| 【発明の名称】 |
高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法 |
| 【発明者】 |
【氏名】沢津橋 精一
【住所又は居所】東京都千代田区丸の内３丁目３番１号 電気興業株式会社内
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| 【要約】 |
【課題】１つの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数の２周波の高周波加熱電力を同時に供給して、被加熱体の表面からの加熱深さを任意に調整する。
【解決手段】本発明の方法は、被加熱体２を高周波誘導加熱する際に、前記被加熱体２の表面からの加熱深さを調整する方法である。前記被加熱体２に使用される１つの高周波加熱コイル３に、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して、前記被加熱体２を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比又は配分比率に変え、又は前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体２の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
【請求項２】 被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
【請求項３】 被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比に変え、かつ前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
【請求項４】 前記２周波のうち、前記低い周波数が０．５ｋＨｚ〜５０ｋＨｚ未満であり、前記高い周波数が５０ｋＨｚ〜８００ｋＨｚであることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
【請求項５】 前記方法に使用される装置が、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱ゴイルに、低い周波数と高い周波数の２周波の高周波電力のうち、いずれか一方の周波数の高周波電力により前記被加熱体を高周波誘導加熱中、任意の時間、他方の周波数の高周波電力を前記一方の周波数の高周波電力と同時に供給して、前記被加熱体を加熱できる装置であることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
【請求項６】 被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数とを含む３周波以上の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力の配分を、任意の配分比に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
【請求項７】 被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数とを含む３周波以上の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
【請求項８】 被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数とを含む３周波以上の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力の配分を、任意の配分比に変え、かつ前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することを特徴とする高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属材からなる被加熱体を高周波誘導加熱するとき、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の高周波誘導加熱における加熱深さの調整方法にあっては、１台の高周波加熱コイルにひとつの周波数の高周波電力を供給する誘導加熱方法であるが、前記被加熱体の表面から、ある加熱深さを得るためには、その加熱深さに相当する高周波電流浸透深さとなる周波数を選定する必要があった。図８は、鋼材のオーステナイト領域における、周波数と高周波電流浸透深さ（以下、単に浸透深さという）の関係を示す。
【０００３】図８において、例えば、必要とする加熱深さが７．０ｍｍの場合は、浸透深さが７．０ｍｍ程度の周波数として５ｋＨｚを、必要とする加熱深さが３．５ｍｍの場合は、浸透深さが３．５ｍｍ程度の周波数として２０ｋＨｚを、また必要とする加熱深さが１．５ｍｍの場合は、１２５ｋＨｚを、さらに必要とする加熱深さが１．０ｍｍの場合は、浸透深さが１．０ｍｍ程度の周波数として２００ｋＨｚを選定することになる。このため、必要な加熱深さに応じて専用の高周波発振機を用意するか、１台で複数の周波数を切り替えて出力可能な高周波発振機を使用し、必要な加熱深さに応じた周波数を選択する方法が通例である。
