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【発明の名称】 光ディスク記録媒体およびその製造方法
【発明者】 【氏名】堀米 秀嘉
【住所又は居所】神奈川県横浜市港北区新横浜２−５−１ 日総第１３ビル７階 株式会社オプトウェア内

【氏名】木下 昌治
【住所又は居所】神奈川県横浜市港北区新横浜２−５−１ 日総第１３ビル７階 株式会社オプトウェア内

【氏名】田中 善喜
【住所又は居所】茨城県真壁郡明野町宮後２１９３ メモリーテック株式会社内

【氏名】高谷 佳弘
【住所又は居所】茨城県真壁郡明野町宮後２１９３ メモリーテック株式会社内
【要約】 【課題】高い再生効率で、且つ高い記録密度でホログラムを記録することができる光ディスク記録媒体を提供する。

【解決手段】一方の面に物理的なプリフォーマットが施された第１の基板１１と、この第１の基板１１のプリフォーマットが施された面上に形成された反射膜１２と、反射膜１２の上に形成された厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透明層１３と、この透明層１３との間に所定の間隔を空けて配置された透明体からなる第２の基板１５と、透明層１３と第２の基板１５との間に充填されたホログラム記録用の記録層１４とを備えた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 一方の面に物理的なプリフォーマットが施された第１の基板と、この第１の基板のプリフォーマットが施された面上に形成された反射膜と、前記反射膜の上に形成された厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透明層と、この透明層との間に所定の間隔を空けて配置された透明体からなる第２の基板と、前記透明層と前記第２の基板との間に充填されたホログラム記録用の記録層とを備えたことを特徴とする光ディスク記録媒体。
【請求項２】 一方の面に物理的なプリフォーマットが施された厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透明フィルムと、この透明フィルムのプリフォーマットが施された面上に形成された反射膜と、前記反射膜を介して前記透明フィルムを保持する第１の基板と、前記透明フィルムとの間に所定の間隔を空けて配置された透明体からなる第２の基板と、前記透明層と前記第２の基板との間に充填されたホログラム記録用の記録層とを備えたことを特徴とする光ディスク記録媒体。
【請求項３】 前記透明層の厚さは、約２００μｍであることを特徴とする請求項１または２記載の光ディスク記録媒体。
【請求項４】 前記第１および第２の基板の厚さは、０．５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の光ディスク記録媒体。
【請求項５】 第１の基板の一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、前記第１の基板のエンボスピットが形成された面に反射膜を形成する工程と、前記第１の基板の前記反射膜が形成された面上に厚さ５０μｍ〜４３０μｍの透明層を形成する工程と、前記透明層が内側に配置されるように、前記第１の基板と所定の間隔を空けて透明な第２の基板を配置する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板との間にホログラム記録用の記録材料を充填して記録層を形成する工程とを備えたことを特徴とする光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項６】 前記透明層を形成する工程は、透明フィルムを前記第１の基板の前記反射膜が形成された面上に接着する工程であることを特徴とする請求項５記載の光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項７】 ５０μｍ〜４３０μｍの透明フィルムの一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、前記透明フィルムのエンボスピットを形成した面に反射膜を形成する工程と、前記透明フィルムを前記反射膜を介して第１の基板に接着する工程と、前記透明フィルムが内側に配置されるように、前記第１の基板と所定の間隔を空けて透明な第２の基板を配置する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板との間にホログラム記録用の記録材料を充填して記録層を形成する工程とを備えたことを特徴とする光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項８】 前記記録材料を充填する工程は、前記第１および第２の基板の間の空間を減圧して前記記録材料を充填する工程であることを特徴とする請求項５または７記載の光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項９】 第１の基板の一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、前記第１の基板のエンボスピットが形成された面に反射膜を形成する工程と、厚さ５０μｍ〜４３０μｍの透明板をホルダの上面に固定してその上に液体状の記録材料を塗布し、その上から透明な第２の基板を押し付けて前記透明板と第２の基板との間に前記記録材料からなる記録層を形成してなる三層構造体を形成する工程と、前記反射膜が形成された第１の基板と前記三層構造体とを前記反射膜および透明板を内側にして張り合わせる工程とを備えたことを特徴とする光ディスク記録媒体の製造方法。
【請求項１０】 前記反射膜を形成する工程で形成された反射膜の上に、保護膜を形成する工程を更に含むことを特徴する請求項５，７または９記載の光ディスク記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ホログラムを記録するための記録層を有する光ディスク記録媒体およびその製造方法に関し、特にデフォーカス用の透明層を介して記録層とプリフォーマットされた反射層とが対向する光ディスク記録媒体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ホログラムによって光ディスク記録媒体に情報を超高密度で記録するホログラフィック記録方式が知られている。このホログラフィック記録方式では、イメージ情報を担持する情報光と記録用参照光とを光ディスク記録媒体の内部の記録層内で重ね合わせて干渉縞パターンを生成し、この干渉縞パターンを光ディスク記録媒体の記録層に記録することによってイメージ情報の書き込みが行われる。記録された干渉縞パターンから情報を再生する場合には、その光ディスク記録媒体中に記録された干渉縞パターンに書込時と同様の再生用参照光を照射し、干渉縞パターンによって回折を生じさせてイメージ情報を再生する。
【０００３】近年では、光ディスク記録媒体の記録層の厚み方向も利用して、干渉縞パターンを３次元的に書き込むことにより、記録密度を更に増加させるようにしたボリュームホログラフィの開発が注目されている。このボリュームホログラフィによる記録方式を利用し、更に多重記録を行うことによって情報の記録容量を飛躍的に増大させることができる。
【０００４】このようなボリュームホログラフィによる光ディスク記録媒体への情報記録及び再生に係る装置及びその方法が、国際公開番号ＷＯ９９／４４１９５号に開示されている。本発明を理解するために、同公開公報に記載のボリュームホログラフィを記録する光ディスク記録媒体について簡単に説明する。図１３に示すように、光ディスク記録媒体１０１は、円形の透明基板１０１ａ，１０１ｂの間にホログラム記録用の記録層１０１ｃを設けると共に、透明基板１０１ｂの記録層１０１ｃとは反対側の面に反射膜１０１ｄを形成し、これらを基板１０１ｅと貼り合わせて構成され、反射膜１０１ｄには、光ディスク記録媒体１０１の半径方向に複数のアドレスサーボ領域が所定の角度間隔で配列され、周方向に並ぶこれらアドレスサーボ領域間には、情報記録領域が設けられている。アドレスサーボ領域には、フォーカスサーボ制御やトラッキングサーボ制御を行うためのサーボ情報及び情報記録領域に対するアドレス情報が、予めエンボスピット１０１ｆによって記録（プリフォーマット）してある。
