| 【発明の名称】 |
真空発生器 |
| 【発明者】 |
【氏名】山崎 清康
【氏名】北原 敏正
【氏名】増沢 澄成
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| 【要約】 |
【課題】真空を速やかに破壊してワークの吸着離脱操作を高速で行うことができる真空発生器を提供する。
【解決手段】供給ポート１０から供給される圧縮空気の送気をＯＮ−ＯＦＦ制御する制御部７０と、ＯＮ時にシリンダ１６内に送気された圧縮空気をノズル１８から噴射しディフューザスプール２０を経由して排気ポート４０から排出することにより真空発生させる真空発生部と、該真空発生部と連通する真空ポート５０とを備えた真空発生器において、前記ディフューザスプール２０を前記シリンダ内で軸線方向に可動に設けると共に、ディフューザスプールの外周面と前記シリンダの内面との間に真空破壊時に真空破壊用の補助流路となる空隙を設け、前記送気のＯＮ時には、圧縮空気の押圧力により前記ディフューザスプール２０が前進位置に移動し前記空隙部が閉止されて真空ポートからエア吸引され、前記送気のＯＦＦ時には、前記ディフューザスプールが後退位置に移動し前記排気ポート４０、前記補助流路及び前記ディフューザスプールの内径部を経由して真空破壊可能に設けられている。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 供給ポートから供給される圧縮空気の送気をＯＮ−ＯＦＦ制御する制御部と、ＯＮ時にシリンダ内に送気された圧縮空気をノズルから噴射しディフューザスプールを経由して排気ポートから排出することにより真空発生させる真空発生部と、該真空発生部と連通する真空ポートとを備えた真空発生器において、前記ディフューザスプールを前記シリンダ内で軸線方向に可動に設けると共に、ディフューザスプールの外周面と前記シリンダの内面との間に真空破壊時に真空破壊用の補助流路となる空隙を設け、前記送気のＯＮ時には、圧縮空気の押圧力により前記ディフューザスプールが前進位置に移動し前記空隙部が閉止されて真空ポートからエア吸引され、前記送気のＯＦＦ時には、前記ディフューザスプールが後退位置に移動し前記排気ポート、前記補助流路及び前記ディフューザスプールの内径部を経由して真空破壊可能に設けられたことを特徴とする真空発生器。
【請求項２】 前記ディフューザスプールに、前記前進位置から後退位置に向けてディフューザスプールを移動させる向きに付勢し、送気のＯＮ時には圧縮空気の押圧力により付勢力に抗してディフューザスプールを前記前進位置に移動させ、送気のＯＦＦ時には付勢力によりディフューザスプールを前記後退位置に移動させる付勢手段を設けたことを特徴とする請求項１記載の真空発生器。
【請求項３】 前記ディフューザスプールの外周面に、前記前進位置においては前記シリンダの内周面に形成したストッパ段差と当接して前記補助流路を閉止し、前記後退位置においては前記シリンダの内周面に形成したストッパ段差と離間して前記補助流路を前記真空ポートとを連通させるエアパッキンを設けたことを特徴とする請求項１または２記載の真空発生器。
【請求項４】 前記ディフューザスプールの補助流路に連通して、前記排気ポートとは別系統の、フィルタを装着した大気導入ポートを設けたことを特徴とする請求項１、２または３記載の真空発生器。
【請求項５】 前記制御部が、前記供給ポートから供給される圧縮空気を切り換えるパイロットバルブと、該パイロットバルブによる圧縮空気の切り換え操作によりスプール弁を進退動させ、スプール弁の移動位置により前記供給ポートからシリンダへの送気をＯＮ−ＯＦＦすべく設けたことを特徴とする請求項１、２、３または４記載の真空発生器。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はワークをエア吸着して搬送する吸着搬送装置等に使用される真空発生器に関し、とくにワークを真空ポートから高速で離脱させることを可能にする真空発生器に関する。
【０００２】
【従来の技術】部品等のワークをエア吸着して搬送する吸着搬送装置等にはエアによって真空を発生させる真空発生器が多用されている。これらの真空発生器には真空をＯＮ−ＯＦＦ制御する切り換え用のバルブを備え、真空をＯＮにした際にワークをエア吸着し、真空をＯＦＦにした際にワークを離脱するように形成された製品がある。最近の各種製造装置ではサイクルタイムを短縮し作業効率を向上させる要請から、真空発生器に対してもワークの脱着に要する時間を短縮することが求められている。
