| 【発明の名称】 |
処理装置の電極用冷却装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】廣岡 隆明
【氏名】古屋 正男
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| 【要約】 |
【課題】処理装置の電極を冷却するための冷媒を冷凍回路で直接的に温調することなく，省エネルギ化を図ることの可能な，処理装置の電極用冷却装置を提供する。
【解決手段】冷却装置１１０は，熱交換器１３８により温調された一次冷媒ＣＷ１を電極内を循環させて電極を温調する一次冷媒循環回路と，熱交換器に二次冷媒ＣＷ２を供給して一次冷媒を温調する二次冷媒循環回路と，第１熱交換器１４１が二次冷媒循環回路に介装されて，三次冷媒により二次冷媒を温調する冷凍回路１４０とを備える。一次冷媒を冷凍回路で温調することなく，二次冷媒で温調している。一次冷媒を二次冷媒の温度よりも高温設定する場合には，二次冷媒のみで一次冷媒の温調を行うことができる。一次冷媒を二次冷媒の温度よりも低温設定する場合にのみ，冷凍回路により二次冷媒を温調するので，省エネルギ化を図ることができる。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 処理装置の電極用冷却装置において，熱交換器とポンプとから成り，前記熱交換器により温調された一次冷媒を前記電極内を循環させて電極を温調する一次冷媒循環回路と，前記熱交換器に二次冷媒を供給して前記一次冷媒を温調する二次冷媒循環回路と，圧縮機と凝縮器と膨張弁と蒸発器とから成り，三次冷媒が循環する冷凍回路であって，前記蒸発器が前記二次冷媒循環回路に介装されて，前記三次冷媒により前記二次冷媒を温調する冷凍回路と，を備えたことを特徴とする，処理装置の電極用冷却装置。
【請求項２】 前記一次冷媒循環回路の前記電極の上流側温度を検出する第１温度検出器と，前記第１温度検出器による温度検出値に応じて前記二次冷媒循環回路の駆動制御を行う第１制御系を備えたことを特徴とする，請求項１に記載の処理装置の電極用冷却装置。
【請求項３】 前記二次冷媒循環回路の前記蒸発器の下流側温度を検出する第２温度検出器と，前記第２温度検出器による温度検出値に応じて前記冷凍回路の駆動制御を行う第２制御系を備えたことを特徴とする，請求項１または２に記載の処理装置の電極用冷却装置。
【請求項４】 前記一次冷媒循環回路には，前記電極への前記一次冷媒の流入を許可する第１チェック弁と，前記電極からの前記一次冷媒の流出を許可する第２チェック弁と，前記第１チェック弁の下流側に接続されて前記一時冷媒循環回路をパージガス径路に連通させることが可能なパージ弁を備えたことを特徴とする，請求項１，２または３のいずれかに記載の処理装置の電極用冷却装置。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，処理装置の電極用冷却装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来，半導体装置やＬＣＤ基板などの製造工程においては，プラズマエッチング装置などの各種処理装置が使用されている。例えば，プラズマエッチング装置は，真空処理室内において所定の処理ガスをプラズマ化し，載置台上に載置された半導体ウェハやガラス基板などの被処理体に対してエッチング処理を施すものである。そして，処理にあたっては，プラズマによる被処理体の温度上昇を抑えたり，あるいは，エッチングのアスペクト比を高めたり，エッチング形状を整えたりするために，被処理体を所定温度に維持している。
【０００３】被処理体の温度管理は，一般に，載置台に設けられた冷却機構により行われている。かかる冷却機構は，冷媒（例えば，ガルデン：商品名）を載置台内に巡らされた冷媒循環路に送り込み，その冷媒が熱を吸収することにより被処理体を冷却する構成を採用している。そして，冷凍回路により温調された冷媒タンク内の冷媒はポンプにより冷媒循環路に送り込まれ，冷媒循環路から戻された冷媒は冷凍回路により温調され冷媒タンクに送り込まれる。そして，冷媒タンク内あるいは冷媒タンクから冷媒循環路に送り込まれる冷媒の温度を監視して，その温度が所定温度になるように温度制御を行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで，処理装置の電極を冷却するための冷媒を冷凍回路で温調する場合，冷凍回路は温度制御にリンクして稼働し，温度設定を変えない限り負荷の有無にかかわらず稼働を続けることになる。
