| 【発明の名称】 |
再帰反射領域が形成されたシート及び再帰反射領域の形成方法 |
| 【発明者】 |
【氏名】東口 繁二 【住所又は居所】東京都墨田区石原3丁目27番8号 株式会社宝來社内
【氏名】西宮 武志 【住所又は居所】東京都葛飾区四つ木4−20−6 有限会社西スクリーン内
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| 【要約】 |
【課題】低コストで効率よく注目性が高い領域を形成することができる再帰反射領域が形成されたシート及び再帰反射領域の形成方法を提供する。
【解決手段】基体10上にマーク12が印刷された印刷物13を用意し(工程A)、再帰反射を希望する予め定めた領域(再帰反射領域)に接着層(ホットメルト層14)をスクリーン印刷し(工程B)、準備シート15上に再帰反射ビーズ16が仮接着された再帰反射領域形成用シート20を載置した状態で、押圧加熱し(工程C)、準備シート15と再帰反射領域形成用シート20とを剥離し(工程D、E)、接着層(ホットメルト層14)に位置する残存した再帰反射ビーズ16を定着することで(工程F)、再帰反射シート24を得る。 |