トップ :: C 化学 冶金 :: C21 鉄冶金




【発明の名称】 高炉内装入物表面のプロフィール測定方法及びプロフィール測定装置
【発明者】 【氏名】中村 義久

【要約】 【課題】装入物の極小点の高炉軸心からの偏心を精度よく検出することができ、装入物のプロフィールを正確に検出することができる高炉内装入物表面のプロフィール測定方法及びプロフィール測定装置を提供する。

【解決手段】計測ランス3を、炉口径方向範囲として炉口部側面から炉口半径Rの1.25倍の長さに至る範囲内をランス走行機構8により走行させる。さらに、ランス走行機構8及びランス回動機構9により、軸心I−Iを中心とし、炉口半径Rの0.25倍の長さを半径とする円形範囲内を測定する。マイクロ波信号処理回路7は、計測ランス3のマイクロ波用アンテナ4から装入物表面2までの距離を求め、演算器16は、各位置における前記距離に基づき、装入物表面2のプロフィールを三次元的に求め、画像表示器17に画像が表示される。
【特許請求の範囲】
【請求項1】 高炉の炉口部側面から、高炉の軸心に向けて計測ランスを挿入し、該計測ランスに設けられた距離測定手段を用いて、装入物表面までの距離を測定し、装入物表面のプロフィールを測定する高炉内装入物表面のプロフィール測定方法において、炉口径方向の範囲として、前記炉口部側面から炉口半径の1.25倍の長さに至る範囲内を測定することを特徴とする高炉内装入物表面のプロフィール測定方法。
【請求項2】 前記軸心を中心とし、炉口半径の0.25倍の長さを半径とする円形の範囲内を測定する請求項1記載の高炉内装入物表面のプロフィール測定方法。
【請求項3】 マイクロ波用アンテナと、該マイクロ波用アンテナに導波管を介しマイクロ波を送信するマイクロ波発振回路とを有する計測ランスと、前記マイクロ波発振回路が、前記マイクロ波用アンテナを介し高炉内装入物に送信したマイクロ波、及び前記高炉内装入物表面にて反射し、前記マイクロ波用アンテナを介し受信したマイクロ波に基づき、前記マイクロ波用アンテナから高炉内装入物表面までの距離を求めるマイクロ波信号処理回路とを備えた高炉内装入物表面のプロフィール測定装置において、前記計測ランスを高炉の軸心に向けて走行させるための手段と、前記計測ランスの走行位置を検出する走行位置検出手段と、各走行位置における前記距離に基づき、高炉内装入物表面のプロフィールを二次元的に求める演算手段とを備えたことを特徴とする高炉内装入物表面のプロフィール測定装置。
【請求項4】 前記計測ランスの先端部をランス軸を中心にして回動させるための手段と、前記計測ランスの回動角度を検出する回動角度検出手段とを備え、前記演算手段が、前記走行位置及び前記回動角度から定まる各位置における前記距離に基づき、高炉内装入物表面のプロフィールを三次元的に求める請求項3記載の高炉内装入物表面のプロフィール測定装置。
【発明の詳細な説明】【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高炉内装入物の表面の形状(プロフィール)を測定する方法及び測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】一般に、高炉には、炉頂から装入物として鉄鉱石及びコークスが交互に装入され、炉内に鉱石層とコークス層とが形成される。炉内に形成された鉱石層及びコークス層は、炉内を徐々に降下する。羽口から吹き込まれる熱風とコークスとの反応によって生じるCOガスにより、鉄鉱石は加熱、還元され、軟化融着帯を形成した後、溶滴となる。溶滴、すなわち溶銑は、コークス層の間を通過して炉底部に溜まる。
【0003】高炉に装入された鉄鉱石及びコークスによって形成される炉口部の装入物分布を調整し、適正なガス分布を得ることは非常に重要である。炉内装入物のプロフィールは、ベル式装入装置ではムーバブルアーマを、また、ベルレス装入装置では分配シュートを介する装入物の落下軌跡により決定される。通常、炉口部の装入物は、中央部が低いすり鉢状をなしている。高炉内の装入物のプロフィールは、高炉の操業にとって重要な情報であり、従来より炉内に装入された装入物のプロフィールを測定する方法が開発され、実用化されてきた。
【0004】例えば、特開平9−263809号公報には、炉口部空間内に、炉口径方向に計測ランスを挿入し、この計測ランスに下向きに取り付けられた複数のマイクロ波用アンテナを用いて、炉内装入物表面までの距離をそれぞれ測定し、これに基づき挿入物表面の傾斜角度を算出して、表面プロフィールを推定する方法が提案されている。
