| 【発明の名称】 |
工業用殺菌組成物 |
| 【発明者】 |
【氏名】窪田 尚生
【住所又は居所】大阪府大阪市淀川区十三本町２丁目１７番８５号 武田薬品工業株式会社生活環境カンパニー内
【氏名】三宅 純一
【住所又は居所】大阪府大阪市淀川区十三本町２丁目１７番８５号 武田薬品工業株式会社生活環境カンパニー内
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| 【要約】 |
【課題】
【解決手段】ベンズイソチアゾリン系化合物または／およびフェニルウレア系化合物、天然水溶性ガムおよびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩、所望によりさらに非イオン界面活性剤を含有する工業用殺菌組成物。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 ベンズイソチアゾリン系化合物または／およびフェニルウレア系化合物、多糖類、非イオン界面活性剤およびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩を含有することを特徴とする工業用殺菌組成物。
【請求項２】 ベンズイソチアゾリン系化合物が、一般式（１）；
【化１】
（式中、Ｙ１は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を、Ａ１環は置換されていてもよいベンゼン環を示す。）で表される化合物であることを特徴とする請求項１記載の工業用殺菌組成物。
【請求項３】 一般式（１）の式中、Ｙ１が水素原子または炭素数１〜８のアルキル基であり、Ａ１環で示されるベンゼン環が無置換のベンゼン環である請求項２記載の工業用殺菌組成物。
【請求項４】 ベンズイソチアゾリン系化合物が、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンおよびＮ−ｎ−ブチル−ベンズイソチアゾリン−３−オンのうち少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載の工業用殺菌組成物。
【請求項５】 フェニルウレア系化合物が、一般式（２）；
【化２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２は同一または異なって水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ３およびＲ４は同一または異なって、水素原子または隣接する窒素原子に酸素を介して結合していてもよい置換されていてもよい炭化水素基を表す。）で表される化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の工業用殺菌組成物。
【請求項６】 一般式（２）中、Ｒ１およびＲ２が同一または異なってハロゲン原子であり、Ｒ３およびＲ４が同一または異なって隣接する窒素原子に酸素を介して結合していてもよい置換されていてもよい炭素数１〜８の炭化水素基である請求項５記載の工業用殺菌組成物。
【請求項７】 フェニルウレア系化合物が、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレアである請求項１〜６のいずれかに記載の工業用殺菌組成物。
【請求項８】 多糖類が天然水溶性ガムである請求項１〜７のいずれかに記載の工業用殺菌組成物。
【請求項９】 天然水溶性ガムが、キサンタンガム、アラビアガム、ローカストビーンガム、グアーガム、カラヤガム、ガディーガムおよびタラガントガムからなる群から選ばれる１以上の天然水溶性ガムである請求項８記載の工業用殺菌組成物。
【請求項１０】ベンズイソチアゾリン系化合物が１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、フェニルウレア系化合物が３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレア、多糖類がキサンタンガム、非イオン界面活性剤がポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルおよびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩がβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩である請求項１記載の工業用殺菌組成物。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、工業用殺菌組成物、詳しくは細菌、かび、酵母、藻などの防除剤として好適に用いられる工業用殺菌組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、印刷インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、プラスチック製品、セメント混和剤などの各種産業製品には、有害な微生物が繁殖しやすく、製品の汚損など品質の低下、悪臭の発生などの原因となっている。そのため、このような微生物の繁殖を防除するための殺菌効果を発揮する殺菌剤が広く使用されている。かかる工業用途の殺菌剤の多くは毒性が高く、人体への有害な影響、環境汚染性を有したりすることから、あまり高濃度で用いることができない。
【０００３】また、従来の殺菌剤、抗菌剤を含む工業用殺菌剤は、一般に酸性域で安定なものが多く、アルカリ性域では分解して長期間にわたる効果が望めなかった。すなわち、市場のニーズなどによりアルカリ性域で調製された殺菌対象系、例えば、コーティングカラー、切削油、ラテックスコンパウンド、炭酸カルシウムスラリー、泥水ポリマー、繊維油剤などに上記の工業用殺菌剤を通常濃度で添加する場合、その殺菌有効成分が経時的に分解するため、分解を見込んで添加量を多くする必要があった。また、場合によっては殺菌有効成分の分解物が殺菌対象系のｐＨを低下させ、製品価値が損なわれることもあった。特にコーティングカラーなどではｐＨの低下により増粘し、製剤の安定性が悪いため効果が発揮されずプラントの連続操業ができなくなる場合もあった。