【０００５】光ディスク記録媒体の具体的な構成としては、透明基板１０１ａ，１０１ｂが、例えば５００μｍ程度の厚みを有し、記録層１０１ｃが、例えば２００μｍの厚みを有している。記録層１０１ｃは、レーザ光で所定時間照射されたときに、レーザ光の強度に応じて屈折率、誘電率及び反射率等の光学特性が変化するホログラム記録材料によって形成されている。
【０００６】ボリュームホログラフィによる記録層１０１ｃへの記録の一例としては、図示のように、記録すべき情報を担持する情報光１１１と記録用参照光１１２とが記録層１０１ｃ内において、厚み方向の干渉縞を生成するように、透明基板１０１ａ側から情報光１１１と記録用参照光１１２とを同時に所定時間照射して、記録層１０１ｃ内に干渉縞パターンを立体的に定着させることにより情報を立体的なホログラムとして記録する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、記録層１０１ｃに記録すべき情報は、図１４に示すような空間光変調器１１３により与えられる二次元的に配列された情報パターンである。この情報パターンは、空間光変調器を構成する二次元配列された各ドット１１４の光の透過・非透過を制御することにより得られる。この場合、ホログラム面上には、ドット１１４の配列ピッチｐDとレンズの焦点距離ｆおよび記録光の波長λで決定される周期でスパイク状の光強度分布が得られ、これが線形的記録を阻害する。このため、従来は、ホログラム面を焦点距離から若干ずらすことにより、光強度分布を平均化するデフォーカス法が用いられる。また、特にエンボスピット１０１ｆが形成された記録媒体の場合、記録層１０１ｃとエンボスピット１０１ｆとがあまり近いと、ホログラム記録再生上不都合を生じる。このため、記録層１０１ｃと反射膜１０１ｄとの間には、所定の厚さの透明基板１０１ｂが挿入される。
【０００８】しかしながら、透明基板１０１ｂの厚みが厚すぎると、記録されるホログラムの径Ｄが大きくなりすぎてしまい、記録密度が低下してしまう。また、記録密度を高めようとすると、隣接するホログラム同士のオーバーラップが生じる。１００％の回折効率が得られるホログラムをいくつ多重化できるかを示す数値をＭナンバーと呼び、このＭナンバーは記録材料によって決定される。ホログラムの多重化数をＭとすれば、再生効率ηは、Ｍナンバーを多重化数Ｍで割った値の二乗に比例する。このため、再生効率を高めるためには、極力多重化数Ｍを減らすことが必要である。このためには、透明基板１０１ｂが適切な厚みであることが必要である。
【０００９】本発明は、このような点に鑑みなされたもので、高い再生効率が得られ、且つ高い記録密度での記録が可能な光ディスク記録媒体およびその製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明に係る第１の光ディスク記録媒体は、一方の面に物理的なプリフォーマットが施された第１の基板と、この第１の基板のプリフォーマットが施された面上に形成された反射膜と、前記反射膜の上に形成された厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透明層と、この透明層との間に所定の間隔を空けて配置された透明体からなる第２の基板と、前記透明層と前記第２の基板との間に充填されたホログラム記録用の記録層とを備えたことを特徴とする。
【００１１】また、本発明に係る第２の光ディスク記録媒体は、一方の面に物理的なプリフォーマットが施された厚さが５０μｍ〜４３０μｍの透明フィルムと、この透明フィルムのプリフォーマットが施された面上に形成された反射膜と、前記反射膜を介して前記透明フィルムを保持する第１の基板と、前記透明フィルムとの間に所定の間隔を空けて配置された透明体からなる第２の基板と、前記透明層と前記第２の基板との間に充填されたホログラム記録用の記録層とを備えたことを特徴とする。
【００１２】ここで、透明層の厚さが５０〜４３０μｍに規定されているのは、以下の理由による。すなわち、いま、図１４に示された空間光変調器１１３の各ドットの直径をｄDとすると、１つの円形ドットが与える回折パターンは、次式で与えられる。
【００１３】
【数１】
Ｅ（θ）＝Ｊ1（ｄDθｒ／λ）／（ｄDθｒ／λ）
