| 【発明の名称】 |
現像剤担持体の表面処理方法、その表面処理方法を用いた現像剤担持体及び現像装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】嶋村 正良 【住所又は居所】東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤノン株式会社内
【氏名】後関 康秀 【住所又は居所】東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤノン株式会社内
【氏名】大竹 智 【住所又は居所】東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤノン株式会社内
【氏名】明石 恭尚 【住所又は居所】東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤノン株式会社内
【氏名】岡本 直樹 【住所又は居所】東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤノン株式会社内
【氏名】齊木 一紀 【住所又は居所】東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤノン株式会社内
【氏名】藤島 健司 【住所又は居所】東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤノン株式会社内
|
| 【要約】 |
【課題】電子写真感光体或いは静電記録誘電体の如き静電潜像保持体上に形成された静電潜像を現像して顕像化する際に用いられる現像剤担持体の表面処理方法、その表面処理方法を用いた現像剤担持体及び現像装置。
【解決手段】被覆層表面を、現像剤担持体内に配置された磁性発生手段によって該樹脂被覆層表面上に該樹脂被覆層の結着樹脂の硬度より硬い磁性粒子を担持させて該現像剤担持体を回転させることにより、該樹脂被覆層表面と該磁性粒子との摺擦力により該樹脂被覆層表面を処理することを特徴とする現像剤担持体の表面処理方法。 |