【０００４】従来、アルカリ性域の殺菌対象系においては、アルカリ性域で安定な化合物、例えばヘキサヒドロ−１，３−５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−ｓ−トリアジン、ヘキサヒドロ−１，３，５−トリエチル−ｓ−トリアジン、２−ヒドロキシエチルアミノエタノールのようなトリアジン系化合物が常用されてきた。しかしながら、トリアジン系化合物はそれ自体がアルカリ性であるため、殺菌対象系のｐＨを変化させたり、中性付近では分解するという欠点があった。また、殺菌効果が弱いため多量の添加が必要となり、経済的ではないという問題もあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、少量の添加でアルカリ性域において優れた抗菌性および防かび性を発揮し、毒性が低く、さらに長期間安定に保持される工業用殺菌組成物を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、有効成分としてベンズイソチアゾリン系化合物または／およびフェニルウレア系化合物、天然水溶性ガム、非イオン界面活性剤およびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩を含有する殺菌組成物が、アルカリ性域において少ない量で優れた抗菌性および防かび性を発揮し、かつ特に水性製剤において微粒子状の有効成分の懸濁状態が長期間安定に保持されることを見出し、さらに検討を重ねて本発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明は、（１） ベンズイソチアゾリン系化合物または／およびフェニルウレア系化合物、多糖類、非イオン界面活性剤およびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩を含有することを特徴とする工業用殺菌組成物、（２） ベンズイソチアゾリン系化合物が、一般式（１）；
【化３】
（式中、Ｙ１は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を、Ａ１環は置換されていてもよいベンゼン環を示す。）で表される化合物である上記（１）記載の工業用殺菌組成物、（３） 一般式（１）中、Ｙ１が水素原子または炭素数１〜８のアルキルであり、Ａ１環で示されるベンゼン環が無置換のベンゼン環である請求項２記載の工業用殺菌組成物、（４） ベンズイソチアゾリン系化合物が、１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オンおよびＮ−ｎ−ブチル−ベンズイソチアゾリン−３−オンのうち少なくとも１種である上記（１）〜（３）のいずれかに記載の工業用殺菌組成物、（５） フェニルウレア系化合物が、一般式（２）；
【化４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２は同一または異なって水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ３およびＲ４は同一または異なって、水素原子または隣接する窒素原子に酸素を介して結合していてもよい置換されていてよい炭化水素基を表す。）で表される化合物である上記（１）〜（４）のいずれかに記載の工業用殺菌組成物、（６） 一般式（２）中、Ｒ１およびＲ２が同一または異なってハロゲン原子であり、Ｒ３およびＲ４が同一または異なって隣接する窒素原子に酸素を介して結合していてもよい置換されていてもよい炭素数１〜８の炭化水素基である上記（５）記載の工業用殺菌組成物、（７） フェニルウレア系化合物が、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレアである上記（１）〜（６）のいずれかに記載の工業用殺菌組成物、（８） 多糖類は天然水溶性ガムである特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の工業用殺菌組成物、（９） 天然水溶性ガムが、キサンタンガム、アラビアガム、ローカストビーンガム、グアーガム、カラヤガム、ガディーガムおよびタラガントガムからなる群から選ばれる１以上の天然水溶性ガムである上記（８）に記載の工業用殺菌組成物、（１０） ベンズイソチアゾリン系化合物が１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン、フェニルウレア系化合物が３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレア、多糖類がキサンタンガム、非イオン界面活性剤がポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルおよびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩がβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩である上記（１）記載の工業用殺菌組成物、（１１） ベンズイソチアゾリン系化合物３０〜５０重量％または／およびフェニルウレア系化合物１５〜４０重量％、多糖類０．１〜１．０重量％、非イオン界面活性剤２〜１５重量％およびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩１〜１０重量％の割合で含有することを特徴とする工業用殺菌組成物、に関する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明において用いられるベンズイソチアゾリン系化合物としては、一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
【化５】
（式中、Ｙ１は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を、Ａ１環は置換されていてもよいベンゼン環を示す。）
