| 【発明の名称】 |
セダム吹付工法 |
| 【発明者】 |
【氏名】福間 晋作
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| 【要約】 |
【課題】工賃や維持管理のコストを抑えることができるセダム植付工法を提供する。
【解決手段】 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】
成長したセダムを穂先から第１節又は第２節のところでカットしてセダム苗を、予め基盤上に敷設した植生基盤土に直接吹付けて施工することを特徴とするセダム吹付け工法。
【請求項２】
成長したセダムを穂先から第１節又は第２節のところでカットしてセダム苗を培土と混合した上、予め基盤上に敷設した植生基盤土に吹付けることを特徴とするセダム吹付け工法。
【請求項３】
成長したセダムを穂先から第１節又は第２節のところでカットしてセダム苗を培土と混合した上、基盤上に吹付けることを特徴とするセダム吹付け工法。
【請求項４】
上記セダム苗には、ツルマンネン草、ウンゼンマンネン草、丸葉マンネン草等の他栄養繁殖で増殖する植物を用いることを特徴とする請求項１乃至請求項３記載のいづれかのセダム吹付け工法。
【請求項５】
該セダム苗は生長ホルモン液と天然性糊剤液に浸したものを使用した請求項１乃至請求項４記載のいづれかのセダム吹付け工法。
【請求項６】
上記予め基盤上に敷設した植生基盤土は、略３ｃｍ前後とすることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のセダム吹付工法。
【請求項７】
上記植生基盤土の下部には、防根膜を配置させることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のセダム吹付工法。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明が属する技術分野】
この発明は、緑化を簡易且つ低コストで進めることのできるセダムの吹付工法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、法面・斜面（以下法面という）の緑化を進める上での植生工法は、法面上に植物を直接植付けて行う「直植工法」あるいは植物の種子（発芽生命体の一種）や肥料などを一体化したシート状物を法面上に敷設する「張芝工法」、土砂などの固体粒子内に種を蒔く「播種工法」等様々な工法があるが、中でも生育基盤材である培土とともに植物の種子等の発芽生命体を法面上に吹付ける、いわゆる「吹付工法」は最も盛んに行われている植生工法である。
【０００３】
近年、住宅造成地や道路網の発達により切土法面部が土砂と石礫を呈している所が多く見られる。しかし、こうした法面・斜面などの裸地部は時間の経過とともに風化浸食による不安定度を増し、浸食、落石、崩壊、地滑りなどの現象に発展しやすい。こうした現象は法面・斜面の直上、直下に災害の危険性を増大させるだけではなく、その周辺の施設、山林、及び、下流域の河川、農業市街地などへの影響を及ぼす可能性がある。
【０００４】
また、こうした裸地部は目につきやすく、自然生態系や地域の環境にも著しい影響を及ぼすことがある。このように自然との調和及び自然環境の保全・復元といった観点から緑化に対する社会のニーズが高まっており、国土の開発や整備を行うにあたり、基本計画の段階から周辺環境に対しての配慮が必要である。
このような社会的背景のもと、法面の緑化においては単に緑の量を増やすだけでなく、それのもつ機能を多角的に活かすことが必要である。法面の緑化を進める上での基本条件はセダムの生育基板が安定していることである。セダムを用いた緑化は侵食を防止する効果はあっても、法面崩壊などの構造的な崩壊の防止にはならないからである。
【０００５】
しかし、播種工法は発芽率が大変低く、苗や発芽・発根した苗床装置の移植による法面緑化工法は工賃が高くつくという問題があった。
【０００６】
更に、法面工・斜面工には地質や気象条件に応じて維持管理を続ける必要が生じるものが多い。法面・斜面は一般的に面積、形状及び工種が多様なことから点検、補修などの維持管理が十分に実行されにくくなる場合が多い。また、維持管理の方法や頻度はそれぞれに異なり、多額の経費を伴うことになる。そこで、種々の発明が提案されており、例えば、下記の特許文献１乃至特許文献３にその技術が提案されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−３３０６２２号公報
【０００８】
【特許文献２】特開２００３―６４６８５号公報
【０００９】
【特許文献３】特開２００２―２８１８２０号公報
【００１０】
特許文献１記載の技術は、繁殖力に優れたイワダレソウのほふく茎を１〜６ｃｍで切断することにより、１ｃｍに切断したものは種子と同様に扱うことができ、６ｃｍ以下に切断したものは汎用の吹付け機械を用いて吹付け作業を行うことができるとする発明である。ただこれは利用分野が限定されるイワダレソウ属である。
【００１１】