【００１４】ここで、図１５に示すように、Ｊ1（ｘ）／ｘは、Airy関数と呼ばれ、sinｘ／ｘと波形的には類似するが、最初の零点がｘ＝±１．２２に現れる関数である。従って、ホログラムが少なくとも回折パターンの最初の零点間の情報は全部収めるものと仮定すると、その最小径ｄHは、次式で与えられる。
【００１５】
【数２】ｄH＝２．４４ｆλ／ｄD【００１６】但し、ｆはレンズの焦点距離、λは記録光の波長である。ここで、波長λとして現在利用可能なものは、３９０ｎｍ〜６５０ｎｍである。また、レンズの焦点距離としては３ｍｍが平均的である。更に、空間光変調器１１３のドットの直径ｄDとしては、１３．７μｍまたは１７μｍが使用されている。従って、λ＝６５０ｎｍ、ｄD＝１３．７μｍとすると、【００１７】
【数３】
ｄH＝２．４４×３×１０-3×６５０×１０-9／１３．７×１０-6 ≒３４７μｍ【００１８】となる。同様に、λ＝３９０ｎｍ、ｄD＝１７μｍとすると、【００１９】
【数４】
ｄH＝２．４４×３×１０-3×３９０×１０-9／１７×１０-6 ≒１６８μｍ【００２０】となる。光ディスク記録媒体の内部の屈折率ｎ≒１．５２とすると、媒体内では波長が１／１．５２倍になるので、【００２１】
【数５】■λ＝６５０ｎｍ、ｄD＝１３．７μｍの場合ｄH≒２２８μｍ■λ＝３９０ｎｍ、ｄD＝１７μｍの場合ｄH≒１１０μｍ【００２２】となる。ここで、図１６に示すように、レンズ１１５のＮＡ（開口数）＝０．５とすると、θ0＝３０°である。ただし、媒体内部では、スネルの法則により、【００２３】
【数６】ｎ0sinθ0＝ｎ1sinθ1ｎ0＝１．０（空気），ｎ1＝１．５２（ガラス）
【００２４】であるから、【００２５】
【数７】
θ1＝sin-1（sinθ0／ｎ1）
＝sin-1（ＮＡ／ｎ1）
≒１９．２°【００２６】ここで、２ε≒ｄHという経験則に従うと、【００２７】
【数８】■λ＝６５０ｎｍ、ｄD＝１３．７μｍの場合２ε≒２２８μｍ■λ＝３９０ｎｍ、ｄD＝１７μｍの場合２ε≒１１０μｍ【００２８】従って、焦点面からホログラム形成面までの距離Δｆは次のように求められる。
【００２９】
【数９】■λ＝６５０ｎｍ、ｄD＝１３．７μｍの場合Δｆ＝（２２８／２）（１／tan１９．２°）
≒３２７μｍ■λ＝３９０ｎｍ、ｄD＝１７μｍの場合Δｆ＝（１１０／２）（１／tan１９．２°）
≒１５８μｍ【００３０】通常、記録層の厚みは、２００μｍであるから、ホログラム面（焦点位置からΔｆだけ離れた位置）を記録層の中心当たりに位置させるとすれば、透明層の厚みは、５０μｍ〜４３０μｍとなる。また、ベストモードをλ＝５３２ｎｍ、ｄD＝１３．７μｍとすると、【００３１】
【数１０】
２ε＝ｄH ＝２．４４×３×１０-3×５３２×１０-9 ／（１．５２×１３．７×１０-6）
≒１８７μｍ【００３２】従って、Δｆは、【００３３】
【数１１】
Δｆ＝（１８７／２）（１／tan１９．２°）
≒２６８μｍ【００３４】となる。よって、透明層の厚みは、約２００μｍがベストモードである。また、記録層を安定に保持するためには、第１および第２の基板の厚さは、０．５ｍｍ以上であることが望ましい。
【００３５】本発明に係る第１の光ディスク記録媒体の製造方法は、第１の基板の一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、前記第１の基板のエンボスビットが形成された面に反射膜を形成する工程と、前記第１の基板の前記反射膜が形成された面上に厚さ５０μｍ〜４３０μｍの透明層を形成する工程と、前記透明層が内側に配置されるように、前記第１の基板と所定の間隔を空けて透明な第２の基板を配置する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板との間にホログラム記録用の記録材料を充填して記録層を形成する工程とを備えたことを特徴とする。
【００３６】ここで、透明層を形成する工程は、例えば透明フィルムを、第１の基板の反射膜が形成された面上に接着する工程である。