上記式（１）中、Ｙ１で示される置換されていてもよい炭化水素基における炭化水素基としては、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１４の炭化水素基が挙げられ、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基およびアリール基などが挙げられる。好ましくはアルキル基およびシクロアルキル基が挙げられ、より好ましくはアルキル基が挙げられる。
【０００９】上記アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、sec−オクチル、tert−オクチル、ノニル、デシルなどの炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられる。好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチルなどの炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。より好ましくは、例えばメチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルが挙げられる。
【００１０】上記アルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニルなどの炭素数２〜４のアルケニル基が挙げられる。好ましくはビニル、アリルなどの炭素数２〜３のアルケニル基が挙げられる。
【００１１】上記アルキニル基としては、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、ブチニル、ペンチニルなどの炭素数２〜５のアルキニル基が挙げられる。好ましくは、エチニル、プロピニルなどの炭素数２〜３のアルキニル基が挙げられる。
【００１２】上記シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素数５〜６のシクロアルキル基が挙げられる。
【００１３】上記アリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナルトリルなどの炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。
【００１４】Ｙ１で示される置換されていてもよい炭化水素基の置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、ハロゲン原子（例えばフルオロ、クロロ、ブロモなど）、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどの炭素数１〜４のアルコキシ基など）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基などの炭素数６〜２０のアリールオキシ基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオなどの炭素数１〜４のアルキルチオ基など）および炭素数６〜２０のアリールチオ基（例えばフェニルチオ基など）などが挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子およびアルコキシ基が挙げられる。これらの置換基は同一または相異なって１〜５個、好ましくは１〜３個置換してもよい。
【００１５】上記したＹ１で示される置換されていてもよい炭化水素基のうち、好ましくは置換されていない炭化水素基であり、その中でも、アルキル基、とりわけメチル、エチル、プロピル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルなどの炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、より好ましくはメチル、ｎ−ブチルおよびｎ−オクチルが挙げられる。従って、Ｙ１の好ましい例としては水素原子、メチル、ｎ−ブチルおよびｎ−オクチルが挙げられる。
【００１６】上記式（１）で表されるベンズイソチアゾリン系化合物において、Ａ１環で示されるベンゼン環の置換基としては、Ｙ１で示される置換されていてもよい炭化水素基の置換基として上記したものと同様のものを挙げることができ、好ましくはハロゲン原子、アルキル基（例えばメチル、エチル、プロピル、ブチルなどの炭素数１〜４のアルキル基など）が挙げられる。これらの置換基は、同一または相異なって１〜４個、好ましくは１または２個置換してもよい。
【００１７】上記式（１）で表されるベンズイソチアゾリン系化合物の具体例としては、例えば１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン（以下ＢＩＴと略称する）、Ｎ−ｎ−ブチル−ベンズイソチアゾリン−３−オンなどが挙げられる。
【００１８】本発明に用いられるベンズイソチアゾリン系化合物は、その塩、例えばナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、マグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属、アンモニア、エチレンジアミン、１，６−ヘキサメチレンジアミンなどの脂肪族アミン、アニリンなどの芳香族アミン、ピリジン、ピロリジン、モルホリン、メチルピリジンなどの複素環アミンなどとの塩の形で使用してもよい。これら塩のうち、好ましくは、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、アンモニア、エチレンジアミンなどの脂肪族アミンあるいはピリジンなどの複素環アミンが挙げられる。
【００１９】本発明において、原料としてのベンズイソチアゾリン化合物は公知の技術によって製造することができるが、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えばプロクセルプレスペーストＰ６（商品名）（１，２−ベンズイソチアゾリン−３−オン８０重量％、アビシア製）、バンキッシュ１００（商品名）（Ｎ−ｎ−ブチル−２−ベンズイソチアゾリン−３−オン９５重量％、アビシア製）などが挙げられる。