特許文献２記載の技術は、セダムの植物苗の吹付けにより法面緑化工法であるが、ここで用いられる苗は基盤土と混合したものを吹付ける工法である。しかし、セダムのどの部位を使用するかの限定の記述はなく、また、工法に多くの工数を要しコストがかかる上、活着率は必ずしも満足できるものではない。
【００１２】
特許文献３記載の技術は、植物栄養体（セダムを切断したものを含む）と土壌を混合したものを吹付けることで０．２〜３．０ｃｍ程度の緑化基盤を形成したり、種子を含まない１〜５ｃｍ程度の厚みを有する植生基盤に、植物栄養体を装置を用いて０．２ｍｍ〜３．０ｃｍ程度の厚みを有する緑化基盤を形成するように吹付けることによる緑化工法である。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明の課題は、工賃や維持管理のコストを抑えることができるセダム植付工法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成するために、以下の手段を講じた。即ち、
請求項１記載のセダム吹付け工法は、成長したセダムを穂先から第１節又は第２節のところでカットしてセダム苗を、予め基盤上に敷設した植生基盤土に直接吹付けて施工することを特徴とする。
請求項２記載のセダム吹付け工法は、成長したセダムを穂先から第１節又は第２節のところでカットしてセダム苗を培土と混合した上、予め基盤上に敷設した植生基盤土に吹付けることを特徴とする。
【００１５】
請求項３記載のセダム吹付け工法は、成長したセダムを穂先から第１節又は第２節のところでカットしてセダム苗を培土と混合した上、基盤上に吹付けることを特徴とする。
請求項４記載のセダム吹付け工法は、請求項１乃至請求項３記載のいづれかの手段において、上記セダム苗には、ツルマンネン草、ウンゼンマンネン草、丸葉マンネン草等の他栄養繁殖で増殖する植物を用いることを特徴とする。
【００１６】
請求項５記載のセダム吹付け工法は、請求項１乃至請求項４記載のいづれかの手段において、セダム苗は生長ホルモン液と天然性糊剤液に浸したものを使用したことを特徴とする。
請求項６記載のセダム吹付け工法は、請求項１又は請求項２記載の手段において、上記予め基盤上に敷設した植生基盤土は、略３ｃｍ前後とすることを特徴とする。
請求項７記載のセダム吹付け工法は、請求項１又は請求項２記載の手段において、上記植生基盤土の下部には、防根膜を配置させることを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】
（セダム）
セダム属は、世界に３００種ほどあり、耐乾性・耐寒性があり塩害にも強く極めて強健であり、繁殖力も旺盛で水分及び肥料の要求量が少なく、やせ地や薄層土壌でも粗放な管理で３ヶ月間水を与えなくても生育可能な特性を持っており、緑化材料として用いられている。本発明の植生対象として好ましい吹付用セダムにはツルマンネン草、ウニゼンマン草、タイトゴメ、その他栄養繁殖で増殖する植物を用いる。これはいずれも横方向へ根が伸びていくほふく性の種類のものである。
【００１８】
（セダム苗）
本発明の用いる植付けの対象となるセダム苗は、茎が太くて充実した芽から採取した苗を使用することが必要である。セダム苗は、セダムの芽から苗を第１節又は第２節からから切り離し、このセダム苗を吹き付け工法で、植生基盤土２上（図１乃至図３参照）、或いは、直接基盤１上（図４参照）に散布することになる。
セダム苗を得るに当っては、節芽から新芽が新しい発根をさせるだけの栄養補給を行えるだけの大きさになったものを選別し、さらにその節から下部にある第１節（多くは第２節まで）を長さ２ｃｍ以下に切断したものを使用する。この手段で、後述の実施例２（図３）において、セダム苗がミキシングの機械中でダンゴ状になることを防ぐことができる。また、上記のように第１節又は第２節から切り離した苗を使う理由は、活着率が高く、切り離した切り口から発根するからである。
【００１９】
セダムの種類の内で、メキシコ、タイトゴメの場合は地面と第一節の距離が離れるので、５ｍｍ〜１ｃｍの培土とミキシングの後に一緒に吹付ければ使用可能であるが、この二種類に関しては苗だけの吹付けは困難である。なお、植付けに当っては、発根を促進するために生長ホルモン液と天然性糊剤液に浸した芽を使用しても良い。苗を前記のように生長ホルモン液に浸し、ベントナイトのような微粉末をまぶして使うと新しい幼根を日焼けから防ぐことができ活着率が向上する。
【００２０】
【実施例１】
本発明の実施例１について図面を参照しながら説明する。図１は実施例１（コンクリート基盤対象）の断面図である。実施例１のセダム吹付け工法は、法面を対象としており、法面である基盤１はコンクリート層で固められており、この法面に固化性培土を３ｃｍ〜４ｃｍ盛り植生基盤土２とする。ここで使用する植生基盤土２は、肥沃土が高く植物苗が生育できるものであれば特に限定されるものではない。そこに第２節から切り離したセダム苗３を従来の散布機を利用して吹付ける。この植生基盤土２の固化性培土は吹付け前に散水し活着し易い状態にしておく。ここで植生基盤土２の層を略３ｃｍ前後の厚さとしたのは、夏の乾燥期に飛来してきた雑草の種が発芽しても枯死するようにするためである。
【００２１】
