| 【発明の名称】 |
植生ブロック及び植生基盤の造成方法 |
| 【発明者】 |
【氏名】洞田 浩文
【住所又は居所】東京都新宿区西新宿一丁目２５番１号 大成建設株式会社内
【氏名】長瀬 公一
【住所又は居所】東京都新宿区西新宿一丁目２５番１号 大成建設株式会社内
【氏名】大川原 良次
【住所又は居所】東京都新宿区西新宿一丁目２５番１号 大成建設株式会社内
【氏名】屋祢下 亮
【住所又は居所】東京都新宿区西新宿一丁目２５番１号 大成建設株式会社内
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| 【要約】 |
【課題】真に効率的な植生基盤の造成作業が実現するように、潅水用の配管を行うためのスペースを確保することが容易に可能となるような植生ブロック及び植生基盤の造成方法を提供する。
【解決手段】硬化材を含む混練物を硬化させてなり、敷設面の上に敷き詰められることにより植生基盤となり、敷設面の上における管路Ｋの敷設を妨げないように、頂部及び底部の少なくともいずれか一方に形成される配管用切欠部１１を含む植生ブロック１。植生基盤に対する植物Ｓの植え込みを妨げないように、頂部及び底部の少なくともいずれか一方に形成される植込用切欠部１２をさらに含むこととしてもよい。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】硬化材を含む混練物を硬化させてなり、敷設面の上に敷き詰められることにより植生基盤となる植生ブロックであって、前記敷設面の上における管路の敷設を妨げないように、頂部及び底部の少なくともいずれか一方に形成される配管用切欠部を含むことを特徴とする、植生ブロック。
【請求項２】前記植生基盤に対する植物の植え込みを妨げないように、頂部及び底部の少なくともいずれか一方に形成される植込用切欠部をさらに含むことを特徴とする、請求項１に記載の植生ブロック。
【請求項３】硬化材を含む混練物を硬化させてなり、敷設面の上に敷設されるはずの植生ブロックを用いて行う植生基盤の造成方法であって、造成されるはずの前記植生基盤において配管用凹部が形成されるように前記混練物を成型することによって植生ブロックを得る成型工程と、前記成型工程によって得られた前記植生ブロックを前記敷設面の上に敷き詰めることによって植生基盤を造成する造成工程と、前記造成工程によって得られた又は得られるはずの前記植生基盤における前記配管用凹部に管路を敷設する配管工程と、を含むことを特徴とする、植生基盤の造成方法。
【請求項４】前記成型工程には、造成されるはずの前記植生基盤において植込用凹部が形成されるように前記混練物を成型する工程を含むことを特徴とする、請求項３に記載の植生基盤の造成方法。
【請求項５】前記成型工程によって得られ、前記造成工程によって敷き詰められる前記植生ブロックは、前記混練物の成型後においても型枠が一体に残置されるものであることを特徴とする、請求項３又は請求項４に記載の植生基盤の造成方法。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、建物の屋上、バルコニー或いは敷地内などにあるコンクリート表面等の敷設面の上に植物を植え込むために用いられる植生ブロック及び植生基盤の造成方法に関する。
【従来の技術】従来のこの種の植生ブロックとしては、敷設面の上に敷き詰められることにより植生基盤となるものであり、例えば硬化材と、発泡性樹脂からなる軽量骨材と、水と、培土とを含む混練物をブロック形状に成型して硬化させてなるものがある。
【０００２】このような植生ブロックによれば、硬化材及び軽量骨材を構成材料として含むので、ある程度の剛性を維持しながら相当に軽量な植生ブロックが得られることとなり、これにより、建物の屋上などのコンクリート表面等の上に植生ブロックを適宜敷き詰めるだけの効率的な植生基盤の造成作業が実現することとなる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような植生ブロックは、単にブロック形状に成型して硬化させただけのものであることから、これをコンクリート表面等の上に敷き詰めることにより植生基盤となった後においては、潅水用の配管を行うためのスペースを該植生基盤に穴をあける等の方法によって確保することが必要となる。
【０００４】しかしながら、このような植生ブロックでは、硬化材を構成材料として含み、ある程度の剛性を有しているので、植生基盤に穴をあける等の方法によりそのようなスペースを確保することは実際上相当に困難となる。
【０００５】そこで、本発明の課題は、真に効率的な植生基盤の造成作業が実現するように、潅水用の配管を行うためのスペースを確保することが容易に可能となるような植生ブロック及び植生基盤の造成方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、第一発明と、第二発明とを含むものとして構成されている。第一発明は、植生ブロックに係るものであり、第二発明は、植生基盤の造成方法に係るものである。
【０００７】第一発明に係る植生ブロックは、硬化材を含む混練物を硬化させてなり、敷設面の上に敷き詰められることにより植生基盤となるものである。