【０００４】また、加熱深さを深くする場合には、加熱時間を延長し、被加熱体内での熱伝導を利用する方法をとる場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従来の技術では、１台の高周波発振機で複数の周波数を切り替えて出力させる場合、多くても３種類の周波数が限度であり、得られる加熱深さが段階的になるという問題点がある。
【０００６】又は、必要な加熱深さの範囲が広い場合（例えぱ、７．０ｍｍから１．０ｍｍ）は、前記必要な加熱深さの範囲に対応する周波数帯がかけ離れてしまい（例えば、５ｋＨｚから２００ｋＨｚ）、１台の高周波発振機で周波数を切り替える構造をとることが困難で、それぞれの周波数に対して専用の発振機が必要になるが、発振機の台数分、その設置スペースが必要となり現実的ではない。
【０００７】また、必要な加熱深さに対して浸透深さの小さい（浅い）高い周波数で加熱時間を延ばして加熱した場合、加熱深さを得ることができても、前記被加熱体に流れる高周波誘導電流は、該被加熱体の表面に集中するため表面近傍は過熱されてしまうという問題点もある。
【０００８】他方、必要な加熱深さに対して浸透深さの大きい（深い）低い周波数で加熱時問を短縮して加熱した場合は、被加熱領域が充分に昇温されず、例えば、焼入の場合は必要硬さが得られないという問題点が生ずる。
【０００９】本発明はかかる点を鑑みなされたもので、その目的は前記問題点を解消し、使用されるひとつの高周波加熱コイルに供給する、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給し、又は供給しながら、被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に、かつ容易に調整することができる高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法を提案することにある。
【００１０】本発明の他の目的は、高周波電源設備のコストを低減するとともに、その設置スペースが小さくできる高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法を提案することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するための本発明の構成は、被加熱体を高周波誘導加熱するに際し、前記被加熱体の表面からの加熱深さを調整する方法において、次のようである。
【００１２】前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比又は配分比率に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。
【００１３】前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。
【００１４】前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比又は配分比率に変え、かつ前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。
【００１５】前記２周波のうち、前記低い周波数が０．５ｋＨｚ〜５０ｋＨｚ未満であり、前記高い周波数が５０ｋＨｚ〜８００ｋＨｚである方法である。
【００１６】前記方法に使用される装置が、前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱ゴイルに、低い周波数と高い周波数の２周波の高周波電力のうち、いずれか一方の周波数の高周波電力により前記被加熱体を高周波誘導加熱中、任意の時間、他方の周波数の高周波電力を前記一方の周波数の高周波電力と同時に供給して、前記被加熱体を加熱できる装置である方法である。
【００１７】前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数とを含む３周波以上の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力の配分を、任意の配分比又は配分比率に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。
【００１８】前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数とを含む３周波以上の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。
【００１９】前記被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数とを含む３周波以上の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力の配分を、任意の配分比又は配分比率に変え、かつ前記３周波以上のそれぞれの周波数の高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整する方法である。