また、法面が急傾斜であったり風の強い斜面などの場合は、必要に応じてセダム苗の吹付後に、小さい目（１〜５ｍｍ角）のネットをかけ、略２週間後の根の活着後にネットを外すことも苗の落下を防ぐために有効な手段である。植生基盤１が水平面である場合はネットをかける必要はなく、上から粒子の細かい土を１〜２ｍｍの厚みでかけてやれば十分である。
【００２２】
通常は吹付後３〜５日で発根し、１２日後には活着する。この活着するまでの吹付後１２日間において、乾燥が激しく降雨が無い時期には３日に一度の散水をするのが望ましい。また、吹付後の繁茂を早めたい場合には吹付けから１ヶ月後に０．２ｃｍ〜０．５ｃｍ厚で固化性培土を吹付けると良い。
【００２３】
【試験例】
上記実施例１に従って、セダムの各種類の苗を用いて１年にわたって実施例１に係る苗だけの吹付工法を行い、活着率を調査した。その結果は下記（表１）の通りである。
【００２４】
【表１】
【００２５】
（試験結果）
上記表１の試験結果から理解できることは、「ツルマンネン」、「ウンゼンマンネン」、「丸葉マンネン」の活着率が高いこと、その吹き付け時期は、１２月〜２月上旬、及び、７月上旬〜９月中旬は活着率が悪いため施工に不向きであること、などがわかった。特に、ウンゼンマンネンは、穂先から第１〜第２節まで１ｃｍ以下であることから、散布時の損傷が少なく、発芽率が特に高いことがわかった（この点は、メキシコマンネンと対照的であった）。
【００２６】
（別例）
次に、実施例１の別例について図２を用いて説明する。図２は同実施例１の別例（切土対象）の断面図である。実施例２は、切土からなる下土１ａの上に、防根シート、網目ネット、モルタルなどの防根膜４を敷設した上に、３ｃｍ〜３．５ｃｍの植生基盤土２となる固化性培土を盛り、そのうえに第１節又は第２節より切り離したセダム苗のみを散布する工法である。
【００２７】
【実施例２】
次に実施例２について図３を用いて説明する。コンクリート層からなる基盤１の上にラス（金属ネット）又は網目ネットを張り付け、その上に３ｃｍ〜３．５ｃｍの植生基盤土２となる固化性培土を盛り、そこに第１節又は第２節より切り離したセダム苗と培土とを所定の割合で機械でミキシングしたもの（「培土混合苗５」という）を０．５〜１ｃｍの厚さの層をなすように散布する。これには従来の散布機が利用できる。この工法ではネットがけは不要となる。また、実施例２においても、図２に示すように、植生基盤土２と基盤（コンクリート層）１の間に透過性のある防根シート（膜）４を敷いても良い。また、上記ラス又は網目ネットの敷設は、基盤１と植生基盤土２との一体性を向上させるものであり、基盤１上面の形状や傾斜角によっては必ずしも必要としない。
【００２８】
以上のような工法を取ることで、発芽率はきわめて高くなり無駄がなく、工賃においては１平方ｍ当たり１．５万円〜２万円であったものが４０００円程度（労賃が安くなれば、更に低コスト）で可能となる。しかも、該セダムの苗は冷蔵庫での保存性が良く、また、切断した苗は軽量であるため輸送コストが少なくてすむ。なお、植生に当っては、自然本来の多様性を再現するため、また、予期しない天候時の枯れを防止するためにも数種類のセダムを混播することが好ましい。また、本発明は、法面だけでなく、補修用・平面・景観修復・屋上などにも施工できることは言うまでもない。
【００２９】
【実施例３】
なお、上記実施例１，２のほかに、基盤１上に植生基盤土２を敷設することなく上記培土混合苗５を直接散布することもできる。この場合は更に工数が少なくなるという効果がある。
【００３０】
【発明の効果】
本発明は上記構成により、工費及び維持費を抑えることができ、しかも簡便なセダム植付工法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る実施例１の断面図。
【図２】同実施例１の別例の断面図。
【図３】本発明に係る実施例２の断面図。
【図４】本発明に係る実施例３の断面図。
【符号の説明】
１・・基盤 １ａ・・下土 ２・・植生基盤土
３・・セダム苗 ４・・防根膜（シート）５・・培土混合苗
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| 【出願人】 |
【識別番号】５００１１５６０８
【氏名又は名称】福間 晋作
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| 【出願日】 |
平成１５年４月１４日（２００３．４．１４） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１００１０５３８２
【弁理士】
【氏名又は名称】伴 正昭
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| 【公開番号】 |
特開２００４−３１３０４０（Ｐ２００４−３１３０４０Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１６年１１月１１日（２００４．１１．１１） |
| 【出願番号】 |
特願２００３−１０８９１０（Ｐ２００３−１０８９１０） |
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