【０００８】これは、配管用切欠部を含むものとして構成されている。ここで、配管用切欠部は、敷設面の上における管路の敷設を妨げないように、頂部及び底部の少なくともいずれか一方に形成されるものである。
【０００９】このような第一発明に係る植生ブロックによれば、配管用切欠部を含むものとして構成されているので、潅水用の配管を行うためのスペースを確保することが容易に可能となる。
【００１０】したがって、これによれば、真に効率的な植生基盤の造成作業を実現させることが可能となる。
【００１１】このような第一発明に係る植生ブロックにおいて、植物の植え込みを行うためのスペースも確保することとして、真に効率的な植生基盤の造成作業を担保しようとする観点からすれば、植込用切欠部を含むことが好ましい。ここで、植込用切欠部は、植生基盤に対する植物の植え込みを妨げないように、頂部及び底部の少なくともいずれか一方に形成されるものである。
【００１２】一方、第二発明に係る植生基盤の造成方法は、硬化材を含む混練物を硬化させてなり、敷設面の上に敷設されるはずの植生ブロックを用いて行う方法である。
【００１３】これは、以下の各工程を含む方法として構成されている。すなわち、混練物を造成されるはずの植生基盤において配管用凹部が形成されるように成型することによって植生ブロックを得る成型工程。成型工程によって得られた前記植生ブロックを前記敷設面の上に敷き詰めることによって植生基盤を造成する造成工程。そして、造成工程によって得られた又は得られるはずの前記植生基盤における前記配管用凹部に管路を敷設する配管工程である。
【００１４】このような第二発明に係る植生基盤の造成方法によれば、造成工程の前に、配管工程で敷設されるはずの管路を妨げないように成型する成型工程を含むものとして構成されているので、敷設面の上に管路を敷設する配管工程において、潅水用の配管を行うためのスペースを確保することが容易に可能となる。
【００１５】したがって、これによれば、真に効率的な植生基盤の造成作業を実現させることが可能となる。
【００１６】このような第二発明に係る植生基盤の造成方法において、造成工程の前に植物の植え込みを行うためのスペースも確保することとして、真に効率的な植生基盤の造成作業を担保しようとする観点からすれば、成型工程には、造成されるはずの植生基盤において植込用凹部が形成されるように混練物を成型する工程を含むことが好ましい。また、混練物の成型で使った型枠について脱型の手間を部分的に排除することとして、真に効率的な植生基盤の造成作業を担保しようとする観点からすれば、成型工程によって得られ、造成工程によって敷き詰められる植生ブロックは、混練物の成型後においても型枠が一体に残置されるものであることが好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、ここでは、設計上、配管用切欠部及び植込用切欠部が共に頂部に形成される場合について説明するが、これに限られるものではなく、配管用切欠部が底部に形成され、植込用切欠部が頂部に形成される場合等でも、以下の説明が妥当する。
【００１８】◎実施の形態１［植生ブロック］図１は本発明の実施の形態１に係る植生ブロックの全体構成を示す斜視図、図２は該植生ブロックの他の全体構成を示す図（図２（ａ）は斜視図、図２（ｂ）は上側配管の場合における断面図、図２（ｃ）は上側配管の場合における断面図）である。
【００１９】本実施の形態において、植生ブロック１は、同図に示すように、硬化材を含む混練物を硬化させてなり、敷設面の上に敷き詰められることにより植生基盤となるものである。
【００２０】ここで、所定の強度を有し軽量でしかも保水力に優れた植生ブロック１を得るという観点からすれば、硬化材を含む混練物としては、具体的には、硬化材と、発泡樹脂製の軽量骨材と、水と、培土と、保水剤とから構成されるものを用いることが好ましい。
【００２１】そして、これらの１ｍ3 当たりの配合量としては、同様の観点からすれば、例えば硬化材を３０ｋｇ〜１３０ｋｇ、発泡樹脂製の軽量骨材を４０ｋｇ〜１００ｋｇ、水を１００ｋｇ〜２００ｋｇ、培土を２００ｋｇ〜６００ｋｇの範囲とした上で、培土１容量部当たり保水剤を１容量部〜１．５容量部添加とすることが好ましい。
【００２２】具体的には、この植生ブロック１は、同図に示すように、取扱いや持ち運びなどが容易な板形状を呈しており、配管用切欠部１１と、植込用切欠部１２とを含むものとして構成されている。
【００２３】以下、これらの各構成要素についてさらに詳細に説明する。
【００２４】（１）配管用切欠部１１配管用切欠部１１は、敷設面の上における潅水用チューブ等の管路Ｋの敷設を妨げないようにすべく頂部に形成されており、これにより、配管を行うためのスペースが確保されている。ここで、配管用切欠部１１としては、図１に示すような植生ブロック１として凹部が形成されることとなる場合に限られるものではなく、図２（ａ）に示すような植生基盤として凹部が形成されることとなる場合であっても差し支えない。また、植込用切欠部１２についてもこれと同様である。