【００３７】また、本発明に係る第２の光ディスク記録媒体の製造方法は、５０μｍ〜４３０μｍの透明フィルムの一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、前記透明フィルムのエンボスピットを形成した面に反射膜を形成する工程と、前記透明フィルムを前記反射膜を介して第１の基板に接着する工程と、前記透明フィルムが内側に配置されるように、前記第１の基板と所定の間隔を空けて透明な第２の基板を配置する工程と、前記第１の基板と前記第２の基板との間にホログラム記録用の記録材料を充填して記録層を形成する工程とを備えたことを特徴とする。
【００３８】なお、これらの光ディスク記録媒体の製造方法において、記録材料を充填する工程は、例えば第１および第２の基板の間の空間を減圧して記録材料を充填する工程である。
【００３９】本発明の光ディスク記録媒体の製造方法によれば、透明層と第２の基板との間に先ず記録層を充填するのではなく、透明層が第１の基板上に形成されてから、第１の基板と第２の基板との間に記録材料の充填がなされるため、透明層を５０〜４３０μｍと薄くした場合でも、第１の基板の存在により、記録材料の充填を支障なく行うことができる。
【００４０】また、本発明の第３の光ディスク記録媒体の製造方法は、第１の基板の一方の面上にエンボスピットを形成する工程と、前記第１の基板のエンボスピットが形成された面に反射膜を形成する工程と、厚さ５０μｍ〜４３０μｍの透明板をホルダの上面に固定してその上に液体状の記録材料を塗布し、その上から透明な第２の基板を押し付けて前記透明板と第２の基板との間に前記記録材料からなる記録層を形成してなる三層構造体を形成する工程と、前記反射膜が形成された第１の基板と前記三層構造体とを前記反射膜および透明板を内側にして張り合わせる工程とを備えたことを特徴とする。
【００４１】
【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。図１は、この発明の一実施形態に係る光ディスク記録媒体を説明するための図である。図１に示すように、円板状の光ディスク記録媒体１は、周方向に分割された複数のフレーム２（この例では、フレーム＃００〜＃９７）を備え、これら各フレーム２は、更に周方向に分割された複数のセグメント３（この例では、セグメント＃００〜＃１３）から構成されている。各セグメント３は、サーボ領域６と、一部の隣接するサーボ領域６間を除いてはホログラム記録領域７とを備え、一部の隣接するサーボ領域６間（この例では、セグメント＃００のサーボ領域６とセグメント＃０１のサーボ領域６間）には、アクセス位置を示すアドレス情報が記録されたアドレス領域８が形成されている。
【００４２】各サーボ領域６には、光ディスク記録・再生装置における各種の動作のタイミングの基準となるサーボクロックピットと、例えばサンプルド・サーボ方式によってフォーカスサーボ及びトラッキングサーボを行うためのサーボピットとが予めエンボスピットにより記録されている。アドレス領域８には、プリ・アンブル、同期マーク、アドレスパート、エンドアドレスマーク、ポスト同期マーク及びポスト・アンブルが予めエンボスピットにより記録されている。ホログラムの記録の際には、このアドレス領域８にプリフォーマットされている情報を利用して、各ホログラム記録領域７の情報記録位置に対する光ヘッドからの情報光、記録用参照光及び再生用参照光の照射位置の位置合わせを行う。光ディスク記録・再生装置は、サーボ領域６に記録されているサーボクロックピット及びサーボピットを利用してフォーカシングやトラッキングを行うと共に、アドレス領域８に記録されているアドレス情報を検出して各ホログラム記録領域７における情報光、記録用参照光及び再生用参照光の照射位置を合わせている。ホログラム記録領域７は、エンボスビットによる物理フォーマットが施されていないミラー領域である。