【０００５】また，被処理体の温度は，処理工程に応じて，低温設定（例えば，−１０℃から＋６０℃の範囲に設定）することや，高温設定（例えば，＋３０℃から＋１００℃の範囲に設定）することが行われる。例えば，低温設定後に高温設定する場合などのように冷媒が過冷却されている場合，冷凍回路で冷却された冷媒をさらにヒータで再熱して温調することが起こりうる。かかる場合，冷凍回路とヒータの電力が二重に消費されることになり，省エネルギ化の妨げとなっていた。
【０００６】本発明は，従来の処理装置の電極用冷却装置が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的は，処理装置の電極を冷却するための冷媒（例えば，ガルデン：商品名）を冷凍回路で直接的に温調することなく，省エネルギ化を図ることの可能な，新規かつ改良された処理装置の電極用冷却装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため，本発明によれば，請求項１に記載のように，処理装置の電極用冷却装置において，熱交換器とポンプとから成り，熱交換器により温調された一次冷媒を電極内を循環させて電極を温調する一次冷媒循環回路と，熱交換器に二次冷媒を供給して一次冷媒を温調する二次冷媒循環回路と，圧縮機と凝縮器と膨張弁と蒸発器とから成り，三次冷媒が循環する冷凍回路であって，蒸発器が二次冷媒循環回路に介装されて，三次冷媒により二次冷媒を温調する冷凍回路とを備えたことを特徴とする処理装置の電極用冷却装置が提供される。
【０００８】かかる構成によれば，処理装置の電極を冷却するための一次冷媒（例えば，ガルデン：商品名）を冷凍回路で温調することなく，二次冷媒（例えば，冷却水）で温調している。このため，一次冷媒を二次冷媒の温度よりも高温設定する場合には，二次冷媒のみで一次冷媒の温調を行うことができる。そして，一次冷媒を二次冷媒の温度よりも低温設定する場合にのみ，冷凍回路により二次冷媒を温調するようにしている。このため，冷凍回路を常時稼働させ，さらにヒータで温調を行う従来技術に比べて格段の省エネルギ化を図ることが可能である。また，季節等の環境の変化によっても制御可能温度の範囲が変わることがない。
【０００９】また，請求項２に記載のように，一次冷媒循環回路の電極の上流側温度を検出する第１温度検出器と，第１温度検出器による温度検出値に応じて二次冷媒循環回路の駆動制御を行う第１制御系を備えることが好ましい。目標温調温度に追従するようにフィードバックをかけながら一次冷媒あるいは二次冷媒の熱量あるいは流量制御を行うことができるので，被処理体の温度管理をより厳密に行うことができる。
【００１０】同様に，請求項３に記載のように，二次冷媒循環回路の蒸発器の下流側温度を検出する第２温度検出器と，第２温度検出器による温度検出値に応じて冷凍回路の駆動制御を行う第２制御系を備えることが好ましい。目標温調温度に追従するようにフィードバックをかけながら二次冷媒あるいは三次冷媒の熱量あるいは流量制御を行うことができるので，被処理体の温度管理をより厳密に行うことができる。
【００１１】また，請求項４に記載のように，一次冷媒循環回路には，電極への一次冷媒の流入を許可する第１チェック弁と，電極からの一次冷媒の流出を許可する第２チェック弁と，第１チェック弁の下流側に接続されて一時冷媒循環回路をパージガス径路に連通させることが可能なパージ弁を備えることが好ましい。一次冷媒のオーバロード時には，一次冷媒循環回路をパージガス経路に連通させることにより，一次冷媒の流量を容易に制御することができる。また，一次冷媒循環回路内の一次冷媒をパージガスで除去することにより，電極のメンテナンスを容易に行うことができる。
