| 【発明の名称】 |
ＦＰＤ用基板表面処理方法及びその装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】梅谷 正昭
【住所又は居所】新潟県長岡市高見町５４９番地１ 株式会社エムティジェー内
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| 【要約】 |
【課題】紫外線ランプが不要となって製造コストの低減を図ることができると共に紫外線ランプの交換によるマシンのダウンタイムの発生を無くすことができ、作業性の向上を図ることができる。
【解決手段】ＦＰＤ用基板Ｋの表面の濡れ性の改質又は汚れ物質の除去をなすため、プラズマ処理室１内に上記基板が通過移送する通過間隙Ｈを置いて対向配置された一対の電極２・２と、一対の電極間に大気圧下又は減圧下でプラズマを発生させるプラズマ発生手段３とを備えてなる。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 ＦＰＤ用基板の表面の濡れ性の改質又は汚れ物質の除去をなすための表面処理方法であって、対向配置された一対の電極間に大気圧下又は減圧下でプラズマを発生させ、該プラズマが発生している該一対の電極間の通過間隙に上記基板を移送させ、該基板の表面にプラズマ処理をなすことを特徴とするＦＰＤ用基板表面処理方法。
【請求項２】 上記基板を一対の電極間の通過間隙で浮上状態で通過移送させることを特徴とする請求項１記載のＦＰＤ用基板表面処理方法。
【請求項３】 ＦＰＤ用基板の表面の濡れ性の改質又は汚れ物質の除去をなすための表面処理装置であって、プラズマ処理室内に上記基板が通過移送する通過間隙を置いて対向配置された一対の電極と、該一対の電極間に大気圧下又は減圧下でプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを備えてなることを特徴とするＦＰＤ用基板表面処理装置。
【請求項４】 上記基板を一対の電極間の通過間隙で浮上状態で通過移送させる浮上機構を備えてなることを特徴とする請求項３記載のＦＰＤ用基板表面処理装置。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬ、カラーフィルタ等のＦＰＤ（ｆｌａｔ ｐａｎｅｌ ｄｉｓｐｌａｙ）製造プロセスに用いられるＦＰＤ用基板表面処理方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のＦＰＤ用基板Ｋ、例えば液晶ディスプレイの基板製造プロセスとして、図６に示す如く、（イ）ガラス基板Ｇ上にアルミニューム等の金属膜Ｄをスパッタリング、ＣＶＤ法により形成し（ロ）、ウエットエッチングにおいて、金属膜Ｄ上にフォトレジストＦを塗布し（ハ）、フォトマスクＭを介して露光現像し（ニ、ホ、へ）、そして、エッチング処理した後にフォトレジストＦを剥離アッシングするプロセス（ト、チ）が存在する。そして、上記露光現像（ニ、ホ、へ）とエッチング処理（ト）との間において、紫外線ランプを用いて表面の濡れ性の親水性と発水性の改質処理をなし、その後のウエットエッチング処理（ト）を良化するようにしている。
【０００３】又、その後に、絶縁兼配向膜等の上部膜を塗布したり、カラーフィルタの製造プロセスにあっては、ＲＧＢフィルタ層、オーバーコート層を塗布するプロセスも存在する。このようなプロセスにおいては、ＲＧＢフィルタ層、オーバーコート層を塗布形成する前において、エアーの吹き付け等により表面に存在する有機物や自然酸化膜等の汚れ物質を除去するようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来のＦＰＤ製造プロセスにおいては、紫外線ランプを用いて表面の濡れ性の親水性と発水性の改質処理をなすことから、紫外線ランプが高価格であること及び紫外線ランプの交換によるマシンのダウンタイムの発生により作業性の低下が余儀なくされ、又、エアーの吹き付け等では表面に存在する有機物や自然酸化膜等の汚れ物質を良好に除去することができず、品質の低下が生ずることがあるという不都合を有している。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこれらの不都合を解決することを目的とするものあり、本発明のうちで、請求項１記載の方法の発明は、ＦＰＤ用基板の表面の濡れ性の改質又は汚れ物質の除去をなすための表面処理方法であって、対向配置された一対の電極間に大気圧下又は減圧下でプラズマを発生させ、該プラズマが発生している該一対の電極間の通過間隙に上記基板を移送させ、該基板の表面にプラズマ処理をなすことを特徴とするＦＰＤ用基板表面処理方法にある。
【０００６】又、請求項２記載の方法の発明は、上記基板を一対の電極間の通過間隙で浮上状態で通過移送させることを特徴とするものである。
【０００７】又、請求項３記載の装置の発明にあっては、ＦＰＤ用基板の表面の濡れ性の改質又は汚れ物質の除去をなすための表面処理装置であって、プラズマ処理室内に上記基板が通過移送する通過間隙を置いて対向配置された一対の電極と、該一対の電極間に大気圧下又は減圧下でプラズマを発生させるプラズマ発生手段とを備えてなることを特徴とするＦＰＤ用基板表面処理装置にある。
【０００８】又、請求項４記載の発明にあっては、上記基板を一対の電極間の通過間隙で浮上状態で通過移送させる浮上機構を備えてなることを特徴とするものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】図１乃至図５は本発明の実施の形態例を示し、図１乃至図３は第一形態例、図４は第二形態例、図５は第三形態例である。