【００２０】本発明の高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法は、以上のように構成されているので、前記２周波の低い周波数の高周波電力と高い周波数の高周波電力の配分を、任意の配分比に変えたり、又は前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間をそれぞれ独立して任意に変えたり、また、本方法に使用される２周波による高周波加熱装置装置（本出願人により、既に特願２００１−１６１８２０号にて提案）により、前記２周波のうち、低い周波数の加熱電力と高い周波数の加熱電力のうち、いずれか一方の周波数の加熱電力により前記被加熱体を高周波加熱中、任意の時間、他方の周波数の加熱電力を前記一方の周波数の加熱電力と同時に供給、又は前記一方の周波数の加熱電力に重畳して、前記被加熱体を高周波誘導加熱を行うことにより、前記被加熱体表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整することができる。
【００２１】また、前記被加熱体表面からの加熱深さは、前記高い周波数の高周波電流浸透深さと加熱時間の長さに応じた熱伝導分の深さの和と、前記低い周波数の高周波電流浸透深さと加熱時間の長さに応じた熱伝導分との深さの和との範囲内で任意に、又は連続的に変化させ、調整することができる。
【００２２】本発明の加熱深さ調整方法は前述のとおりであるので、高周波誘導加熱を利用する広範な分野に採用可能で、応用の範囲が広い。特に、前記２周波のうち高い周波数の加熱電力と低い周波数の加熱電力との配分や、前記２周波の加熱電力のそれぞれの加熱時間を適宜調整することで、加熱深さを連続的に変化させ、又は調整できるので、加熱部分の過熱又は温度不足を伴うことなく、必要とする加熱深さを加熱することができる。また、高周波電源として、２周波共用の加熱用高周波発振機が１台ですむため、設備コストを低く抑えることができ、設置スペースも前記発振機１台分ですむというメリットがある。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の好適な実施の形態を例示的に詳しく説明する。図１は、本発明の高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法の一実施の形態を示す図で、前記加熱深さ調整方法の実施に用いられる高周波誘導加熱装置の説明構成図である。
【００２４】図１において、前記加熱深さ調整方法を行うために使用される高周波誘導加熱装置１は、金属材、例えば鋼系材からなる円柱形状の被加熱体２に装着されるひとつの高周波加熱ゴイル３に対して、２周波高周波電源としての２周波発振機４から２周波の高周波加熱電力を供給する。そして前記被加熱体２の外周部をある所定の焼入温度まで加熱した直後に、図示しない冷却液噴射部から、加熱された前記外周面に向けて冷却液、例えば冷却水を噴射して、前記外周部の高周波焼入を行う。
【００２５】前記２周波発振機４は、低い周波数、例えば５．５ｋＨｚの高周波加熱電力を出力する第１の高周波電源部１１と、前記第１の高周波電源部１１から高周波電力を出力調整するとともに、該高周波電力を出力する加熱時間を任意に制御する（オン、オフする）制御部１２と、高い周波数、例えば２００ｋＨｚの高周波加熱電力を出力する第２の高周波電源部１２と、前記第２の高周波電源部１２から高周波電力を出力調整するとともに、該高周波電力を出力する加熱時間を任意に制御する（オン、オフする）制御部２２とからなっている。
【００２６】そして、前記被加熱体２に装着される前記高周波加熱ゴイル３に対して、前記２周波発振機４の前記第１の高周波電源部１１から出力される前記低いの周波数の高周波電力と、前記第２の高周波電源部２１から出力される前記高いの周波数の高周波電力との配分を、それぞれの前記制御部１２，２２により任意の配分比又は配分比率（加熱に要する全体高周波電力の、例えば％による配分）に変えたり、又は、前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間を、それぞれの前記制御部２１，２２により、それぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体２の表面からの加熱深さを任意に調整したり、又は連続的に調整することができる。
【００２７】また、前記高周波加熱ゴイル３に対して、前記２周波発振機４から出力される前記低いの周波数の高周波電力と前記高いの周波数の高周波電力との配分を、それぞれの前記制御部２１，２２により任意の配分比又は配分比率に変えるとともに、前記２周波のそれぞれの高周波電力による加熱時間を、それぞれの前記制御部２１，２２により、それぞれ独立して任意に変えることにより、前記被加熱体１の表面からの加熱深さを任意に調整したり、又は連続的に調整することもできる。