【００２５】つまり、このような配管用切欠部１１によれば、潅水用チューブ等の管路Ｋを配管用切欠部１１に直接設置するだけで配管を行うことが可能となるので、ある程度の剛性を持つ植生ブロック１に配管軌道に沿って穴をあける等の非常に手間及び時間のかかる煩雑作業を回避することが可能となっている。
【００２６】なお、この実施の形態１における配管用切欠部１１は、十字形状を呈するように形成されているが、これにより、管路Ｋを縦横自由に設置できるメリットが得られる。
【００２７】（２）植込用切欠部１２植込用切欠部１２は、植生基盤に対してのプラグ苗等の植物Ｓの植え込みを妨げないようにすべく頂部に形成されており、これにより、植物Ｓの植え込みを行うためのスペースも確保されている。
【００２８】つまり、このような植込用切欠部１２によれば、プラグ苗等の植物Ｓを植込用切欠部１２に直接設置することで植物Ｓの植え込みをを行うことが可能となるので、ある程度の剛性を持つ植生ブロック１に適宜間隔で穴をあける等の非常に手間及び時間のかかる煩雑作業を回避することが可能となっている。
【００２９】上記したように、このような植生ブロック１によれば、配管用切欠部１１及び植込用切欠部１２を含むものとして構成されているので、潅水用の管路Ｋの配管を行うためのスペース及び植物Ｓの植え込みを行うためのスペースを確保することが容易に可能となっている。ここで、このような植生ブロック１の作成方法は、型枠に固化前の材料を詰め込むことを基本としている。そして、切欠部作成の具体的な方法の例としては、図３に示すような三種類の方法を挙げることができる。
＜蓋に凸部を設ける方法（図３（ａ）参照）＞この場合は、植生ブロック１作成用の型枠を、植生ブロック固化後も容器として利用することを考えた場合の方法である。型枠に材料を詰め込んだ後、上面を成型するための蓋の部分を下方に凸状に加工することで配管用切欠部１１及び植込用切欠部１２のいずれか一方又は両方を作り出す方法である。
＜型枠の底面に切欠部作成用の凸部を設ける方法（図３（ｂ）参照）＞この場合は、型枠底面に配管用切欠部１１及び植込用切欠部１２のいずれか一方又は両方を作成するための凸部を設け、その上に材料を詰め込み固化させる方法である。この方法では、固化後植生ブロック１は、型枠から取り外し使用する。
＜型枠の形状で配管スペースを構築する方法（図３（ｃ）参照）＞この方式は、主として配管設置用のスペースを形状の内部形状の工夫により作成する方法である。型枠の壁面を上部に比して、底部ほど内側に傾斜を設けることで作成する植生ブロック１の断面形状を台形に加工し、植生ブロックを連続そて設置した場合に構築される空間を配管Ｋの設置スペースとする方法である。
【００３０】したがって、このような植生ブロック１によれば、真に効率的な植生基盤の造成作業が得られることとなった。
【００３１】［植生基盤の造成方法］本実施の形態において、植生基盤の造成方法は、上記したような植生ブロック１を用いて行うものであり、成型工程〜造成工程までの各工程により構成されている。以下、図１を用いて、各工程について説明する。
【００３２】（１）成型工程これは、造成されるはずの植生基盤において配管用凹部が形成されるように混練物を成型することによって植生ブロック１を得る工程である。
【００３３】本実施の形態においては、この成型工程には、造成されるはずの植生基盤において植込用凹部が形成されるように混練物を成型する工程を含むものとして構成されている。
【００３４】（２）造成工程これは、成型工程によって得られた植生ブロック１を敷設面の上に敷き詰めることによって植生基盤を造成する造成工程である。
【００３５】（２）配管工程これは、造成工程によって得られた植生基盤における配管用凹部に管路Ｋを敷設する配管工程である。
【００３６】これにより、本実施の形態に係る植生基盤の造成方法が終了する。
【００３７】このような植生基盤の造成方法によれば、造成工程の前に、造成されるはずの植生基盤において配管用凹部及び植込用凹部が形成されるように混練物を成型することとしたので、潅水用の管路Ｋの配管を行うためのスペースのみならず、植物Ｓの植え込みを行うためのスペースも確保することが容易に可能となっている。
【００３８】したがって、このような植生基盤の造成方法によれば、植生ブロック１を敷設面の上に敷き詰めて植生基盤を造成するだけで、植生基盤に配管用凹部及び植込用凹部を容易に確保することが可能となり、真に効率的な植生基盤の造成作業が実現することとなった。
【００３９】◎実施の形態２図４は本発明の実施の形態２に係る植生ブロックの全体構成を示す斜視図である。なお、実施の形態１と同様な構成要素については実施の形態１と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
【００４０】この実施の形態２に係る植生ブロック２は、同図に示すように、配管用切欠部２１のみならず植込用切欠部２２をも有している点で、実施の形態１と同様の構成となっているが、配管用切欠部１１及び植込用切欠部１２が別個に設けられる実施の形態１と異なり、配管用切欠部２１が植込用切欠部２２を含むものとして構成されている。
