| 【発明の名称】 |
アロエベラゲルを主成分とした化粧品 |
| 【発明者】 |
【氏名】立石 芳康
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| 【要約】 |
【課題】アロエの主成分特性である保湿作用等によって肌の潤い保持し、化粧くずれを防止する効果があるが、主成分が水、アルコールであり界面活性剤、着色料、香料、合成保存料を使用している化粧品は人によって肌荒れや皮膚病の原因ともなっている。
【解決手段】本発明は水、アルコール、界面活性剤、着色料、香料、合成保存料を使用せず、アロエベラゲルを主成分とすることによって肌の再生化、保湿性、収れん性、コラーゲン生成を促し、シミやニキビを取り除き、しわの防止、肌の再生化、抗菌作用、メラニン形成阻害作用効果を図るものである。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】ユリ科アロエ属植物より摘出したアロエベラゲルの液汁に1.3ブチレングリコール、グリセリン、ヒアルロン酸Ｎａを付加した、無香料、無着色、指定成分が含まれないことを特徴とする化粧品。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アロエベラゲルの液汁を主成分とした化粧品に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来からアロエベラの液汁を保湿剤として使われているが、主成分が水、アルコールであり界面活性剤、着色料、香料、合成保存料を使用している化粧品が開示されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述のような従来開示化粧品を使用すると、アロエの主成分特性である保湿作用等によって肌の潤い保持し、化粧くずれを防止する効果があることは周知の事実となっている。
【０００４】しかしながら、主成分が水、アルコールであり界面活性剤、着色料、香料、合成保存料を使用している化粧品は人によって肌荒れや皮膚病の原因ともなっている。
【０００５】しかるに本発明品の化粧品は上述の問題点を解決するとともに、アロエベラゲルを主成分することにより、保湿効果、しわの防止、肌の再生化、抗菌作用、メラニン形成阻害作用のより優れた効能を発揮するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は上記課題を解決するため、水、アルコール、界面活性剤、着色料、香料、合成保存料を使用せず、アロエベラゲルを主成分することで達成できる。
【０００７】
【発明の実地の形態】本発明に関する実施の形態を説明する。
【０００８】本発明に使用される化粧品は、ユリ科アロエ属植物より摘出したアロエベラゲルの液汁が主成分として1.3ブチレングリコール、グリセリン、ヒアルロン酸Ｎａを付加している。
【０００９】従って、掌に少量の化粧品を付着させ、顔に肌に塗ると前記アロエベラゲルの有効成分と1.3ブチレングリコール、グリセリン、ヒアルロン酸Ｎａの有効成分が肌を潤わせ、肌のシミ、ソバカスを防ぎ、肌のコラーゲンとスーパーオキシド分解酵素の再生を促す効果がみられた。
【００１０】また、当該化粧品を使用したところ、以下のような結果が得られた。
【００１１】本化粧品を火傷した患部にぬって治療したら、火傷の後が残らなかった。
【００１２】当該化粧品を顔面にぬって使用したら、ファンデーションの「のび」が従来より少量で済んだ。
【００１３】当該化粧品をニキビにぬって使用したら、治る兆候がみられた。
【００１４】アトピー性皮膚炎の患者に本化粧品を使用したところ治癒の兆候がみられた。
【００１５】本発明は、化粧水をアロエベラゲル８３％、1.3ブチレングリコール１０％、グリセリン３％、ヒアルロン酸Ｎａ２％、他で製造する。
【００１６】上述のように生成された化粧水は小瓶に分け栓をして使用する。
【００１７】上述の製品は肌を潤わせ、肌のシミ、ソバカスを防ぎ、肌のしわの発生を防止する。
【００１８】本発明は、化粧クリームをアロエベラゲル７５％、1.3ブチレングリコール１０％、グリセリン１０％、他で製造する。
【００１９】上述のように生成された化粧クリームは小瓶に分け栓をして使用する。
【００２０】上述の製品は肌の日焼けを防ぎ、長時間潤い感持続し、肌のシミ、ソバカスを防ぎ、肌のしわの発生を防止する。
【００２１】
【発明の効果】本発明は以下の示す効果を奏する。本発明における化粧品は、ユリ科アロエ属植物より摘出したアロエベラゲルの液汁が主成分として1.3ブチレングリコール、グリセリン、ヒアルロン酸Ｎａを付加して製造されたものであって、顔に肌に塗ると前記アロエベラゲルの有効成分と1.3ブチレングリコール、グリセリン、ヒアルロン酸Ｎａの有効成分が肌を潤わせ、肌のシミ、ソバカスを防ぎ、肌のコラーゲンとスーパーオキシド分解酵素の再生を促す効果がみられた。
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| 【出願人】 |
【識別番号】３０２０１４６８６
【氏名又は名称】有限会社フィレナ化粧品
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| 【出願日】 |
平成１４年３月４日（２００２．３．４） |
| 【代理人】 |
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| 【公開番号】 |
特開２００３−２５２７１９（Ｐ２００３−２５２７１９Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１５年９月１０日（２００３．９．１０） |
| 【出願番号】 |
特願２００２−５７２８４（Ｐ２００２−５７２８４） |
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