【００１０】図１乃至図３の第一形態例において、１はプラズマ処理室であって、プラズマ処理室１内にＦＰＤ用基板Ｋが通過移送する通過間隙Ｈを置いて一対の電極２・２を対向配置し、プラズマ処理室１内は大気圧下又は減圧下とされ、かつ、プラズマ処理室１内は不活性ガス雰囲気下とされている。
【００１１】３はプラズマ発生手段であって、一対の電極２・２間にプラズマを発生させる電気回路を備えてなる。
【００１２】この実施の第一形態例は上記構成であるから、例えば、図２の如く、上記図６に示す露光現像（へ）とエッチング処理（ト）との間において、対向配置された一対の電極２・２間に大気圧下又は減圧下でプラズマを発生させ、プラズマＰが発生している一対の電極間２・２の通過間隙Ｈに上記ＦＰＤ用基板Ｋを移送させ（リ）、基板Ｋの表面にプラズマ処理をなすことにより、基板Ｋの表面の濡れ性の改質処理をなしてその後のウエットエッチング処理（ト）を良化することができ、このため、紫外線ランプが不要となって製造コストの低減を図ることができると共に紫外線ランプの交換によるマシンのダウンタイムの発生を無くすことができ、作業性の向上を図ることができ、又、例えば、図３の如く、上記図６に示すウエットエッチング処理（ト）後（チ）にプラズマ処理（ヌ）することにより表面に存在する汚れ物質Ｅを除去することができ、絶縁兼配向膜等の上部膜ＮやＲＧＢフィルタ層、オーバーコート層の形成（ル）が良好になされ、基板品質の向上を図ることができる。
【００１３】図４の第二形態例は別例構造を示し、この場合、上記第一形態例に浮上機構４を更に備えた構造であり、即ち、プラズマ処理室１の前後に案内ロール４ａ・４ａを配置すると共に下側の電極２に複数個のガス吹出口４ｂ・４ｂを形成し、ガス吹出口４ｂ・４ｂに図外のガス供給源を接続し、ガス吹出口４ｂ・４ｂから不活性ガス等のガスＱを吹き出すことによりＦＰＤ用基板Ｋを一対の電極間２・２の通過間隙Ｈ間で浮上状態で通過移送させるように構成している。
【００１４】この第二形態例にあっては、上記浮上機構４により上記ＦＰＤ用基板Ｋを一対の電極２・２間の通過間隙Ｈで浮上状態で通過移送させることにより、基板Ｋを電極２・２に接触することなく、小さな通過間隙Ｈ内を良好に通過移送させることができ、それだけ基板Ｋのプラズマ処理を良好に行うことができる。
【００１５】図５の第三形態例は別例構造を示し、この場合、上記第二形態例の浮上機構４の案内ロール４ａ・４ａに代えてガス吹出ノズル４ｃ・４ｃを備えた構造であり、即ち、プラズマ処理室１の前後にガス吹出ノズル４ｃ・４ｃを配置すると共に下側の電極２に複数個のガス吹出口４ｂ・４ｂを形成し、ガス吹出ノズル４ｃ・４ｃ及びガス吹出口４ｂ・４ｂに図外のガス供給源を接続し、ガス吹出ノズル４ｃ・４ｃ及びガス吹出口４ｂ・４ｂからガスＱを吹き出すことによりＦＰＤ用基板Ｋを一対の電極間２・２の通過間隙Ｈ間で浮上状態で通過移送させるように構成している。
【００１６】この第三形態例にあっては、上記浮上機構４により上記ＦＰＤ用基板Ｋを一対の電極２・２間の通過間隙Ｈで浮上状態で通過移送させることにより、基板Ｋを電極２・２に接触することなく、小さな通過間隙Ｈ内を良好に通過移送させることができ、それだけ基板Ｋのプラズマ処理を良好に行うことができる。
【００１７】尚、本発明は上記実施の形態例に限られるものではなく、プラズマ処理室１、電極２、プラズマ発生手段３、浮上機構４の構造や構成等は適宜変更して設計される。
【００１８】
【発明の効果】本発明は上述の如く、請求項１又は３記載の発明にあっては、例えば、露光現像とエッチング処理との間において、対向配置された一対の電極間に大気圧下又は減圧下でプラズマを発生させ、プラズマが発生している一対の電極間の通過間隙にＦＰＤ用基板を移送させ、基板の表面にプラズマ処理をなすことにより、基板の表面の濡れ性の改質処理をなしてその後のエッチング処理を良化することができ、このため、紫外線ランプが不要となって製造コストの低減を図ることができると共に紫外線ランプの交換によるマシンのダウンタイムの発生を無くすことができ、作業性の向上を図ることができ、又、例えば、エッチング処理後にプラズマ処理することにより表面に存在する汚れ物質を除去することができ、絶縁兼配向膜等の上部膜やＲＧＢフィルタ層、オーバーコート層の形成が良好になされ、基板品質の向上を図ることができる。
【００１９】又、請求項２又は４記載の発明にあっては、浮上機構によりＦＰＤ用基板を一対の電極間の通過間隙で浮上状態で通過移送させることにより、基板を電極に接触することなく、小さな通過間隙内を良好に通過移送させることができ、それだけ基板のプラズマ処理を良好に行うことができる。
【００２０】以上所期の目的を充分達成することができる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】３０１０４２３０９
【氏名又は名称】株式会社エムティジェー
【住所又は居所】新潟県長岡市高見町５４９番地１
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| 【出願日】 |
平成１３年７月１７日（２００１．７．１７） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００９２６９１
【弁理士】
【氏名又は名称】黒田 勇治
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| 【公開番号】 |
特開２００３−３１５５０（Ｐ２００３−３１５５０Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１５年１月３１日（２００３．１．３１） |
| 【出願番号】 |
特願２００１−２１７００４（Ｐ２００１−２１７００４） |
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