【0005】また、特公平6−72921号公報には、FMレーダを装入物上方で移動させて装入物のプロフィールを検出するプロフィール計に、各測定点において得られるビート信号の高周波成分及び低周波成分をそれぞれ通過させるフィルタ、及び各フィルタを通過した周波成分の振幅の比を検出する回路を備え、振幅比が所定の閾値を超えたときの距離演算装置からの出力を用いてプロフィールを求める方法が開示されている。
【0006】特開昭56−117080号公報及び特開昭56−117081号公報には、竪型炉の側壁を貫通させて炉口径方向に挿入するランスの長手方向の複数位置に重錘を懸吊りし、装入物の表面に重錘を着床させて、表層分布の変位を測定する方法が提案されている。
【0007】ところで、最近の高炉操業においては、細粒鉱石等の品質の劣る原料を使用する比率が増加し、原料の性状変化が大きくなっており、炉内装入物の表面のプロフィールが、その変化の影響を受けやすくなっている。また、高炉内のガス流れが安定化し、炉心部の通気性及び通液性が改善するとされている高炉の中心部に、コークスのみを装入するコークス中心装入方法が開発され、実施されている。
【0008】しかし、前述の特開平9−263809号公報、特公平6−72921号公報、特開昭56−117080号公報及び特開昭56−117081号公報で提案された方法による場合は、炉内装入物の円周バランス及び偏心有無の評価・判別ができないという問題があった。これらの方法は、何れも炉口の軸心回りの一方位のみの装入物表面のプロフィールを測定する方法であり、前記一方位に対向する方位のプロフィールは、炉内装入物が同心円状に堆積しており、前記一方位のプロフィールと対称であるとみなしているので、すり鉢状になっている装入物の中央部の極小点の位置が、軸心を超えた対向方位側にある場合は、炉内装入物の円周バランス及び偏心有無の正しい評価・判別を行うことができないという問題があった。
【0009】また、「製鉄研究」第317号(1985)には、マイクロ波回路を組み込んだプローブ(ランス)を高炉の炉頂部において炉口径方向に挿入し、走行・回動させながら装入物表面までの距離を連続的に測定することにより、装入物表面の堆積形状を測定する方法が提案されている。測定時のプローブ動作モードとしては、3つの方位の装入物分布を測定する「Tモード」、炉の略半円相当の装入物表面プロフィールを面状に把握する「面モード」、軸心回りの一方位の装入物分布を、所定の時間間隔をおいて2回測定する「降下速度モード」の3種類のモードが提案されている。
【0010】しかし、この「製鉄研究」で提案された方法においては、下記の問題がある。すなわち、「Tモード」においては、3つの方位のプロフィール測定を行うことができるが、軸心を超えた対向する方位のプロフィール測定ができない。「面モード」においては、高炉の略半円相当の装入物表面のプロフィールを面状に把握することができ、装入物の円周バランスを確認することを目的としているが、プローブを炉内に挿入して測定する時間が長いので、測定時間内に装入物が降下し、正確な装入物の円周バランスの確認ができないという問題がある。また、測定時間が長いと、装入物の荷下がりにより炉頂温度が上昇するので、次の装入物を炉内に投入する必要が生じる。従って、この「面モード」測定方法は、通常の操業には不適である。
【0011】また、「降下速度モード」は、所定間隔をおいて2回、一方位の装入物分布測定を行い、データ相互間のレベル差で降下速度分布を算出する方法であるが、この方法は、前述の特開平9−263809号公報、特公平6−72921号公報、特開昭56−117080号公報及び特開昭56−117081号公報で提案された方法と同様に、軸心を超えた対向する方位のプロフィール測定を行うことができない。
【0012】前記「製鉄研究」で提案された方法に用いる測定装置は、マイクロ波用アンテナをプローブ(ランス)先端部に取り付け、マイクロ波発振回路はプローブの後端部に配置したものであり、炉内に配する先端部のアンテナと炉外に配する後端部のマイクロ波発振回路との間は、プローブ内に組み込んだ導波管を用いて電磁的に接続したものである。この装置は、熱に弱い(通常、80℃以下で使用するもの)電子部品より構成されるマイクロ波発振回路を、炉外に設置できる点で有利であるが、長いプローブ内を導波管で接続しているので、プローブの撓みにより、マイクロ波の距離信号に誤差が生じやすいという欠点を有する。距離測定用センサとしては、導波管は極力短い方が望ましい。