【０００３】図５は、ワークの脱着操作に用いる真空発生器の従来例の構成を示す断面図である。１０は圧縮空気の供給ポート、４０は排気ポート、５０はワークを吸着する真空ポートである。６０はスプール弁であり、パイロットバルブ７０の作用により軸線方向に前後動し、供給ポート１０側とスプール弁６０とを接続する第１の連絡流路と、スプール弁６０と排気ポート４０側とを接続する第２の連絡流路との連通を前後の移動位置によって０Ｎ−ＯＦＦ制御するように構成されている。第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが連通した状態が真空発生時（ワーク吸着）、第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが切断した状態が真空解除時（ワーク離脱）である。
【０００４】１６は真空発生器の本体から円筒状に延出したシリンダである。シリンダ１６の先端には排気ポート４０が設けられている。１８はシリンダ１６内に配置したノズル、２０はノズル１８の前側に配置したディフューザスプールである。ノズル１８は第２の連絡流路１４から送入された圧縮空気を高速で噴出させ、真空ポート５０側を真空に吸引する作用をなす。５２は真空発生器の本体から円筒状に延出したシリンダである。４５はシリンダ５２とシリンダ１６との間を連通する連通流路である。真空ポート５０側にワークがエア吸着される作用は、ノズル１８及びディフューザスプール２０を介して供給ポート１０から排気ポート４０に向けて噴出する圧縮空気の作用によって、連通流路４５を介してシリンダ５２からエア吸引されることによる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図５に示す真空発生器において、真空ポート５０側にエア吸着されたワークを離脱させる操作は、パイロットバルブ７０によりスプール弁６０を第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とを遮断する位置へ移動させることによってなされる。すなわち、第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが遮断されることにより圧縮空気の噴射が停止され、排気ポート４０側からディフューザスプール２０、連通流路４５、シリンダ５２を通じて真空破壊され、大気圧となってワークの吸着が解除される。しかしながら、図５に示すような従来の真空発生器では、効率的に真空を発生させるため細径の内径部を設けたディフューザスプールを配置しているから、真空破壊する際にエアの流れが抑制され真空破壊を高速で行うことが妨げられるという問題がある。
【０００６】前述したように、真空発生器を使用したワークの吸着搬送装置では高速でワークを吸着・離脱できるようにすることが求められているから、上記のような構成の従来装置の場合には、ワークの離脱速度が必ずしも十分ではないという問題があった。そこで、より高速にワークを離脱させる装置として、真空破壊してワークを離脱させる際に流量調節弁を用いて流量を絞った圧縮空気を真空回路内に導入して真空破壊する方法が考えられている。
【０００７】図６は、真空破壊してワークを離脱させる際に圧縮空気を真空回路内に流して離脱させる方法による真空発生器の例を示す。供給ポート１０、排気ポート４０及び真空ポート５０を備えていること、パイロットバルブ７０によりスプール弁６０を操作して真空ポート５０からエア吸引する作用を奏することについては図５に示す真空発生器と同様であるが、真空破壊用のバルブ８０を設けて、真空破壊時に圧縮空気をシリンダ５２側に導入可能に形成したこと、ニードル弁８２により真空破壊時に導入する圧縮空気の流量を調節するように構成した点が相違する。
【０００８】図６に示すように、真空破壊時に圧縮空気を真空回路側に導入する方法は、単に大気圧に戻す方法にくらべて離脱速度を速めることは可能であるが、小部品を搬送操作するような場合には、真空破壊時に逆にワークを吹き飛ばしてしまうことがあるといったように流量を適当に調節して離脱速度を最適に調節することが難しく、また、真空吸引操作と真空破壊操作用に別個に電磁弁等の制御部を設ける必要があり、これらの制御部の駆動タイミングの調節が難しいといった問題があった。