【００４３】図２は、この光ディスク記録媒体１の拡大した部分断面図である。光ディスク記録媒体１は、図中下から順に、円形の第１の基板１１、反射膜１２、透明層１３、記録層１４および第２の基板１５を積層して構成されている。第１の基板１１と透明層１３の間の反射膜１２の部分には、アドレス情報やサーボ情報等を示すエンボスピット１６が形成されている。第１の基板１１としては、厚さ０．６〜１．２ｍｍのガラスまたはポリカーボネート等の樹脂が使用される。反射膜１２は、例えばＡｌの蒸着層である。透明層１３は、厚さ５０〜４３０μｍ、好ましくは２００μｍで、透明度が高く、複屈折が少なく、吸水率が小さいポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ガラス等が用いられる。記録層１４はレーザ光で所定時間照射されたときに、レーザ光の強度に応じて屈折率、誘電率及び反射率等の光学特性が変化するホログラム記録材料によって形成されており、例えばデュポン（Dupont）社製のフォトポリマ（Photopolymers）ＨＲＦ−６００（製品名）等が使用される。この記録層１４は、厚さ約２００μｍに設定されている。第２の基板１５としては、厚さ０．５ｍｍのガラスまたはポリカーボネート等の樹脂が使用される。
【００４４】次に、このように構成された光ディスク記録媒体１の製造方法について説明する。図３は、第１の実施形態に係る光ディスク記録媒体１の製造工程を示すフローチャート、図４および図５は、同実施形態における光ディスク記録媒体１の製造工程に沿った部分拡大断面図である。先ず、図４（ａ）に示すように、第１の基板１１上にエンボスピット１６を形成する（Ｓ１１）。第１の基板１１がガラス基板である場合には、例えばガラス基板の上にＵＶ（紫外線）硬化樹脂をエンボスピットの凹凸の深さに相当する厚み分だけ塗布し、図示しないスタンパをＵＶ硬化樹脂に押し当てながら、反対側からＵＶを照射することによりエンボスピットを形成することができる。また、第１の基板１１がポリカーボネート等の樹脂の場合には、直接モールド成形によってエンボスピット付きの基板を形成することができる。
【００４５】次に、図４（ｂ）に示すように、第１の基板１１のエンボスピット１６が形成された面にＡｌの蒸着などによって反射膜１２を形成する（Ｓ１２）。続いて、図４（ｃ）に示すように、第１の基板１１の反射膜１２が形成された面に、厚さ２００μｍの樹脂フィルムを透明な接着剤１７を用いて接着することにより透明層１３を形成する。なお、透明層１３は、膜厚が制御可能であれば、スピンコート等により形成することもできる。続いて、図５（ａ）に示すように、透明層１３が形成された第１の基板１１と約２００μｍの間隔を空けて、第２の基板１５を配置する（Ｓ１４）。そして最後に、図５（ｂ）に示すように、透明層１３と第２の基板１５との隙間に、記録材料を充填して記録層１４を形成する（Ｓ１５）。
【００４６】図６および図７は、記録材料の具体的な充填方法を説明するための図である。図６（ａ），（ｂ）に示すように、透明層１３が形成された円形の第１の基板１１と円形の第２の基板１５との間は、その外周部および内周部に挿入されたスペーサ１７によって所定の隙間１８を確保する。外周部のスペーサ１７の一部は開口部１９となっており、この開口部１９を介して隙間１８と外部とが連通している。
【００４７】このように形成されたディスク１´を真空チャンバ２１内に収容する。真空チャンバ２１内には、更に記録材料である液体感光剤２２を満たした容器２３が配置される。この状態で真空ポンプを駆動して真空チャンバ２１内を減圧する。この場合、第１の基板１１と第２の基板１５に挟まれた隙間１８も開口部１９を介して外部と同圧となるので、圧力による反り等は発生しない。
【００４８】真空チャンバ２１内を所定圧まで減圧したら、ディスク１´の開口部１９を液体感光剤２２の液面よりも少し沈める。そして、真空チャンバ２１内の圧力を常圧に戻す。この場合、ディスク１´の隙間１８は、減圧されたままなので、液体感光剤２２は隙間１８に吸い上げられる。隙間１８に液体感光剤２２が行き渡ったら、ディクス１´を真空チャンバ２１内から取り出し、接液部に付着している感光剤を拭き取る。ここで、開口部１９と反対側に小さい気泡が残る可能性がある。その場合には、開口部１９を上にして、暫く放置する。これにより気泡が開口部１９を介して外部に放射される。最後に、開口部１９のみに強い紫外線を照射し、感光剤を硬化させて開口部１９を防ぐ。