【００２０】本発明において用いられるフェニルウレア系化合物としては、一般式（２）で表される化合物が挙げられる。
【化６】
（式中、Ｒ１、Ｒ２は同一または異なって水素原子またはハロゲン原子を表し、Ｒ３およびＲ４は同一または異なって、水素原子または隣接する窒素原子に酸素を介して結合していてもよい置換されていてよい炭化水素基を表す。）
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２で示されるハロゲン原子としては、例えばフルオロ、クロロ、ブロモなどのハロゲン原子が挙げられ、その中で好ましくはクロロである。Ｒ３、Ｒ４で示される、隣接する窒素原子に酸素を介して結合していてもよい置換されていてもよい炭化水素基における炭化水素基としては、炭素数１〜１８の炭化水素基が挙げられ、例えばアルコキシル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基およびアリール基などが挙げられる。好ましくはアルキル基である。
【００２１】Ｒ３、Ｒ４で示されるアルコキシル基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、sec−オクチルオキシ、tert−オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシなどの炭素数１〜１０のアルコキシル基が挙げられる。好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、オクチルオキシなどの炭素数１〜８のアルコキシル基が挙げられる。より好ましくは、例えばメトキシ、ｎ−ブトキシ、ｎ−オクチルオキシが挙げられる。
【００２２】Ｒ３、Ｒ４で示されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、sec−オクチル、tert−オクチル、ノニル、デシルなどの炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられる。好ましくは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチルなどの炭素数１〜８のアルキル基が挙げられる。より好ましくは、例えばメチル、ｎ−ブチル、ｎ−オクチルが挙げられる。
【００２３】Ｒ３、Ｒ４で示されるアルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、イソプロペニル、１−プロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニルなどの炭素数２〜４のアルケニル基が挙げられる。好ましくはビニル、アリルなどの炭素数２〜３のアルケニル基が挙げられる。
【００２４】Ｒ３、Ｒ４で示されるアルキニル基としては、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、ブチニル、ペンチニルなどの炭素数２〜５のアルキニル基が挙げられる。好ましくは、エチニル、プロピニルなどの炭素数２〜３のアルキニル基が挙げられる。
【００２５】Ｒ３、Ｒ４で示されるシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチルなどの炭素数３〜８のシクロアルキル基が挙げられる。好ましくは、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素数５〜６のシクロアルキル基が挙げられる。
【００２６】Ｒ３、Ｒ４で示されるアリール基としては、例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナルトリルなどの炭素数６〜１４のアリール基が挙げられる。好ましくはフェニルなどの炭素数６のアリール基が挙げられる。
【００２７】上記式（２）で表されるフェニルウレア系化合物の具体例としては、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレア（以下ＤＣＭＵと省略する）、３−（４−モノクロロフェニル）−１，１−ジメチルウレア、３−（４−モノクロロフェニル）−１−メトキシ−１−メチルウレア、３−（４−モノクロロフェニル）−１−ブチニル−１−メチルウレア、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メトキシ−１−メチルウレア、３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−メチル−１−プロペニルウレアおよび３−（３，４−ジクロロフェニル）−１−イソプロペニル−１−プロピニルなどが挙げられる。好ましくはＤＣＭＵが用いられる。
【００２８】本発明において、フェニルウレア系化合物は公知の技術によって製造することができるが、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えばプリベントールＡ６（商品名）（ＤＣＭＵ９８重量％、バイエル製）などが挙げられる。
【００２９】本発明において用いられる多糖類としては、好ましくは天然水溶性ガムが用いられる。天然水溶性ガムとしては、例えばキサンタンガム、アラビアガム、ローカストビーンガム、グアーガム、カラヤガム、ガディーガムおよびタラガントガム、アラビノガラクタン、デキストランなどが挙げられ、好ましくはキサンタンガムである。
【００３０】本発明において用いられる天然水溶性ガムは、例えばマメ科植物などの天然樹木から公知の方法によって採取した原料を精製・粉末化などの加工処理を施すことにより得られるが、市販品を用いてもよい。そのような市販品としては、例えばグアーコール（三栄薬品貿易（株）製）、カラヤコール（三栄薬品貿易（株）製）、アラビックコール（三栄薬品貿易（株）製）、ローカストコール（三栄薬品貿易（株）製）、などが挙げられる。
【００３１】非イオン界面活性剤としては、下記式（３）で表される非イオン界面活性剤を使用することができる。
【化７】