【０００９】そこで、本発明はこれらの問題を解消すべくなされたものであり、その目的とするところは、真空破壊を大気圧に戻すことによって行うことで微妙な調節等を行うことなくワークの離脱操作を安定して行うことを可能にすると共に、ワークの離脱操作をより高速で行うことを可能にして、効率的でかつ安定したワークの吸着離脱操作を行うことができる真空発生器を提供しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達成するために次の構成を備える。すなわち、供給ポートから供給される圧縮空気の送気をＯＮ−ＯＦＦ制御する制御部と、ＯＮ時にシリンダ内に送気された圧縮空気をノズルから噴射しディフューザスプールを経由して排気ポートから排出することにより真空発生させる真空発生部と、該真空発生部と連通する真空ポートとを備えた真空発生器において、前記ディフューザスプールを前記シリンダ内で軸線方向に可動に設けると共に、ディフューザスプールの外周面と前記シリンダの内面との間に真空破壊時に真空破壊用の補助流路となる空隙を設け、前記送気のＯＮ時には、圧縮空気の押圧力により前記ディフューザスプールが前進位置に移動し前記空隙部が閉止されて真空ポートからエア吸引され、前記送気のＯＦＦ時には、前記ディフューザスプールが後退位置に移動し前記排気ポート、前記補助流路及び前記ディフューザスプールの内径部を経由して真空破壊可能に設けらたことを特徴とする。
【００１１】また、前記ディフューザスプールに、前記前進位置から後退位置に向けてディフューザスプールを移動させる向きに付勢し、送気のＯＮ時には圧縮空気の押圧力により付勢力に抗してディフューザスプールを前記前進位置に移動させ、送気のＯＦＦ時には付勢力によりディフューザスプールを前記後退位置に移動させる付勢手段を設けたことを特徴とする。また、前記ディフューザスプールの外周面に、前記前進位置においては前記シリンダの内周面に形成したストッパ段差と当接して前記補助流路を閉止し、前記後退位置においては前記シリンダの内周面に形成したストッパ段差と離間して前記補助流路を前記真空ポートとを連通させるエアパッキンを設けたことを特徴とする。これによって圧縮空気のＯＮ−ＯＦＦ操作とともにディフューザスプールが前後動し補助流路の開閉が好適になされる。また、前記ディフューザスプールの補助流路に連通して、前記排気ポートとは別系統の、フィルタを装着した大気導入ポートを設けたことを特徴とする。これによって真空破壊の際に汚れた大気が導入されることを防止できるとともに、真空破壊が容易にかつ高速でなされるようになる。また、前記制御部が、前記供給ポートから供給される圧縮空気を切り換えるパイロットバルブと、該パイロットバルブによる圧縮空気の切り換え操作によりスプール弁を進退動させ、スプール弁の移動位置により前記供給ポートからシリンダへの送気をＯＮ−ＯＦＦすべく設けたことを特徴とする。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る真空発生器の好適な実施の形態について添付図面と共に詳細に説明する。図１、２は真空発生器の一実施形態の内部構造を示す断面図であり、図１は真空発生時、図２は真空破壊時の状態を示す。本実施形態の真空発生器は大気圧に戻すことによって真空破壊する方法によりワークを真空ポート側から離脱可能としたものであり、基本的な構成は図５に示す真空発生器と同様である。なお、以下の説明で従来例と同一の構成部分については同一の符号を付している。
【００１３】真空発生器は接続用ポートとして、圧縮空気源に接続される供給ポート１０と、供給ポート１０から本体内に送入された圧縮空気を排出する排気ポート４０と、ワークを吸着離脱する側である真空ポート５０とを備える。本実施形態では、本体から円筒状にシリンダ１６、５２を延設し、シリンダ１６、５２の端部に排気ポート４０と真空ポート５０を設けている。供給ポート１０と真空ポート５０にはエアチューブをワンタッチで挿抜するコレットチャック１０ａ、５０ａが装着されている。
【００１４】真空発生と真空破壊の切り換えをスプール弁６０の作用により第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４の連通を制御することによって行うことも従来装置と同様である。スプール弁６０はその軸線方向をシリンダ１６の軸線方向と平行にして供給ポート１０の側方に配置されている。なお、スプール弁６０の軸線方向は必ずしもシリンダ１６の軸線方向と平行である必要はない。第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４は供給ポート１０及びシリンダ１６側から側方に延出するように設けられ、供給ポート１０及びシリンダ１６とスプール弁６０が装着されているシリンダ部６１との間を連絡する。