【００４９】図８は、第２の実施形態に係る光ディスク記録媒体１の製造工程を示すフローチャート、図９は、同実施形態における光ディスク記録媒体１の製造工程に沿った部分拡大断面図である。先ず、図９（ａ）に示すように、２００μｍの樹脂フィルム３１の下面にエンボスピット３２を形成する（Ｓ２１）。例えば、樹脂フィルム３１の下面にＵＶ硬化樹脂３３を塗布し、スタンパ３４を押し当てて、エンボスピット３２を形成する。続いて、図９（ｂ）に示すように、透明フィルム３１のエンボスピット３２を形成した面に、反射膜１２をＡｌ蒸着などにより形成する（Ｓ２２）。そして、エンボスピット１６が形成された樹脂フィルム３１を、接着剤３５を介して第１の基板１１上に接着する（Ｓ２３）。以後の工程は、先の実施形態と同様であるため、詳しい説明は割愛する。
【００５０】図１０は、第３の実施形態に係る光ディスク記録媒体１の製造工程を示すフローチャート、図１１および図１２は、同実施形態における光ディスク記録媒体１の製造工程に沿った部分拡大断面図である。先ず、第１の実施形態と同様の方法で、第１の基板１１上にエンボスピット１６を形成する（Ｓ３１）。次に、第１の実施形態と同様の方法で、第１の基板１１のエンボスピット１６が形成された面にＡｌの蒸着などによって反射膜１２を形成する（Ｓ３２）。
【００５１】次に、５０〜４３０μｍの透明層１３と第２の基板１５との間に記録層１４が形成された三層構造体を作成する（Ｓ３３）。この三層構造体は、例えば次のように作成することができる。すなわち、図１１（ａ）に示すように、上下に対向するホルダ４１，４２のうち、下側ホルダ４１の上に、５０〜４３０μｍ、好ましくは２００μｍの透明層１３を形成する円板状で中心孔４３ａを有するガラス等からなる透明板４３を配置し、エアーの吸引力によって透明板４３を保持する。また、上側ホルダ４２の下面に厚さ５００μｍ程度の円板状で中心孔１５ａを有する第２の基板１５を配置し、第２の基板１５をエアーの吸引力によって保持する。透明板４３の内周部と外周部には、約２００μｍの厚みを有するスペーサ４４を装着しておく。記録層１４を形成する液体状の記録材料４５を透明板４３の所定の半径位置にリング状に塗布し、上側ホルダ４２に保持された第２の基板１５を透明板４３に押し付けて、記録材料４５を第２の基板１５と透明板４３の間の２００μｍの隙間に記録材料４５を薄く伸ばして充填する。このようにして三層構造体４６が形成される。
【００５２】次に、図１２に示すように、エンボスピット１６および反射膜１２が形成された第１の基板１１を、反射膜１２を上にして回転テーブル５１の上に中心位置決めして装着し、反射膜１２側の最内周部と最外周部とに両面接着テープ４７を貼り付け、反射膜１２側の最内周部に、例えばエポキシ系接着剤や嫌気性瞬間接着剤等の液体状の接着剤４８をリング状に塗布する。次に、接着剤４８が塗布された第１の基板１１の上に、上側ホルダ５１に保持されていた三層構造体４６を透明層１３が下になるように乗せ、回転テーブル５１を回転させると、接着剤４８は遠心力により外側に流れて行き、反射膜１２の全面に広がる。そして、接着剤４８が固化することにより、反射膜１２が形成された第１の基板１１と三層構造体４６とが張り合わされる。
【００５３】なお、以上の各実施形態では、透明層１３を２００μｍとしたが、５０〜４３０μｍの間で任意の厚さとすることができる。また、第１の基板１１や樹脂フィルム３１の表面に反射膜１２を形成する場合、製造過程で反射膜１２の表面が腐食したり反射膜１２の表面に傷などが付かないように、反射膜１２の表面に保護膜を形成するようにしても良い。
【００５４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、記録層と反射膜との間の透明層の厚みを適切な値に設定したので、高い再生効率が得られ、且つ高い記録密度での記録が可能になるという効果を奏する。
【出願人】 【識別番号】５００１１２１７９
【氏名又は名称】株式会社オプトウエア
【住所又は居所】神奈川県横浜市港北区新横浜二丁目５番１号 日総第１３ビル７階
【識別番号】５９５０４７０２０
【氏名又は名称】メモリーテック株式会社
【住所又は居所】茨城県真壁郡明野町宮後２１９３
【出願日】 平成１４年５月７日（２００２．５．７）
【代理人】 【識別番号】１０００９２８２０
【弁理士】
【氏名又は名称】伊丹 勝
【公開番号】 特開２００３−３３１４６４（Ｐ２００３−３３１４６４Ａ）
【公開日】 平成１５年１１月２１日（２００３．１１．２１）
【出願番号】 特願２００２−１３１８６１（Ｐ２００２−１３１８６１）