【0013】最近の低品位鉱石を使用する操業及びコークスを中心に装入する操業においては、高炉軸心部へのガス流れを確保しつつ、炉壁流をコントロールする必要がある。このため、従来の軸心回りの一方位のみのプロフィール情報ではなく、高炉軸心部付近の装入物プロフィールを正確に把握して、装入物分布を制御することが重要である。
【0014】本発明は、斯かる事情に鑑みてなされたものであり、計測ランスを、炉口径方向の範囲として、炉口部側面から炉口半径の1.25倍の長さに至る範囲内において走行させることにより、装入物の中央部の極小点の位置が軸心から偏心している場合においても、この偏心を精度よく検出することができ、装入物のプロフィールを正確に検出することができる高炉内装入物表面のプロフィール測定方法を提供することを目的とする。
【0015】また、本発明は、高炉の軸心を中心とし、炉口半径の0.25倍を半径とする円形の範囲内を測定することにより、装入物の中央部を面状に把握することができ、装入物の極小点の偏心をさらに正確に検出することができる高炉内装入物表面のプロフィール測定方法を提供することを目的とする。
【0016】さらに、本発明は、計測ランスの走行位置、及び該走行位置から高炉内挿入物表面までの距離に基づき、高炉内装入物表面のプロフィールを二次元的に求める演算手段を備えることにより、装入物の円周バランス及び偏心の有無を常時、追跡することが可能になる高炉内装入物表面のプロフィール測定装置を提供することを目的とする。
【0017】そして、本発明は、計測ランスの走行位置及び回動角度から定まる位置から高炉内挿入物表面までの距離に基づき、高炉内装入物表面のプロフィールを三次元的に求める演算手段を備えることにより、装入物の円周バランス及び偏心の有無をさらに正確に追跡することが可能になる高炉内装入物表面のプロフィール測定装置を提供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】第1発明の高炉内装入物表面のプロフィール測定方法は、高炉の炉口部側面から、高炉の軸心に向けて計測ランスを挿入し、該計測ランスに設けられた距離測定手段を用いて、装入物表面までの距離を測定し、装入物表面のプロフィールを測定する高炉内装入物表面のプロフィール測定方法において、炉口径方向の範囲として、前記炉口部側面から炉口半径の1.25倍の長さに至る範囲内を測定することを特徴とする。
【0019】第1発明においては、炉口部側面から炉口半径の1.25倍の長さに至る範囲内を測定するので、装入物の中央部の極小点の位置が軸心から偏心している場合においても、この偏心を精度よく検出することができ、装入物の円周バランス及び偏心の有無を常時、追跡することができる。従って、装入物表面のプロフィールの変化を正確に把握することができ、高炉の炉況悪化を未然に防止して、高炉の操業を安定化させることができる。なお、装入物の極小点の位置は、前記範囲を超えることはないことが確認されている。
【0020】第2発明の高炉内装入物表面のプロフィール測定方法は、第1発明において、前記軸心を中心とし、炉口半径の0.25倍の長さを半径とする円形の範囲内を測定することを特徴とする。第2発明においては、装入物の中央部を面状に把握することができるので、装入物の極小点の偏心をさらに正確に検出することができる。
【0021】第3発明の高炉内装入物表面のプロフィール測定装置は、マイクロ波用アンテナと、該マイクロ波用アンテナに導波管を介しマイクロ波を送信するマイクロ波発振回路とを有する計測ランスと、前記マイクロ波発振回路が、前記マイクロ波用アンテナを介し高炉内装入物に送信したマイクロ波、及び前記高炉内装入物表面にて反射し、前記マイクロ波用アンテナを介し受信したマイクロ波に基づき、前記マイクロ波用アンテナから高炉内装入物表面までの距離を求めるマイクロ波信号処理回路とを備えた高炉内装入物表面のプロフィール測定装置において、前記計測ランスを高炉の軸心に向けて走行させるための手段と、前記計測ランスの走行位置を検出する走行位置検出手段と、各走行位置における前記距離に基づき、高炉内装入物表面のプロフィールを二次元的に求める演算手段とを備えたことを特徴とする。