【００１５】スプール弁６０は軸線方向の中途部が細径部６２に形成され、細径部６２の外周面とスプール弁６０が摺動するシリンダ部６１の内周面との間に空隙が形成されている。６４は細径部６２の端部の傾斜した段差部に周設したエアパッキンであり、スプール弁６０が軸線方向に移動することによってエアパッキン６４とシリンダ部６１の内周面に形成した段差部６６とが当接しあるいは離間するように形成されている。スプール弁６０によって第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４との連通を制御する操作は、スプール弁６０を軸線方向に進退動させ、エアパッキン６４を段差部６６に当接させあるいは離間させる操作によるものである。
【００１６】すなわち、スプール弁６０が前進してエアパッキン６４がシリンダ部６１の内面の段差部６６に当接した状態は、供給ポート１０からの圧縮空気の送入が阻止され、第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが遮断された状態である。また、スプール弁６０が後退してエアパッキン６４とシリンダ部６１の内面の段差部６６が離間した状態は、供給ポート１０から送入された圧縮空気がスプール弁６０の細径部とシリンダ部６１の内周面との空隙部分を介して第２の連絡流路１４へ通流し、第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが連通した状態である。図１は、スプール弁６０のエアパッキン６４と段差部６６とが離間した状態（真空発生）、図２はスプール弁６０のエアパッキン６４が段差部６６に当接した状態（真空破壊）である。
【００１７】パイロットバルブ７０はスプール弁６０を前進位置と後退位置の二位置間を進退動させる作用をなす。本実施形態では、パイロットバルブ７０によりスプール弁６０の両端に作用する圧縮空気を切り換えてスプール弁６０を進退動させる。実際には、スプール弁６０の前端面にスプール弁６０よりも大径のピストン６８を当接させ、ピストン６８の前端面とスプール弁６０の後端面に作用する圧縮空気をパイロットバルブ７０によって切り換え、ピストン６８の前端面に作用する圧縮空気とスプール弁６０の後端面に作用する圧縮空気の推力の差によってスプール弁６０を移動させている。
【００１８】７２は電磁石、７４は電磁石７２によって駆動されるアーマチャである。アーマチャ７４によってピストン６８の前端面への流路が開くと圧縮空気によるスプール弁６０の前端に作用する推力がスプール弁６０の後端に作用する推力を上回ってスプール弁６０は後退し（真空発生状態）、ピストン６８の前端面への流路が閉鎖されるとスプール弁６０の後端面に作用する圧縮空気の推力によってスプール弁６０は前進する（真空破壊状態）。このようにパイロットバルブ７０は圧縮空気の切り換えを制御し、圧縮空気の圧力を利用してスプール弁６０を移動操作するものである。圧縮空気の押圧力を利用してスプール弁６０を進退動させる方法は電磁石７２として大きなパワーを必要としないという利点がある。スプール弁６０を移動させる方法はもちろんこの方法に限定されるものではない。
【００１９】第２の連絡流路１４からシリンダ１６内に導かれた圧縮空気はノズル１８により流路が絞られ、ディフューザスプール２０の後端に向けて噴射され真空発生する。２２はノズル１８とディフューザスプール２０の後端との間の空隙部であるエア噴射部である。ノズル１８及びディフューザスプール２０はともにシリンダ１６内で軸線方向に可動に配設される。２４はノズル１８の外面に周設したシール部材であり、第２の連絡流路１４から圧縮空気が送入されると、シール部材２４によりシリンダ１６の内周面とノズル１８の外周面との間がエアシールされ、ノズル１８が前方に移動した移動位置でノズル１８の内径部から圧縮空気が噴出される。
【００２０】ディフューザスプール２０の前進位置は、ディフューザスプール２０の前端側（排気ポート４０側）の細径部２０ａとディフューザスプール２０の後端側の太径部２０ｂとが接続される段差部２０ｃに装着したエアパッキン２６がシリンダ１６の内周面に形成したストッパ段差１６ａに当接することによって規制される。ディフューザスプール２０の先端側の細径部２０ａはディフューザスプール２０の外周面とシリンダ１６の内周面との間に空隙を形成し、真空破壊用の補助流路を形成するために設けたものである。