【００２８】以下に具体例を示す。前記２周波発振機４より低い周波数５．５ｋＨｚの加熱用高周波電力の出力と、高い周波数２００ｋＨｚの加熱用高周波電力の出力とのそれぞれ配分された出力と、前記それぞれの周波数における加熱時間とを、前記それぞれの制御部２１，２２により、適宜調整して前記高周波加熱コイル３に供給し、前記被加熱体２を焼入温度まで加熱する。その直後に該被加熱体２を冷却水により冷却して、焼入を施工し、該被加熱体２の表面からの硬化層深さを加熱深さとした。このとき、鋼材からなる前記被加熱体２の表面からの加熱深さとして、約１．０ｍｍ〜約７．０ｍｍが得られた。
【００２９】本具体例において、前記被加熱体２と前記２周波発振機４は、下記のとおりである。
金属製被加熱体…材質：Ｓ４５Ｃ焼準品 寸法：直径φ７６ｍｍ×高さ５０ｍｍ ２周波発振機 …出力：８０ｋＷ 周波数：５．５ｋＨｚ ２００ｋＨｚ【００３０】図２は、低い周波数５．５ｋＨｚの加熱出力を８０ｋＷ（１００％）、高い周波数２００ｋＨｚの加熱出力を０ｋＷ（０％）の配分とし、７．７０秒間加熱したときの焼入硬化層を示す。この時の硬化層深さは６．８ｍｍである。
【００３１】図３は、低い周波数５．５ｋＨｚの加熱出力を４０ｋＷ（５０％）、高い周波数２００ｋＨｚの加熱出力を４０ｋＷ（５０％）の配分とし、同時に５．６０秒間加熱したときの焼入硬化層を示す。この時の硬化層深さは３．９ｍｍである。
【００３２】図４は、低い周波数５．５ｋＨｚの加熱出力を０ｋＷ（０％）、高い周波数２００ｋＨｚの加熱出力を８０ｋＷ（１００％）の配分とし、１．９８秒間加熱したときの焼入硬化層を示す。この時の硬化層深さは１．２ｍｍである。
【００３３】図５は、図２から図４の結果をグラフ化したものである。図８の周波数と高周波電流浸透深さの関係を示す図と比較すると、本発明による加熱深さ調整方法によれぱ、周波数５．５ｋＨｚから２００ｋＨｚの範囲の電流浸透深さ、すなわち前記金属製被加熱体２の表面からの加熱深さを連続的に任意に調整可能であることが確認できる。
【００３４】図６は、図５において、加熱時間を７．００秒に一定にして、図２〜図４の場合と同様に、前記低い周波数５．５ｋＨｚの加熱出力と高い周波数２００ｋＨｚの加熱出力の配分のみを変化させて、同時に加熱した場合における、前記金属製被加熱体２の表面からの加熱深さの変化を示す図である。このように、２周波のそれぞれの加熱高周波出力の配分による加熱深さ調整方法によれぱ、周波数５．５ｋＨｚから２００ｋＨｚの範囲の電流浸透深さ、すなわち前記金属製被加熱体２の表面からの加熱深さを連続的に任意に調整可能であることが確認できる。
【００３５】以上の実施の形態の２周波としては、前記低い周波数が０．５ｋＨｚ〜５０ｋＨｚ未満であり、前記高い周波数が、５０ｋＨｚ〜８００ｋＨｚであるが、特に、前記高い周波数では、５０ｋＨｚ〜４００ｋＨｚが好ましく、さらには、５０ｋＨｚ〜３００ｋＨｚが最も好ましい。
【００３６】なお、前記実施の形態では、前記被加熱体２に使用されるひとつの高周波加熱コイル３に、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給する場合を示したが、前記２周波に限らずに、必要により、前記低い周波数と高い周波数に含めて、３、又は４，又は５以上の周波の高周波加熱電力を同時に供給可能であるため、前記３、又は４，又は５以上の周波にも適用される。この場合、前記被加熱体２を高周波加熱する高周波発振機４として、３以上の複数の周波の高周波電力を出力できる発振機を使用するか、又は前記高周波発振機４に併設して、他の１又は２周波の高周波電力を出力できる発振機を所要台数使用ればよい。
【００３７】次いで、前記高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法に使用される２周波高周波電源としての２周波発振機４の一例について、説明する。（この装置については、本出願人により既に特願２００１−１６１８２０号にて提案されている。）
図７は、前記２周波発振機４の回路図を含む構成図を示す。
【００３８】図７において、前記高周波誘導加熱装置１は、前記被加熱体２を、ひとつの高周波加熱コイル３を使用して、前記２周波発振機４から出力される、周波数の異なる２周波、例えば、５．５ｋＨｚと２００ｋＨｚの高周波電力により高周波誘導加熱する装置である。
【００３９】前記２周波発振機４は、前記２周波のうち、前記５．５ｋＨｚの低い周波数の加熱電力を出力する第１の高周波電源部１１と、該第１の高周波電源部１１の出力端子間に並列に接続される共振コンデンサＣ１と、前記第１の高周波電源部１１からの出力を、前記高周波加熱コイル３に供給するための第１の変成器Ｔ１と、前記２００ｋＨｚの高い周波数の加熱電力を出力する第２の高周波電源部２１と、該第２の高周波電源部２１からの出力を、直列に接続される共振コンデンサＣ２を介して、前記高周波加熱コイル３に供給するための第２の変成器Ｔ２と、前記第１、及び第２の高周波電源部１１，２１内にそれぞれ設けられ、前記電源部１１，２１の出力の配分をそれぞれ調整するとともに、それぞれの加熱時間を制御する（オン、オフする）制御部１２，２２とからなる。