【0022】第3発明においては、計測ランスを走行させ、計測ランスの走行位置及び装入物表面までの距離を測定して、二次元的にプロフィールを求めるので、精度よく装入物表面のプロフィールを把握することができる。特に、炉口径方向の範囲として、前記炉口部側面から炉口半径の1.25倍の長さに至る範囲内を測定した場合においては、装入物の円周バランス及び偏心の有無を常時、追跡することができ、高炉の炉況悪化を未然に防止して、高炉の操業を安定化させることができる。
【0023】第4発明の高炉内装入物表面のプロフィール測定装置は、第3発明において、前記計測ランスの先端部をランス軸を中心にして回動させるための手段と、前記計測ランスの回動角度を検出する回動角度検出手段とを備え、前記演算手段が、前記走行位置及び前記回動角度から定まる各位置における前記距離に基づき、高炉内装入物表面のプロフィールを三次元的に求めることを特徴とする。
【0024】第4発明においては、計測ランスを走行及び回動させ、計測ランスの走行位置、回動角度及び装入物表面までの距離を測定して、三次元的にプロフィールを求めるので、さらに精度よく装入物表面のプロフィールを測定することができる。特に、軸心を中心とし、炉口半径の0.25倍を半径とする円形の範囲内を測定することにより、装入物の円周バランス及び偏心の有無をさらに正確に追跡することができる。
【0025】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施の形態に係るプロフィール測定装置を示す模式図であり、図中、1は高炉である。高炉1の内面には、耐火材20が内張りされており、その内側には鉱石層11及びコークス層12が堆積している。本発明のプロフィール装置の計測ランス3の一端には、マイクロ波を送受信するためのマイクロ波用アンテナ4が設けられており、マイクロ波用アンテナ4には導波管5を介しマイクロ波発振回路6が接続されている。マイクロ波発振回路6は、FM−CW(周波数連続変調波)方式によりマイクロ波を導波管5を介しマイクロ波用アンテナ4に送信する。計測ランス3の他端には、マイクロ波用アンテナ4から送信されたマイクロ波と、装入物表面2にて反射し、マイクロ波用アンテナ4が受信したマイクロ波とを混合検波し、装入物のレベル高さに対応するビート信号を生成して、マイクロ波用アンテナ4から装入物までの距離を求めるマイクロ波信号処理回路7が取り付けられている。計測ランス3のマイクロ波信号処理回路7の取付け側端部は、電動又は油圧アクチュエータ等からなるランス走行機構8及びランス回動機構9夫々を介してランス走行フレーム10の一端部に取り付けられている。
【0026】本発明のプロフィール測定装置は、図1に示したように、高炉1の炉口部に常設することを基本に設計してあるが、必要な場合には炉内から炉外に取り出すことができるように、着脱自在に構成されている。高炉1内の装入物表面2の上方に計測ランス3を常設することは、計測ランス3を水冷ジャケット構造にした場合、耐久性に問題ないことが確認されている。
【0027】熱的に弱い電子部品より構成されるマイクロ波発振回路6は、高炉内の高温雰囲気に晒されるが、水冷ジャケット構造の計測ランス3内に収納されており、炉外から窒素ガスも供給されるので十分に冷却される。また、窒素ガスはマイクロ波用アンテナ4内に吹き出させ、炉内に浮遊しているダストをパージして、マイクロ波用アンテナ4の放射面にダストが付着するのを防止するのが望ましい。以上のように、計測ランス3、マイクロ波用アンテナ4及びマイクロ波発振回路6が高炉炉内の高温雰囲気に晒されても、高炉1内へ常設するのが可能になっている。この装置は、マイクロ波用アンテナ4とマイクロ波発振回路6とを近接させて設置することができるので、導波管5を短くすることができる。従って、マイクロ波の距離信号は、計測ランス3の撓みに影響されない。
【0028】炉口部に挿入された計測ランス3は、制御装置13が、操作デスク14から測定要求信号を受信してランス走行機構8及びランス回動機構9を駆動することにより、走行及び回動されるようになしてある。ランス走行機構8及びランス回動機構9には、夫々、走行距離検出器18及び回動角度検出器19が接続されており、ランス走行距離T及びランス回動角θが検出されるべくなしてある。検出されたランス走行距離T、ランス回動角θ、及びマイクロ波信号処理回路7により求められた距離Hの信号は、制御装置13へ出力される。制御装置13は、ランス走行距離T、ランス回動角θ及び距離Hをデータ処理装置15へ出力し、データ処理装置15はこれをデータ処理し、(x,y,z)の直交座標の信号群として、演算器16に伝送する。演算器16は画像処理を行い、画像表示器17へ出力した信号に基づき、画像表示器17において画像が表示されるようになしてある。