【００４１】したがって、このような実施の形態２に係る植生ブロック２によれば、実施の形態１に係る植生ブロック１と略同様、配管用切欠部２１及び植込用切欠部２２を有しているので、潅水用の管路Ｋの配管を行うためのスペースのみならず、植物Ｓの植え込みを行うためのスペースの確保も容易に可能となっている。
【００４２】◎実施の形態３図５は本発明の実施の形態３に係る植生ブロックの全体構成を示す斜視図である。なお、実施の形態１と同様な構成要素については実施の形態１と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
【００４３】この実施の形態３に係る植生ブロック３は、同図に示すように、配管用切欠部を有していない点で、実施の形態１と異なっているが、植込用切欠部３１を有している点では、実施の形態１と同様の構成となっている。
【００４４】したがって、このような実施の形態３に係る植生ブロック３によれば、実施の形態１に係る植生ブロック１と略同様、植込用切欠部３１を有しているので、植物Ｓの植え込みを行うためのスペースの確保が容易に可能となっている。
【００４５】◎実施の形態４図６は本発明の実施の形態４に係る植生ブロックの全体構成を示す斜視図である。なお、実施の形態１と同様な構成要素については実施の形態１と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
【００４６】この実施の形態４に係る植生ブロック４は、同図に示すように、植込用切欠部を有していない点で、実施の形態１と異なっているが、配管用切欠部４１を有している点では、実施の形態１と同様の構成となっている。
【００４７】ここで、この実施の形態４に係る植生ブロック４では、同図に示すように、混練物の成型後においても型枠４２が一体に残置される態様となっている。この場合には、配管を行うためのスペースに係る型枠５２の部分に図６に示すような切り欠きを形成する必要がある。
【００４８】したがって、このような実施の形態４に係る植生ブロック４によっても、実施の形態１に係る植生ブロック１と略同様、配管用切欠部４１を有しているので、潅水用の管路Ｋの配管を行うためのスペースの確保が容易に可能となっているが、実施の形態１に係る植生ブロック１と異なり、混練物の成型後においても型枠が一体に残置されるものとなっているので、混練物の成型で使った型枠について脱型の手間を部分的に排除することが可能となっており、真に効率的な植生基盤の造成作業が担保されることとなる。
【００４９】◎実施の形態５図７は本発明の実施の形態２に係る植生ブロックの全体構成図（図７（ａ）は成型時における斜視図、図７（ｂ）は成型後における斜視図）である。なお、実施の形態４と同様な構成要素については実施の形態４と同様な符号を付してここではその詳細な説明を省略する。
【００５０】この実施の形態５に係る植生ブロック５は、同図に示すように、配管用切欠部５１を有しており、しかも、成型後においても型枠５２が一体に残置される態様となっている点で、実施の形態４と同様の構成となっているが、型枠４２のすべてが一体に残置される実施の形態４と異なり、型枠５２のうち上部枠５２ａ及び蓋枠５２ｃは成型後に分離除去され、下部枠５２ｂは混練物の成型後においても一体に残置される態様となっている。
【００５１】それゆえ、この場合には、実施の形態４と異なり、管路Ｋの配管を行うためのスペースに係る型枠５２の部分に切り欠きを形成する必要がない。
【００５２】したがって、このような実施の形態５に係る植生ブロック５によっても、実施の形態４に係る植生ブロック４と略同様、配管用切欠部５１を有しており、かつ、混練物の成型後においても型枠が一体に残置されるものとなっているので、潅水用の管路Ｋの配管を行うためのスペースの確保が容易に可能となっているのみならず、混練物の成型で使った型枠について脱型の手間を部分的に排除することが可能となっており、これにより、真に効率的な植生基盤の造成作業が担保されることとなる。
【００５３】
【発明の効果】本発明に係る植生ブロック及び植生基盤の造成方法によれば、真に効率的な植生基盤の造成作業が実現することとなる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００２０６２１１
【氏名又は名称】大成建設株式会社
【住所又は居所】東京都新宿区西新宿一丁目２５番１号
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| 【出願日】 |
平成１４年２月２６日（２００２．２．２６） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００６４４１４
【弁理士】
【氏名又は名称】磯野 道造
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| 【公開番号】 |
特開２００３−２５０３３２（Ｐ２００３−２５０３３２Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１５年９月９日（２００３．９．９） |
| 【出願番号】 |
特願２００２−４９０３６（Ｐ２００２−４９０３６） |
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