【００１２】以上のように，本発明は，一次冷媒を二次冷媒の温度よりも高温設定する場合に特に有効である。すなわち，例えば，電極の目標温調温度が３０℃〜１００℃である場合には，二次冷媒のみで一次冷媒の温調を行うことができ，冷凍回路を稼働する必要がないため，省エネルギ化を図ることが可能である。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかる処理装置の電極用冷却装置の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１４】（１）プラズマエッチング装置１００の構成まず，処理装置の一例としてプラズマエッチング装置１００を，図１を参照しながら概説する。気密な処理容器１０２内に形成された処理室１０４内には，半導体ウェハ（以下，単にウェハという。）Ｗを載置可能な下部電極１０６が配置されている。下部電極１０６には，下部電極１０６を介してウェハＷを冷却して所定温度に維持するための冷媒循環路１０８が内装されている。冷却循環路１０８には冷却装置１１０が接続されている。冷却装置１１０は，温調された一次冷媒（例えば，ガルデン：商品名）ＣＷ１を冷媒循環路１０８内に供給するとともに，冷媒循環路１０８内を循環した一次冷媒ＣＷ１を回収して再び温調する。なお，冷却装置１１０の構成および一次冷媒ＣＷ１の温度制御については，後述する。
【００１５】また，処理室１０４内には，下部電極１０６の載置面に対向して，上部電極１１２が配置されている。かかる構成により，高周波電源１１４から出力された高周波電力を整合器１１６を介して下部電極１０６に印加すると，処理ガス供給源Ｇ１１８から流量調整バルブＭＦＣ１２０と上部電極１１２に形成された多数のガス吐出孔１１２ａとを介して処理室１０４内に導入された処理ガスがプラズマ化する。かかるプラズマにより，下部電極１０６上で所定温度に維持されたウェハＷにエッチング処理が施される。処理室１０４内のガスは，排気系１２２から排気される。
【００１６】（２）冷却装置１１０の構成次いで，プラズマエッチング装置１００の下部電極１０６用冷却装置（以下，単に冷却装置という。）１１０の構成について説明する。冷却装置１１０は，下部電極１０６を温調する一次冷媒の循環回路と，一次冷媒を温調する二次冷媒の循環回路と，二次冷媒を温調する冷凍回路（三次冷媒の循環回路）の３つの回路部に大別される。
【００１７】まず，一次冷媒の循環回路について説明する。冷媒タンク１２４内には，温調された一次冷媒（例えば，ガルデン：商品名）ＣＷ１が蓄えられている。冷媒タンク１２４内には，一次冷媒ＣＷ１を温調するためのヒータ１２６が設けられている。冷媒タンク１２４内の一次冷媒ＣＷ１はポンプ１３０により加圧され，冷媒供給管１３２を介して下部電極１０６内の冷媒循環路１０８に送り出される。冷媒供給管１３２には，冷媒タンク１２４により温調された一次冷媒ＣＷ１の温度を検出する第１温度検出器Ｔｈ１と，冷却装置１１０から下部電極１０６への一次冷媒の流入を許可する第１チェック弁１３３が介装されている。
【００１８】また，冷媒供給管１３２を流れる一次冷媒ＣＷ１の流量をモニタし，その値をポンプ１３０にフィードバックしてポンプ１３０をインバータ制御することによって，常に一定の一次冷媒ＣＷ１を冷媒供給路１０８に供給することができる。また，管接合部からの一次冷媒ＣＷ１の漏れ等によって，一次冷媒ＣＷ１の流量が低下した場合に，アラームを発するように構成することもできる。さらに，ポンプ１３０として，冷媒タンク１２４内にインペラ部を埋設させる浸漬型渦巻ポンプを用いれば，駆動部（モータ）のシールを不要として，信頼性を向上させることができる。
【００１９】第１温度検出器Ｔｈ１は，冷媒タンク１２４により温調された一次冷媒ＣＷ１の温度を検出する。第１温度検知器Ｔｈ１で検出された温度検出値は，図示しない第１制御系に伝達される。第１制御系は，第１温度検出器Ｔｈ１による温度検出値に応じて，一次冷媒ＣＷ１の温調を行うための二次冷媒循環回路の駆動制御を行う。このように，目標温調温度に追従するようにフィードバックをかけながら一次冷媒あるいは二次冷媒の熱量あるいは流量制御を行うことができるので，被処理体の温度管理をより厳密に行うことができる。