【００２１】２８はこのディフューザスプール２０の細径部２０ａの外面に装着した付勢手段としてのスプリングである。このスプリング２８はシリンダ１６の内面に形成した係止突起１６ｂとディフューザスプール２０の外面に設けた突起との間を弾発するように配設しディフューザスプール２０を常時後方に移動する向きに付勢するように設ける。これにより、ディフューザスプール２０を前方へ押動しない限りディフューザスプール２０は後方へ移動することになる。ディフューザスプール２０の後端面はノズル１８に当接しており、ディフューザスプール２０が後退した際の位置はノズル１８の後端面がストッパ１９の端面に当接した位置によって規制される。
【００２２】シリンダ１６側と真空ポート５０側とは連通流路４５を介して連通する。真空発生部２２の近傍位置でディフューザスプール２０の外周面には連通孔が開口し、この連通孔及び連通流路４５を介してシリンダ１６と真空ポート５０側とが連通する。連通流路４５はシリンダ１６の側方から屈曲して真空ポート５０側のシリンダ５２に通じている。ノズル１８から圧縮空気が噴射されその噴射流によってシリンダ５２側からエアが吸引されることになる。３５は圧縮エアが通流する際の音を消すためのサイレンサーエレメントであり、シリンダ１６の先端側の内周面に設けられている。４０ａはサイレンサーエレメント３５を着脱するためのキャップである。５４は真空ポート５０側のシリンダ５２の内部に配設したフィルタである。フィルタ５４はエア吸引する際に真空発生器本体内に汚れたエアが侵入しないように保護する作用を有する。
【００２３】本実施形態の真空発生器は以下のような作用によってワークの吸着及び離脱操作を行う。図１は真空ポート５０側でワークを吸着支持する真空発生状態である。真空発生状態とは、前述したようにパイロットバルブ７０によってスプール弁６０が後退位置に移動し、第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが連通して供給ポート１０からの圧縮空気がノズル１８側に供給されている状態である。ノズル１８に圧縮空気が供給されるとエア圧によってノズル１８及びディフューザスプール２０が前方に押動されディフューザスプール２０のエアパッキン２６がシリンダ１６のストッパ段差１６ａに当接する。このディフューザスプール２０及びノズル１８が前方に押動される操作は、ディフューザスプール２０の外面に装着されたスプリング２８の付勢力に抗してなされるもので、圧縮空気による押圧力はスプリング２８による付勢力を上回るように設定されている必要がある。
【００２４】ディフューザスプール２０が前進位置に移動しエアパッキン２６がストッパ段差１６ａに当接した状態ではエア流はディフューザスプール２０の内径部のみを通流し、通常のノズル１８とディフューザスプール２０による真空発生作用が奏される。すなわち、ノズル１８からの高速噴射流により連通流路４５を介して真空ポート５０側からエア吸引され、ワークがエア吸着可能となる。
【００２５】図２は真空破壊してワークを真空ポート５０側から離脱させる操作状態を示す。真空破壊はまず、パイロットバルブ７０の制御によってスプール弁６０を後退位置から前進位置に移動させ、スプール弁６０のエアパッキン６４を段差部６６に当接させる。これによって第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが遮断され、供給ポート１０から供給される圧縮空気がノズル１８及びディフューザスプール２０が装着されているシリンダ１６に送入されなくなる。ノズル１８及びディフューザスプール２０に圧縮空気による押圧力が作用しなくなるとディフューザスプール２０とシリンダ１６の内面の係止突起１６ｂとの間に装着したスプリング２８の付勢力によってディフューザスプール２０が後退位置まで押動されて移動する。図２は、ディフューザスプール２０が後退位置まで移動した状態である。
【００２６】ディフューザスプール２０が後退位置まで移動するということは、ディフューザスプール２０に設けたエアパッキン２６とシリンダ１６の内面に設けたストッパ段差１６ａとが離間し、ディフューザスプール２０の細径部２０ａとシリンダ１６の内面との間が補助流路３０として連通することを意味する。すなわち、供給ポート１０からの圧縮空気がシリンダ１６内に作用しなくなると、エア吸引されていた真空回路内に排気ポート４０から大気が流入して真空破壊され、真空ポート５０にエア吸着されていたワークが離脱される。本実施形態の真空発生器では、この大気が真空回路内に流入して真空破壊する操作が、ディフューザスプール２０の内径部から連通流路４５を経由して破壊される流路とディフューザスプール２０の外周面側を通過する補助流路３０を経由して破壊される流路の双方によってなされるから、真空破壊の立ち上がりが速くなり瞬時に真空破壊することが可能になる。