（式中、Ａ２はビニル基またはスチリル基で置換されていてもよいベンゼン環を、ｎは１または２を示す。）
ベンゼン環の置換基であるビニル基またはスチリル基の数は１〜３であり、置換基が複数の場合は、同一または異なっていてもよい。スチリル基中のベンゼン環は置換されていてもよく、そのような置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、ハロゲン原子（例えばフルオロ、クロロ、ブロモなど）、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどの炭素数１〜４のアルコキシ基など）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基などの炭素数６〜２０のアリールオキシ基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオなどの炭素数１〜４のアルキルチオ基など）および炭素数６〜２０のアリールチオ基（例えばフェニルチオ基など）などが挙げられる。好ましくは、ハロゲン原子およびアルコキシ基が挙げられる。これらの置換基は同一または相異なって１〜５個、好ましくは１〜３個置換してもよい。またＨＬＢが１０以上、より好ましくは約１０〜１５程度の非イオン界面活性剤を使用することもできる。具体的には、例えばポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリグリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビット脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンアルキルエーテルなどが挙げられる。好ましくは、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルが挙げられる。
【００３２】本発明において用いられる非イオン界面活性剤は、公知の方法によって容易に製造され得るが、市販品を用いてもよい。そのような市販品としては、例えばエマルゲンＡ−６０（花王製）、エマルゲンＡ−９０（花王製）、エマルゲンＰＰ−２９０（花王製）などが挙げられる。
【００３３】本発明において用いられるβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩としては、例えばβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物カリウム塩、β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物アンモニウムなどが挙げられ、好ましくはβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩が挙げられる。
【００３４】β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩は、公知の方法に従って容易に製造し得られる。また、市販のものを用いてもよい。そのような市販品としては、例えばデモールＮＬ（花王製）、デモールＮ（花王製）、デモールＭＳ（花王製）などが挙げられる。
【００３５】本発明の工業用殺菌組成物は、ベンズイソチアゾリン系化合物約３０〜５０重量％程度または／およびフェニルウレア系化合物約１５〜４０重量％程度、多糖類約０．１〜１．０重量％程度、非イオン界面活性剤約１〜１５重量％程度およびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩約１〜１０重量％程度で配合すればよい。好ましくは、ベンズイソチアゾリン系化合物約３０〜４０重量％程度または／およびフェニルウレア系化合物約２０〜３０重量％程度、多糖類約０．２〜０．６重量％程度、非イオン界面活性剤約５〜１５重量％程度およびβ−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物の塩約１〜５重量％程度で配合すればよい。
【００３６】上記化合物の配合に際しては、これらの化合物を溶解しまたは分散し得る溶剤であれば特に限定されない。このような溶剤としては、例えば水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、iso−プロパノール、ｎ−ブタノール、tert−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノールなどのアルコール系溶剤、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶剤、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレンカーボネートなどのケトン系溶剤、例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル系溶剤、例えば酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチルなどのエステル系溶剤、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、イソプロピルナフタレン、ジイソプロピルナフタレン、エチルビフェニル、ジエチルビフェニル、ソルベントナフサなどの芳香族系溶剤、例えば四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素系溶剤、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドンなどの極性溶剤などが挙げられる。