【００２０】冷媒循環路１０８を循環した一次冷媒ＣＷ１は，冷媒排出管１３６を介して冷却装置１１０に戻される。冷媒排出管１３６には，下部電極１０６から冷却装置１１０への一次冷媒ＣＷ１の流入を許可する第２チェック弁１３７が介装されている。冷却装置１１０に戻された一次冷媒ＣＷ１は，熱交換器１３８で二次冷媒（例えば，冷却水）ＣＷ２と熱交換を行った後，再び冷媒タンク１２４内に蓄えられる。
【００２１】また，冷却装置１１０とプラズマエッチング装置１００とを接続する冷媒供給路１３２または冷媒排出管１３６の少なくとも一部には，導電性テフロン（登録商標）ホースが用いられることが好ましい。すなわち，ガルデンやフロリナート（商品名）などのパーフロロカーボン流体を案内するためのホース（管）としては，従来より，絶縁性テフロンホース，ゴムホース，ステンレスホースなどが用いられるが，絶縁性テフロンホースでは，テフロンとパーフロロカーボン流体との摩擦により静電気が生じ，ホースにピンホールを形成してしまうという問題がある。また，ゴムホースを使用した場合には，パーフロロカーボン流体によって，可塑剤がホースより析出し，ホースが硬化して，ホース抜けを生じるという問題があり，他方，ステンレスホースは，管摩擦係数が大きいという問題があった。そこで，本実施の形態では，ステンレスチューブにカーボンを含むテフロンを内設した導電性テフロンホース（例えば，東葛工業株式会社製型式：Ｒ２７６）を用い，パーフロロカーボン流体との摩擦による帯電を防止し，ホースにピンホールが形成される問題を解消している。このように，冷媒供給管１３２及び冷媒排出管１３６は，断熱係数に優れるテフロンによって，高断熱，かつフレキシブルに形成されている。
【００２２】冷媒タンク１２４の上流側には，熱交換器１３８で二次冷媒ＣＷ２と熱交換を行った後の一次冷媒ＣＷ１の温度を検出する第２温度検出器Ｔｈ２が介装されている。このように，目標温調温度に追従するようにフィードバックをかけながら一次冷媒あるいは二次冷媒の熱量あるいは流量制御を行うことができるので，被処理体の温度管理をより厳密に行うことができる。
【００２３】また，第１チェック弁１３３の下流側には，冷媒供給管１３２をパージガス経路に連通させることが可能なパージ弁１３５が介装されている。パージガスとしてはエアやＮ２ガスが用いられる。冷媒供給管１３２をパージガス経路に連通させることにより，エアおよびＮ２ガスによるパージが行われる。かかる構成によれば，一次冷媒ＣＷ１のオーバロード時には，冷媒供給管１３２をパージガス経路に連通させることにより，一次冷媒ＣＷ１の流量を容易に制御することができる。また，冷媒供給管１３２，冷媒循環路１０８，冷媒排出管１３６内の一次冷媒ＣＷ１を一時的に除去することにより，下部電極１０６のメンテナンスを容易に行うことができる。
【００２４】図２は，下部電極１０６のメンテナンス時における，下部電極１０６の取り外し・取り付け作業の流れ図である。まず，パージ弁１３５を開放し，冷媒供給管１３２をパージガスに連通させる。（ステップＳ１）。そして，冷媒供給管１３２，冷媒排出管１３６，冷媒循環路１０８から一次冷媒ＣＷ１の大部分が除去されたかを判断し（ステップＳ２），大部分が排除された場合には，その後タイマによる一定時間のパージを実行する（ステップＳ３）。これにより，冷媒供給管１３２，冷媒排出管１３６，冷媒循環路１０８から一次冷媒ＣＷ１を完全に除去することができる。
【００２５】一次冷媒循環経路から一次冷媒ＣＷ１が完全に除去されると，冷媒供給管１３２をパージガスへの連通を止める（ステップＳ４）。そしてその後，下部電極１０６を処理室１０４から取り外す（ステップＳ５）。下部電極１０６に所定のメンテナンス（あるいは交換）を行った（ステップＳ６）後，下部電極１０６を再び取り付ける（ステップＳ７）。このようにして，下部電極１０６のメンテナンスを容易に行うことができる。
【００２６】本実施の形態は，熱交換器１３８に二次冷媒ＣＷ２を供給して一次冷媒ＣＷ１を温調する二次冷媒循環回路を備えた点を特徴の一つとしている。以下に，一次冷媒ＣＷ１を温調する二次冷媒の循環回路について説明する。