【0029】この実施形態に係るプロフィール測定方法においては、前記プロフィール測定装置を用い、計測ランス3を、炉口径方向の範囲として、炉口部の側面から(R+E)の長さに至る範囲内で走行させ、高炉1内に堆積した鉱石層11及びコークス層12のプロフィールを測定する。ここで、Rは炉口半径、Eは軸心I−Iを超えた長さを示し、Rの0.25倍の長さである。
【0030】例えば、後述する図3に示す炉口径φ10mの大型高炉においては、Eは+1.25m(5×0.25)である。通常、この大型高炉において、高炉の軸心I−Iからの装入物分布のずれe(装入物分布の極小点)は最大1mであることが確認されている。計測ランス3は片持ち支持構造であり、これ以上測定範囲を拡大した場合、冷却構造とはいえ、機械的強度を強大に向上させる必要があるので、Eは炉口半径Rの0.25倍の長さに限定している。
【0031】そして、計測ランス3を走行及び回動させることにより、軸心I−Iを中心とし、0.25×R(R:炉口半径)の長さを半径とする円形範囲内を測定する。軸心部を面状に測定することにより、装入物分布のずれeをより正確に検出することができる。装入物分布のずれeは、上述したように、0.25×Rの長さを半径とする円形範囲内に収まることは確認されている。
【0032】この実施の形態に係る方法においては、まず、制御装置13がランス走行機構8を駆動して計測ランス3を走行させ、マイクロ波用アンテナ4からマイクロ波を連続的に送信して被測定面からの反射波を受信し、マイクロ波信号処理回路7が送信波と受信波とを混合検波して、装入物のレベル高さに対応するビート信号を生成し、マイクロ波用アンテナ4から被測定面までの距離Hを求める。使用するマイクロ波は、10GHz 付近のXバンドが一般的であるが、さらに高い周波数を使用してもよい。
【0033】計測ランス3が軸心I−Iから炉口半径Rの0.25倍の位置に達した場合、ランス走行機構8及びランス回動機構9を駆動することにより、軸心I−Iを中心とし、炉口半径Rの0.25倍の長さを半径とする円形範囲内の各位置における距離Hを求める。図2は、本発明の実施の形態に係るプロフィール測定装置の計測ランス3から送信したマイクロ波の装入物表面2上の位置の軌跡Lを示した模式的平面図である。
【0034】走行距離検出器18、回動角度検出器19及びマイクロ波信号処理回路7は、制御装置13を介しランス走行距離T、ランス回動角θ、及び距離Hの信号をデータ処理装置15へ出力し、データ処理装置15はこれをデータ処理し、(x,y,z)の直交座標の信号群として、演算器16へ出力する。演算器16は、データ処理装置15から入力された(x,y,z)の直交座標の信号群に基づき画像処理を行い、画像表示器17へ信号を出力し、画像表示器17はこれに基づき装入物の分布画像を表示する。
【0035】図3は、炉口径φ10mの大型高炉において、炉口の径方向範囲として、炉口部側面から、軸心I−Iを1m超えた位置まで測定した場合の鉱石層11及びコークス層12の層厚分布を示したグラフであり、横軸は、軸心からの炉口径方向距離、縦軸は公称ストックレベルからの深さ方向の位置を示す。図3においては、炉内半円分の面状プロフィールSも重ねて示してある。図4は、図3に示した鉱石層11とコークス層12の層厚分布を基に、鉱石層厚/コークス層厚と炉口径方向距離との関係を示したグラフである。
【0036】図3より、鉱石層11及びコークス層12は、中央部が低いすり鉢状に堆積しており、装入物分布の極小点Pが軸心I−Iよりe(略0.5m)だけずれていることが判る。
【0037】本発明の方法においては、計測ランス3の走行及び回動を組み合わせて求められた軸心I−I付近のプロフィールSから、装入物分布の極小点Pを特定することができる。従来の炉口の軸心回りの一方位のみのプロフィールを測定する方法においては、装入物の極小点Pの位置が軸心I−Iを超えた、対向する方位側にある場合は、正しい装入物バランスの評価及び判別ができないという問題点があったが、本発明の方法による場合は、上述したように、極小点Pの位置を正確に検出することができ、装入物のバランスを正確に評価することができる。