【００３７】また、工業的に使用されている脂肪族系石油溶剤や芳香族系石油溶剤を用いてもよい。脂肪族系石油溶剤としては、例えばミネラルスピリットなどが挙げられる。また、芳香族系石油溶剤としては、市販品として、例えばＭＳＰ（蒸留範囲９０〜１２０℃、比重（１５／４℃）０．８２０以上、混合アニリン点２６℃以下、芳香族含量（容量％）７０以上）、スーパーゾール１００（蒸留範囲９５〜１１１℃、比重（１５／４℃）０．８２５以上、混合アニリン点２６℃、芳香族含量（容量％）７５以上）、ぺカゾールＡＲＯ−８０（蒸留範囲１０４〜１２３℃、比重（１５／４℃）０．８３２以上、混合アニリン点２６℃、芳香族含量（容量％）７５．９）、スワゾール１００（蒸留範囲１０６〜１１６℃、比重（１５／４℃）０．８３５以上、混合アニリン点２４．６℃以下、芳香族含量（容量％）７６．４）、スワゾール２００（蒸留範囲１３２〜１４４℃、比重（１５／４℃）０．８４４、混合アニリン点２３．８℃、芳香族含量（容量％）８０．９）、ＭＨＳ（蒸留範囲１４０〜１７０℃、比重（１５／４℃）０．８６〜０．８８、混合アニリン点１１〜１２℃、芳香族含量（容量％）９８以上）、ハイアロム２Ｓ（蒸留範囲１５２〜１８７℃、比重（１５／４℃）０．８１６、混合アニリン点４７℃以下、芳香族含量（容量％）４５〜５５）、スワゾール３１０（蒸留範囲１５３〜１７７℃、比重（１５／４℃）０．８１７、混合アニリン点４３．６℃、芳香族含量（容量％）５１．０）、スーバーゾール１５０（蒸留範囲１５３〜１９７℃、比重（１５／４℃）０．８１５、混合アニリン点２１．５℃、芳香族含量（容量％）５０以上）、昭石ハイゾール（蒸留範囲１５３〜１９８℃、比重（１５．６／１５．６℃）０．８１８、芳香族含量（容量％）５５）、ＨＡＷＳ（蒸留範囲１５４〜１９０℃、比重（１５／４℃）０．８２２、芳香族含量（容量％）５０）、スーパーゾール１５００（蒸留範囲１５５〜１７１℃、比重（１５／４℃）０．８６９、混合アニリン点１４．６℃、芳香族含量（容量％）９８以上）、日石ハイゾール１００（蒸留範囲１５５〜１８０℃、比重（１５／４℃）０．８７０〜０．８８０、混合アニリン点１５℃以下、芳香族含量（容量％）９９．０以上）、ベガゾールＲ−１００（蒸留範囲１５６〜１７４℃、比重（１５／４℃）０．８７４、混合アニリン点１４℃、芳香族含量（容量％）９６．４）、ソルベッソ１００（蒸留範囲１５８〜１７７℃、比重（１５／４℃）０．８７０、混合アニリン点１４℃、芳香族含量（容量％）９８．０）、ＭＳＳ（蒸留範囲１５８〜１８０℃、比重（１５．６／１５．６℃）０．８６〜０．８９、混合アニリン点１３〜１４℃、芳香族含量（容量％）９８以上）、ＳＨＥＬＬＳＯＬ Ａ（蒸留範囲１６０〜１８２℃、比重（１５／４℃）０．８７３、芳香族含量（容量％）９８）、スワゾール１０００（蒸留範囲１６２〜１７６℃、比重（１５／４℃）０．８７８、混合アニリン点１２．７℃、芳香族含量（容量％）９９．７）、出光イプゾール１００（蒸留範囲１６２〜１７９℃、比重（１５／４℃）０．８７５、混合アニリン点１３．５℃、芳香族含量（容量％）９９．５以上）、昭石特ハイゾール（蒸留範囲１６２〜１８０℃、比重（１５／４℃）０．８８１、混合アニリン点１２．６℃、芳香族含量（容量％）９９．９９）、スワゾール１５００（蒸留範囲１８０〜２０７℃、比重（１５／４℃）０．８８６、混合アニリン点１６．５℃、芳香族含量（容量％）９８．８）、日石ハイゾール１５０（蒸留範囲１８２〜２１６℃、比重（１５／４℃）０．８８７〜０．９０４、混合アニリン点１７℃以下、芳香族含量（容量％）９９．０以上）、スーパーゾール１８００（蒸留範囲１８３〜２０８℃、比重（１５／４℃）０．８８９、混合アニリン点１５．７℃、芳香族含量（容量％）９９以上）、ソルベッソ１５０（蒸留範囲１８５〜２１１℃、比重（１５／４℃）０．８９６、混合アニリン点１８．３℃、芳香族含量（容量％）９７．３）、出光イプゾール１５０（蒸留範囲１８６〜２０５℃、比重（１５．６／１５．６℃）０．８９５、混合アニリン点１５．２℃、芳香族含量（容量％）９９．５以上）、ＳＨＥＬＬＳＯＬ ＡＢ（蒸留範囲１８７〜２１３℃、比重（１５／４℃）０．８９４、芳香族含量（容量％）９９．５）、ペガソールＲ−１５０（蒸留範囲１９１〜２１２℃、比重（１５／４℃）０．８９０、混合アニリン点１８℃、芳香族含量（容量％）９７．２）、スワゾール１８００（蒸留範囲１９７〜２３７℃、比重（１５／４℃）０．９４０、混合アニリン点１４．０℃、芳香族含量（容量％）９９．６）などが挙げられる。これらのうち、好ましくは水および／またはグリコール系溶剤が挙げられる。これらの溶剤は、単独または２種以上併用してもよい。
【００３８】本発明の工業用殺菌組成物は、所望によりｐＨ調整剤を加えてもよい。ｐＨ調整剤としては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、アンモニア、アンモニア水、トリエタノールアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロパノールアミン、リン酸三ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、塩酸、クエン酸、酸化マグネシウム、硝酸、硫酸などが挙げられる。
【００３９】さらに本発明の工業用殺菌組成物は、その目的および用途によって、公知の添加剤、例えば他の防藻剤および／または防かび剤、非イオン界面活性剤以外の界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、消泡剤などを添加してもよい。
【００４０】他の防藻剤および／または防かび剤としては、例えば３−ヨード−２−プロピニル−ブチル−カーバメイト、ジヨードメチル−ｐ−トリルスルホンおよびｐ−クロロフェニル−３−ヨードプロパルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例えばテトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカーバメート系化合物、２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例えばＮ−（フルオロジクロロメチルチオ）−フタルイミドおよびＮ−（フルオロジクロロメチルチオ）−Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ−フェニル−スルファミドなどのハロアルキルチオ系化合物、例えば２，３，５，６−テトラクロロ−４−（メチルスルフォニル）ピリジンなどのピリジン系化合物、例えばジンクピリチオンおよびナトリウムピリチオンなどのピリチオン系化合物、例えば２−（４−チオシアノメチルチオ）ベンゾチアゾールなどのベンゾチアゾール系化合物、例えばメチル−２−ベンズイミダゾールカーバメイト、２−（４−チアゾリル）−ベンズイミダゾールなどのイミダゾール系化合物、例えば３−ベンゾ〔ｂ〕チエン−２−イル−５，６−ジヒドロ−１，４，２−オキサチアジン ４−オキシドなどのオキサチアジン系化合物、例えば２−メチルチオ−４−ｔ−ブチルアミノ−６−シクロプロピルアミノ−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物、例えばα−ｔ−ブチル−α（ｐ−クロロフェニルエチル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−１−エタノール（慣用名テブコナゾール）などのトリアゾール系化合物、例えば３，３，４，４−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−１，１−ジオキシドなどのチオフェン系化合物などが挙げられる。これらの他の防藻剤および／または防かび剤は、単独または２種以上併用してもよい。また、これらの配合割合は、その剤型および目的ならびに用途によって適宜決定される。
【００４１】また、非イオン界面活性剤以外の界面活性剤としては、例えば石鹸類、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤など、公知の界面活性剤が挙げられ、好ましくはアニオン系界面活性剤が挙げられる。これらは非イオン界面活性剤の代わりにまたは、非イオン界面活性剤と共に使用される。
【００４２】アニオン界面活性剤としては、例えばアルキルベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸金属塩、ポリカルボン酸型界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸エステル金属塩、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルサルフェートアンモニウム塩、リグニンスルホン酸金属塩などが挙げられる。また、これらの金属塩としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩などが挙げられる。
【００４３】また、酸化防止剤としては、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール］などのフェノール系酸化防止剤、例えばアルキルジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げられる。
【００４４】これら、非イオン界面活性剤以外の界面活性剤および酸化防止剤は、例えば液剤の場合には、液剤１００重量部に対して約０．１〜５重量部程度が添加される。また、光安定剤としては、例えばビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げられる。このような光安定剤は、例えば液剤の場合には、液剤１００重量部に対して約０．１〜１０重量部程度添加される。
【００４５】本発明の工業用殺菌組成物は、その目的および用途に応じて、例えば液剤（水懸濁剤、および油剤を含む）、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの公知の剤型に製剤化して使用することができる。また、包接化合物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などのモンモリナイト（スメクタイト類）などに担持させ、あるいは、クレー、シリカ、タルクなどに吸着させることにより調製してもよい。
【００４６】上記のようにして得られる本発明の工業用殺菌組成物は、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として優れた効果を発揮することができる。そのため、例えば製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、印刷インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、プラスチック製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。より具体的には、例えば製紙パルプ工場や冷却水循環工程のスライムコントロール剤、金属加工油剤、カゼイン、澱粉塗工液、樹脂製品の防腐剤、塗料、樹脂、インキ、シリコーンシーリング剤などの工業用殺菌剤などとして好適に用いられる。
【００４７】なお、本発明の工業用組成物は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、約１０〜２００００ｍｇ（有効成分）／ｋｇ（製品）、好ましくは約１００〜１００００ｍｇ（有効成分）／ｋｇ（製品）の濃度として用いるのが好ましい。ここでいう有効成分とは、ベンズイソチアゾリン系化合物または／およびフェニルウレア系化合物を示す。
【００４８】
【実施例】〔実施例１〕プリベントールＡ６（商品名）（ＤＣＭＵ９８重量％、バイエル製）２０重量部、デモールＮＬ（商品名）（β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩４１％、花王製）３重量部、エマルゲンＡ−６０（商品名）（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ＨＬＢ１２．８、花王製）８重量部、コージン（商品名）（キサンタンガム、興人製）０．５重量部、ノプコ８０３４Ｌ（商品名）（シリカシリコーン系消泡剤、サンノプコ製）０．１重量部および水６８．４重量部を混合し、Ｔ．Ｋ．ホモディスパーで１時間攪拌した。次にこの溶液をビーズミル（液流量５Ｌ／分、ビーズ粒径φ２ｍｍ、パス回数２回）で粉砕し、水性製剤を得た。