【００２７】従来のディフューザスプール２０を使用した真空発生器では、ディフューザスプール２０の内径部を経由した真空破壊しかできなかったことに対して、本実施形態の真空発生器ではディフューザスプール２０の外面側を通流する補助流路３０を利用することでより高速の真空破壊を可能にしたものである。ディフューザスプール２０を移動させる操作はスプリング２８の付勢力によっているからディフューザスプール２０の移動も瞬時に行えて、構造的にも簡素に形成できるという利点がある。サイレンサーエレメント３５及びフィルタ５２は真空破壊時の通流エアをクリーンエアとしてワークがエア操作によって汚染されないようにする。
【００２８】また、真空破壊後、真空吸引する場合は、パイロットバルブ７０の制御によってスプール弁６０を図２の前進位置から図１の後退位置へ移動させ、第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とを連通させればよい。第１の連絡流路１２と第２の連絡流路１４とが連通することにより、スプリング２８の付勢力に抗してノズル１８及びディフューザスプール２０がともに前進位置に移動し、補助流路３０が閉止されてディフューザスプール２０の内径部を介して圧縮空気が排出される真空発生状態となる。こうして、真空発生状態と真空破壊状態を適宜発生させてワークの吸着離脱操作がなされる。
【００２９】図３は上述した図１、２に示す実施形態の真空発生器の真空破壊時におけるエア回路図を示す。同図では真空破壊時にディフューザスプール２０が真空破壊位置まで移動し、真空発生部１００を経由して真空破壊される回路とディフューザスプール２０による別系統の回路によって真空破壊されることを示す。なお、上記実施形態では真空破壊時の補助流路３０による大気の導入を真空発生時に使用する排気ポート４０と共通にしているが、図４は真空破壊時に補助流路から導入する大気を排気ポート４０とは別系統に設けた例を示す。真空破壊時にディフューザスプール２０を経由して大気を導入する際には必ずしも排気ポート４０から大気を導入する必要はなく、別系統の大気導入ポートから大気を導入して真空破壊することも可能である。
【００３０】たとえば、排気ポート４０側のシリンダ１６に真空破壊用の大気導入ポートを設け、フィルタ５２ａを介して、この大気導入ポートから大気を導入するようにすることも可能である。大気を取り入れて真空回路を真空破壊する際にフィルタ５２ａを介して大気を取り入れることによって、汚れた大気が真空発生器の本体内に侵入することを防止し、真空発生器の機能が劣化しないよう保護することができる。
【００３１】なお、上記実施形態においては、真空破壊する操作は排気ポート４０から大気を導入して破壊する方式（パッシブ方式）について説明したが、図６に示すような、圧縮空気を真空回路に導入して真空破壊する装置に適用することも可能である。
【００３２】
【発明の効果】本発明による真空発生器によれば、上述したように、ディフューザスプールをシリンダ内で軸線方向に可動に設けることによって、真空破壊時にディフューザスプールが真空破壊位置に移動し、補助流路を介して大気を真空回路に導入することが可能となることから、真空破壊の立ち上がり時間を短縮することができ、従来にくらべてより高速で真空破壊することができ、ワークの吸着搬送操作をより高速でかつ効率的に行うことを可能にする等の著効を奏する。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００１５２９９６
【氏名又は名称】株式会社日本ピスコ
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| 【出願日】 |
平成１３年１月２９日（２００１．１．２９） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００７７６２１
【弁理士】
【氏名又は名称】綿貫 隆夫 （外１名）
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| 【公開番号】 |
特開２００２−２２４９８４（Ｐ２００２−２２４９８４Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１４年８月１３日（２００２．８．１３） |
| 【出願番号】 |
特願２００１−１９７２１（Ｐ２００１−１９７２１） |
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