、導通試験の結果も良好であるが、信頼性（耐折性）が低いということがわかった。
また、実施例１０〜２８（実施例５０〜６８）および参考例３〜９（参考例１６〜２２）については、湾曲パターンの湾曲度（曲率半径）が大きいほど、また湾曲パターンの膨らみが大きいほど、断線がしにくく、耐折性に優れていることがわかった。また、屈曲半径についても、０．０５０〜０．０５３ｍｍの範囲内であるため、屈曲具合も大きく、一定になっていると判断することができる。
さらに、実施例２９〜４０（実施例６９〜８０）および参考例１０〜１３（参考例２３〜２６）については、ガラスクロスの厚さが薄いほど、また基材の厚さが薄いほど、断線がしにくく、耐折性に優れていることがわかった。また、屈曲半径についても、０．０５０〜０．０５２ｍｍの範囲内であるため、屈曲具合も大きく、一定になっていると判断することができる。
【産業上の利用可能性】
【０２３０】
以上説明したような、本発明にかかるフレックスリジッド配線板は、折りたたみ式の携帯電話等の携帯用電子機器に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【０２３１】
【図１】図１は、本発明にかかるフレックスリジッド配線板を説明するための概略図である。
【図２】湾曲パターンまたは拡張パターンが形成される配線パターンがフレキシブル基板の片面に形成されることを示す概略図である。
【図３】湾曲パターンまたは拡張パターンが形成される配線パターンがフレキシブル基板の両面に形成されることを示す概略図である。
【図４】(a)は、湾曲パターンの一態様を示す概略図、(b)は、拡張パターンの一態様を示す概略図、(c)は、拡張パターンの他の態様を示す概略図、(d)は、拡張パターンの更に他の態様を示す概略図である。
【図５】フレキシブル基板の表面および裏面に形成される湾曲パターンあるいは拡張パターンの配置関係を示す図である。
【図６】(a)〜(c)は、本発明の実施例１にかかるフレックスリジッド配線板のフレキシブル基板を製造する工程を示す図である。
【図７】(a)〜(f)は、同じく、実施例１にかかるフレックスリジッド配線板のリジッド基板を製造する工程を示す図である。
【図８】(a)〜(b)は、同じく、実施例１にかかるフレックスリジッド配線板を構成するフレキシブル基板とリジッド基板とを積層する工程を示す図である。
【図９】本発明の実施例１にかかるフレックスリジッド配線板を示す図である。
【図１０】(a)〜(g)は、本発明の実施例３５にかかるフレックスリジッド配線板を製造する工程を示す図である。
【図１１】従来のフレックスリジッド配線板の断面構造を示す概略図である。
【符号の説明】
【０２３２】
１１ 絶縁性基材（ガラスクロス＋樹脂）
１２ 銅箔
１３ 非屈曲部の配線パターン
１４ 樹脂製カバーレイ
１５ 開口
１６ 接続用電極パッド
１８ 拡張パターン
２１ 絶縁性基材
２２ 銅箔
２４、２６ 開口
２８ 銅めっき層
３２、３４ 導体回路
３６ 接続用電極パッド
４０ コーン形状突起（半田バンプ）
５２ 絶縁性基材
５３ 非屈曲部の配線パターン
５６、５７ 拡張パターン
５８ 樹脂製カバーレイ
６０ プリプレグ
６４ 銅箔
６６ 貫通孔
７０ 銅めっき層
７２、７４ 導体回路
７６ めっきスルーホール
１００Ａ フレキシブル基板
２００Ａ リジッド基板
３００Ａ フレックスリジッド配線板
３００Ｂ フレックスリジッド配線板
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| 【出願人】 |
【識別番号】００００００１５８
【氏名又は名称】イビデン株式会社
【住所又は居所】岐阜県大垣市神田町２丁目１番地
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| 【出願日】 |
平成１６年６月１０日（２００４．６．１０） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００８０６８７
【弁理士】
【氏名又は名称】小川 順三
【識別番号】１０００７７１２６
【弁理士】
【氏名又は名称】中村 盛夫
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| 【公開番号】 |
特開２００５−３５３８２７（Ｐ２００５−３５３８２７Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１７年１２月２２日（２００５．１２．２２） |
| 【出願番号】 |
特願２００４−１７２６７９（Ｐ２００４−１７２６７９） |
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