【００４９】〔実施例２〕プリベントールＡ６（商品名）（ＤＣＭＵ９８重量％、バイエル製）３０重量部、デモールＮＬ（商品名）（β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩４１％、花王製）４重量部、エマルゲンＡ−９０（商品名）（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ＨＬＢ１４．５、花王製）９重量部、ユージン（商品名）（キサンタンガム、興人製）０．３重量部、ノプコ８０３４Ｌ（商品名）（シリカシリコーン系消泡剤、サンノプコ製）０．１重量部および水５６．６重量部を混合し、Ｔ．Ｋ．ホモディスパーで１時間攪拌した。次にこの溶液をビーズミル（液流量５Ｌ／分、ビーズ粒径φ２ｍｍ、パス回数２回）で粉砕し、水性製剤を得た。
【００５０】〔実施例３〕プロクセルプレスペーストＰ６（商品名）（ＢＩＴ８０重量％、アビシア製）２５重量部、デモールＮＬ（商品名）（β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩４１％、花王製）５重量部、エマルゲンＡ−９０（商品名）（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ＨＬＢ１４．５、花王製）７重量部、ケルザン（商品名）（キサンタンガム、シーピーケルコ製）０．４重量部、ノプコ８０３４Ｌ（商品名）（シリカシリコーン系消泡剤、サンノプコ製）０．１重量部および水６２．５重量部を混合し、Ｔ．Ｋ．ホモディスパーで１時間攪拌した。次にこの溶液をビーズミル（液流量５Ｌ／分、ビーズ粒径φ２ｍｍ、パス回数２回）で粉砕し、水性製剤を得た。
【００５１】〔実施例４〕プロクセルプレスペーストＰ６（商品名）（ＢＩＴ８０重量％、アビシア製）３７．５重量部、デモールＮＬ（商品名）（β−ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩４１％、花王製）５重量部、エマルゲンＡ−６０（商品名）（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ＨＬＢ１２．８、花王製）９重量部、ケルザン（商品名）（キサンタンガム、シーピーケルコ製）０．３重量部、ノプコ８０３４Ｌ（商品名）（シリカシリコーン系消泡剤、サンノプコ製）０．１重量部および水４８．１重量部を混合し、Ｔ．Ｋ．ホモディスパーで１時間攪拌した。次にこの溶液をビーズミル（液流量５Ｌ／分、ビーズ粒径φ２ｍｍ、パス回数２回）で粉砕し、水性製剤を得た。
【００５２】〔比較例１〕プロクセルプレスペーストＰ６（商品名）（ＢＩＴ８０重量％、アビシア製）２５重量部、エマルゲンＡ−９０（商品名）（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ＨＬＢ１４．５、花王製）１２重量部、ケルザン（商品名）（キサンタンガム、シーピーケルコ製）０．４重量部、ノプコ８０３４Ｌ（商品名）（シリカシリコーン系消泡剤、サンノプコ製）０．１重量部および水６２．５重量部を混合し、Ｔ．Ｋ．ホモディスパーで１時間攪拌した。次にこの溶液をビーズミル（液流量５Ｌ／分、ビーズ粒径φ２ｍｍ、パス回数２回）で粉砕し、水性製剤を得た。
【００５３】〔比較例２〕プロクセルプレスペーストＰ６（商品名）（ＢＩＴ８０重量％、アビシア製）３７．５重量部、ケルザン（商品名）（キサンタンガム、シーピーケルコ製）０．３重量部、ノプコ８０３４Ｌ（商品名）（シリカシリコーン系消泡剤、サンノプコ製）０．１重量部および水６２．１重量部を混合し、Ｔ．Ｋ．ホモディスパーで１時間攪拌した。次にこの溶液をビーズミル（液流量５Ｌ／分、ビーズ粒径φ２ｍｍ、パス回数２回）で粉砕し、水性製剤を得た。
【００５４】〔比較例３〕プリベントールＡ６（商品名）（ＤＣＭＵ９８重量％、バイエル製）３０重量部、エマルゲンＡ−９０（商品名）（ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル ＨＬＢ１４．５、花王製）１３重量部、コージン（商品名）（キサンタンガム、興人製）０．３重量部、ノプコ８０３４Ｌ（商品名）（シリカシリコーン系消泡剤、サンノプコ製）０．１重量部および水５６．６重量部を混合し、Ｔ．Ｋ．ホモディスパーで１時間攪拌した。次にこの溶液をビーズミル（液流量５Ｌ／分、ビーズ粒径φ２ｍｍ、パス回数２回）で粉砕し、水性製剤を得た。
【００５５】〔試験例１〕実施例１〜４および比較例１〜３で得られた各製剤を１００ｍＬのガラス瓶に８０ｍＬ入れ、４０℃の恒温器に３０日間放置し、沈降を観察した。形成された沈降の高さは、ガラス瓶に入れた製剤液面の全高さに対する比率で表し、その結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
【００５７】
【発明の効果】本発明の工業用殺菌組成物は流動性がよく、しかも分散性が良好で、水性製剤における有効成分の懸濁状態が長期間にわたって安定に保持され、さらに少量の使用で優れた抗菌性および抗かび性を望むことができる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００００２９３４
【氏名又は名称】武田薬品工業株式会社
【住所又は居所】大阪府大阪市中央区道修町四丁目１番１号
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| 【出願日】 |
平成１３年８月３０日（２００１．８．３０） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００７７０１２
【弁理士】
【氏名又は名称】岩谷 龍
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| 【公開番号】 |
特開２００３−７３２１４（Ｐ２００３−７３２１４Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１５年３月１２日（２００３．３．１２） |
| 【出願番号】 |
特願２００１−２６２１２３（Ｐ２００１−２６２１２３） |
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