【００２７】二次冷媒（例えば，冷却水）ＣＷ２は，調整弁１３９により流量が制御されている。二次冷媒循環回路には，調整弁１３９の下流に，熱交換器１３８と，後述の冷凍回路１４０内の第１熱交換器（蒸発器）１４１が介装されている。二次冷媒ＣＷ２は，熱交換器１３８で一次冷媒ＣＷ１と熱交換を行った後，さらに，第１熱交換器１４１で三次冷媒と熱交換を行う。また，第１熱交換器１４１の下流側には，第１熱交換器１４１で三次冷媒ＣＷ３と熱交換を行った後の二次冷媒ＣＷ２の温度を検出する第３温度検出器Ｔｈ３が介装されている。
【００２８】熱交換器１３８では，二次冷媒ＣＷ２により一次冷媒ＣＷ１を温調する。すなわち，冷凍回路１４０で冷却された所定流量の二次冷媒ＣＷ２を二次冷媒循環回路内で循環させることにより，熱交換器１３８の通過時に一次冷媒ＣＷ１の熱が二次冷媒ＣＷ２に吸収されて，一次冷媒ＣＷ１が所定温度に温調される。一次冷媒ＣＷ１の温度は，二次冷媒循環回路に介装された調整弁１３９により二次冷媒ＣＷ２の循環量を調整すれば適宜変更可能であり，二次冷媒ＣＷ２の流量を増やせば一次冷媒ＣＷ１の温度が下がり，逆に二次冷媒ＣＷ２の流量を減らせば一次冷媒ＣＷ１の温度が上がる。
【００２９】第３温度検出器Ｔｈ３は，第１熱交換器１４１により温調された直後の二次冷媒ＣＷ２の温度を検出する。第３温度検出器Ｔｈ３で検出された温度検出値は，図示しない第２制御系に伝達される。第２制御系は，第３温度検出器Ｔｈ３による温度検出値に応じて冷凍回路１４０の駆動制御を行う。このように，目標温調温度に追従するようにフィードバックをかけながら二次冷媒ＣＷ２あるいは三次冷媒ＣＷ３の熱量あるいは流量制御を行うことができるので，被処理体の温度管理をより厳密に行うことができる。
【００３０】次いで，二次冷媒ＣＷ２を温調する冷凍回路（三次冷媒循環回路）１４０について説明する。冷凍回路１４０は，二次冷媒ＣＷ２を温調するための第１熱交換器（蒸発器）１４１と，第２熱交換器（凝縮器）１４２と，第１および第２熱交換器１４１，１４２を通って第１および第２熱交換器１４１，１４２間で熱の受け渡しを行う三次冷媒（例えば，フロン）ＣＷ３を循環させる熱交換路１４４から構成されている。また，熱交換路１４４には，ポンプ（圧縮機）１４８と，開閉バルブ（膨張弁）１５０が介装されている。
【００３１】また，ポンプ１４８の下流側に温度センサを設け，三次冷媒ＣＷ３の温度をモニタすることによって，第２熱交換器１４２の汚れや冷媒の漏れや過冷却を発見することができる。また三次冷媒としては，ＨＦＣ−４０７ＣなどのＧＷＰ（Ｇｌｏｂａｌ Ｗａｒｍｉｎｇ Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ）値の低い冷媒を用いることが好ましい。
【００３２】かかる構成の冷凍回路１４０では，第１熱交換器１４１が二次冷媒循環回路に介装されて，三次冷媒ＣＷ３により二次冷媒ＣＷ２を温調する。すなわち，第２熱交換器１４２内で冷却された所定流量の三次冷媒ＣＷ３を熱交換路１４４内で循環させることにより，第１熱交換器１４１内の通過時に二次冷媒ＣＷ２の熱が三次冷媒ＣＷ３に吸収されて，二次冷媒ＣＷ２が所定温度に温調される。二次冷媒ＣＷ２の温度は，ポンプ１４８の揚水量を調整すれば適宜変更可能であり，三次冷媒ＣＷ３の流量を増やせば二次冷媒ＣＷ２の温度が下がり，逆に三次冷媒ＣＷ３の流量を減らせば二次冷媒ＣＷ２の温度が上がる。
【００３３】図３は，以上説明した低温設定時，高温設定時における調整可能温度，一次冷媒ＣＷ１，二次冷媒ＣＷ２，冷凍回路１４０の作用をまとめたものである。
【００３４】以上説明した本実施の形態によれば，下部電極１０６を冷却するための一次冷媒ＣＷ１を冷凍回路で直接的に温調することなく，二次冷媒ＣＷ２で温調している。このため，一次冷媒を二次冷媒の温度よりも高温設定する場合，例えば，下部電極１０６の目標温調温度を３０℃〜１００℃にする場合には，二次冷媒のみで一次冷媒の温調を行うことができる。そして，一次冷媒を二次冷媒の温度よりも低温設定する場合にのみ，冷凍回路１４０により二次冷媒を温調するようにしている。このため，必要時にのみ冷凍回路１４０を稼働すればよいため，省エネルギ化を図ることが可能である。また，季節等の環境の変化によっても制御可能温度の範囲が変わることがない。