【0038】実際の操業においては、各シフト(8h)2回程度のプロフィール測定を行い、装入物表面2のプロフィールの変化を監視する。装入物プロフィール測定の項目のうち、傾斜角及び装入物分布バランスはガス流分布に大きく影響するので、日常分布調整の判断材料として欠くことができない指標の一つである。装入物の分布バランスが片寄り、偏心している場合、ガス流分布が軸心I−Iよりずれ、ガス流が軸心I−Iを通らなくなって高炉1全体のガス利用率が低下し、燃料費が増加することになる。また、炉況悪化につながる虞もある。原料装入系に起因する装入物分布バランスの片寄り(偏心)を防止するために、ベルレス装入装置においては、炉頂原料ホッパから分配シュートへの原料流下のセンタリング調整を行い、ベル装入装置においては、ムーバブルアーマのストローク変更を行い、装入物分布調整を行う。また、操業面からは、羽口からの円周方向風量の入れ方調整等を行って円周方向バランスを調整する必要がある。
【0039】本発明のプロフィール測定方法においては、上述したように、装入物の円周バランス及び偏心の有無を常時、追跡することができ、装入物表面2のプロフィールの変化を正確に把握することができるので、高炉の炉況悪化を未然に防止して、高炉の操業を安定化させることができる。
【0040】なお、前記実施の形態においては、粉塵、熱、騒音及び光等の影響が少なく、非接触で測定できるマイクロ波を用いて装入物までの距離Hを測定しているが、これに限定されるものではなく、機械式サウンジング装置を応用した、測定点毎に計測ランス3の停止と重錘の昇降とを繰り返す機械式プロフィール計を適用してもよく、また光学式のレーザも適用することが可能である。
【0041】また、前記実施の形態においては、計測ランス3が軸心I−Iから炉口半径Rの0.25倍の位置に達したとき、計測ランス3を軸心I−Iを中心とし、炉口半径Rの0.25倍の長さを半径とする円形範囲内において、三次元的に装入物表面2のプロフィールを求める場合につき説明しているが、計測ランス3を回動させることなく、直線的に移動させ、二次元的に装入物表面2のプロフィールを求めることにしてもよい。但し、軸心I−I付近を面状に測定する方が、装入物の極小点Pを正確に検出することができる。また、計測ランス3を軸心I−Iを中心とし、炉口半径Rの0.25×2倍の長さを一辺とする正方形範囲内の装入物表面2の三次元的プロフィールを求めるように計測ランス3を走行及び回動させるのが好ましい。
【0042】
【発明の効果】以上、詳述したように、第1発明による場合は、炉口部側面から炉口半径の1.25倍の長さに至る範囲内を測定するので、装入物の中央部の極小点の位置が軸心から偏心している場合においても、この偏心を精度よく検出することができ、装入物の円周バランス及び偏心の有無を常時、追跡することができる。従って、装入物表面のプロフィールの変化を正確に把握することができ、高炉の炉況悪化を未然に防止して、高炉の操業を安定化させることができる。
【0043】第2発明による場合は、装入物の中央部を面状に把握することができるので、装入物の極小点の偏心をさらに正確に検出することができる。
【0044】第3発明による場合は、計測ランスを走行させ、走行位置及び装入物表面までの距離を測定して、二次元的にプロフィールを求めるので、精度よく装入物表面のプロフィールを把握することができる。特に、炉口径方向の範囲として、前記炉口部側面から炉口半径の1.25倍の長さに至る範囲内を測定した場合においては、、装入物の円周バランス及び偏心の有無を常時、追跡することができ、高炉の炉況悪化を未然に防止して、高炉の操業を安定化させることができる。
【0045】第4発明による場合は、計測ランスを走行及び回動させ、計測ランスの走行位置、回動角度及び装入物までの距離を測定して、三次元的にプロフィールを求めるので、さらに精度よく装入物表面のプロフィールを測定することができる。特に、軸心を中心とし、炉口半径の0.25倍を半径とする円形の範囲内を測定することにより、装入物の円周バランス及び偏心の有無をさらに正確に追跡することができる。
【出願人】 【識別番号】000002118
【氏名又は名称】住友金属工業株式会社
【出願日】 平成12年10月5日(2000.10.5)
【代理人】 【識別番号】100078868
【弁理士】
【氏名又は名称】河野 登夫 (外1名)
【公開番号】 特開2002−115008(P2002−115008A)
【公開日】 平成14年4月19日(2002.4.19)
【出願番号】 特願2000−306767(P2000−306767)