【００４０】また、前記第１の変成器Ｔ1と前記高周波加熱コイル３との間に、前記第２の変成器Ｔ２の２次巻線が直列に接続されるように、接続されるとともに、該第１の変成器Ｔ１の２次側には、前記第２の高周波電源部２１からの高周波成分をバイパスするための高周波バイパスコンデンサＣ３が、並列に接続されている。
【００４１】図７の回路の主たる機能は、低い周波数の前記第１の高周波電源部１１からの電力を、高い周波数の前記第２の高周波電源部２１へ漏洩するのを防ぎながら、前記高周波加熱コイル３に加熱電力を供給するとともに、高い周波数の前記第２の高周波電源部２１がらの電力を、低い周波数の前記第１の高周波電源部１１へ漏洩するのを防ぎながら、前記高周波加熱コイル３に加熱電力を供給することにある。
【００４２】前記共振コンデンサＣ１は、前記第１の高周波電源部１１の出力端子間に並列に接続され、前記第１の変成器Ｔ１、前記高周波加熱コイル３及び被加熱体２を含めたインダクタンス成分と共振する静電容量値が選ぱれる。
【００４３】前記共振コンデンサＣ２は、前記第２の高周波電源部２１の出力側から直列に接続され、前記第２の変成器Ｔ２、前記高周波加熱コイル３及び前記被加熱体２を含めたインダクタンス成分と共振する静電容量値が選ぱれる。
【００４４】前記高周波バイパスコンデンサＣ３は、高い周波数の前記第２の高周波電源部２１からの高周波電流成分を、低い周波数の前記第１の高周波電源部１１の前記共振コンデンサＣ１に流さないようにバイパスさせるもので、該共振コンデンサＣ１の周波数特性が、高い周波数で損失が大きい場合に取り付ける。
【００４５】次に前記高周波加熱装置１の作用を説明する。前記第１、又は第２の高周波電源部１１，２１のうち、いずれか一方の前記高周波電源部１１（又は２１、以下、この段落番号中の記載は、括弧内同順）からの加熱電力により、前記高周波加熱コイル３を介して、前記被加熱体２を高周波加熱中、任意の時間、他方の前記高周波電源部２１（又は１１）からの加熱電力が、他方の前記制御部２２（又は１２）により、前記一方の高周波電源部１１（又は２１）から出力される加熱電力と同時に供給し、又は前記一方の高周波電源部１１（又は２１）から出力される加熱電力に重畳して、該高周波加熱コイル３を介して、前記被加熱体２を高周波加熱するのである。
【００４６】以上、本発明の一実施の形態について述べたが、本発明は、この実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及び変更が可能である。
【００４７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明の高周波誘導加熱における加熱深さ調整方法によれば、被加熱体に使用されるひとつの高周波加熱コイルに、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給して前記被加熱体を高周波誘導加熱するとともに、一方の周波数の高周波電力と他方の周波数の高周波電力との配分を、任意の配分比に変えることにより、前記被加熱体の表面からの加熱深さを任意に、又は連続的に調整するので、使用される１台の高周波加熱コイルに供給する、低い周波数と高い周波数との２周波の高周波加熱電力を同時に供給し、又は供給しながら、被加熱体の表面からの加熱深さを広範にわたり、任意に、又は連続的に、かつ容易に調整することができるとともに、過熱又は温度不足を伴うことなく、必要加熱深さに加熱することができ作業性をよくすることができるという優れた効果を奏する。
【００４８】また、本発明によれば、高周波誘導加熱用の高周波電源設備としての高周波発振機が１台ですむため、そのコストを低減できるとともに、その設置スペースも小さくできる。このため、産業上有益でな方法という優れた効果もあるということができる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００２１７６５３
【氏名又は名称】電気興業株式会社
【住所又は居所】東京都千代田区丸の内３丁目３番１号
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| 【出願日】 |
平成１４年５月２９日（２００２．５．２９） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００９９６２３
【弁理士】
【氏名又は名称】奥山 尚一 （外３名）
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| 【公開番号】 |
特開２００３−３４２６３３（Ｐ２００３−３４２６３３Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１５年１２月３日（２００３．１２．３） |
| 【出願番号】 |
特願２００２−１５４９７３（Ｐ２００２−１５４９７３） |
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