【００３５】また，温度検出器Ｔｈ１〜Ｔｈ３による温度検出値に応じて冷媒の熱量あるいは流量制御を行うようにしたので，ウェハＷの温度管理をより厳密に行うことができる。
【００３６】また，一次冷媒循環回路に，第１チェック弁１３３，第２チェック弁１３７，パージ弁１３５を備えたので，一次冷媒循環回路内の一次冷媒ＣＷ１の循環量を容易に制御でき，一次冷媒ＣＷ１のオーバロード時の制御や，下部電極１０６のメンテナンスなどを容易に行うことができる。
【００３７】以上，添付図面を参照しながら本発明にかかる処理装置の電極用冷却装置の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００３８】例えば，上記実施の形態において，電極（下部電極１０６）の温度を基準にして一次冷媒の温度制御を行う構成を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されない。例えば，被処理体（ウェハＷ）の温度を基準にして一次冷媒の温度制御を行うようにしてもよい。
【００３９】また，上記実施の形態では，調整可能温度範囲が−１０℃〜＋１００℃の冷却装置を示したが，調整可能温度範囲が異なる冷却装置を複数配置するように構成してもよい。この際には，図４（Ａ），（Ｂ）に示すように，冷却装置に供給する用力（電力及び冷却水）を処理室の数に応じて設定するのが好ましい。すなわち，１つの処理室（図示せず）を有する装置であれば，図４（Ａ）に示すように，用力を１系統準備し，用力供給部１６０を介して，下段の（低温用）冷却装置１１０−１から上段の（高温用）冷却装置１１０−２へ用力を供給するようにする。また，２つの処理室（図示せず）を有する装置の場合には，図４（Ｂ）に示すように，下段の冷却装置１１０−１，上段の冷却装置１１０−２にそれぞれ対応する用力を２系統準備するようにすれば，処理室毎にメンテナンスを行うことができ，至便である。さらに，図４（Ａ），（Ｂ）に示すように，冷却装置を上下段に配置することによって，配置スペースを小さくすることができる。
【００４０】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，処理装置の電極を冷却するための一次冷媒（例えば，ガルデン：商品名）を冷凍回路で温調することなく，二次冷媒（例えば，冷却水）のみで温調している。このため，一次冷媒を二次冷媒の温度よりも高温設定する場合には，二次冷媒のみで一次冷媒の温調を行うことができる。そして，一次冷媒を二次冷媒の温度よりも低温設定する場合にのみ，冷凍回路により二次冷媒を温調するようにしている。このため，冷凍回路を常時稼働させ，さらにヒータで温調を行う従来技術に比べて格段の省エネルギ化を図ることが可能である。また，季節等の環境の変化によっても制御可能温度の範囲が変わることがない。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００２１９９６７
【氏名又は名称】東京エレクトロン株式会社
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| 【出願日】 |
平成１２年１１月３０日（２０００．１１．３０） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００９５９５７
【弁理士】
【氏名又は名称】亀谷 美明 （外２名）
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| 【公開番号】 |
特開２００２−１６８５５１（Ｐ２００２−１６８５５１Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１４年６月１４日（２００２．６．１４） |
| 【出願番号】 |
特願２０００−３６４３３９（Ｐ２０００−３６４３３９） |
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