| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２００２−３７１３２６ | 転炉羽口開口方法および装置 |
| 特開２００２−３７１３２７ | 発泡金属の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３２８ | 銅合金の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３２９ | 金属−セラミックス複合材料の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３３０ | 金属−セラミックス複合材料の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３３１ | チタン合金 |
| 特開２００２−３７１３３２ | 成形性および塗装焼付け硬化性に優れるアルミニウム合金板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３７１３３３ | 成形性、塗装焼付け硬化性および耐食性に優れるアルミニウム合金板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３７１３３４ | 冷間加工が可能なＭｇ合金材、その製造方法 |
| 特開２００２−３７１３３５ | 耐酸化性に優れた排気系部品用の耐熱球状黒鉛鋳鉄 |
| 特開２００２−３７１３３６ | 高張力鋼材および鋼板 |
| 特開２００２−３７１３３７ | 表面性状に優れた溶接構造用Ｃｕ含有鋼およびその製造方法 |
| 特開２００２−３７１３３８ | レーザー溶接部の靭性に優れた鋼 |
| 特開２００２−３７１３３９ | 加工性，冷間鍛造性に優れた軟質ステンレス鋼板 |
| 特開２００２−３７１３４０ | 無方向性電磁鋼板及びその製造方法 |
| 特開２００２−３７１３４１ | 耐熱亀裂性に優れた鋼材 |
| 特開２００２−３７１３４２ | 溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３７１３４３ | 高耐食性を有し加工性に優れた溶融めっき鋼線 |
| 特開２００２−３７１３４４ | 加工性及び耐食性に優れた潤滑被覆溶融Ａｌ−Ｚｎ合金めっき鋼板 |
| 特開２００２−３７１３４５ | 溶融Ｚｎ−Ａｌ−Ｍｇ合金めっき鋼板の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３４６ | Ｎｉ基合金製部品の補修方法 |
| 特開２００２−３７１３４７ | 銅製強制冷却型誘導加熱坩堝の防食方法 |
| 特開２００２−３７１３４８ | チタン合金部品の疲労特性改善方法とそれを用いたチタン合金部品 |
| 特開２００２−３７１３４９ | 蒸着用マスク |
| 特開２００２−３７１３５０ | 透明積層体の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３５１ | 皮膜形成装置 |
| 特開２００２−３７１３５２ | バナジウム系被膜の成膜方法 |
| 特開２００２−３７１３５３ | 電子線衝撃型蒸着源 |
| 特開２００２−３７１３５４ | スパッタリングターゲットの製造方法 |
| 特開２００２−３７１３５５ | 透明薄膜の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３５６ | 表面が光輝化処理された金属または樹脂材料の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３５７ | シリコン系薄膜の形成方法、シリコン系薄膜及び半導体素子並びにシリコン系薄膜の形成装置 |
| 特開２００２−３７１３５８ | シリコン系薄膜の形成方法、シリコン系薄膜及び半導体素子 |
| 特開２００２−３７１３５９ | β−ジケトンの配位子を有する有機金属錯体を利用した原子層蒸着方法 |
| 特開２００２−３７１３６０ | 半導体の製造方法 |
| 特開２００２−３７１３６１ | 気相成長装置及び気相成長方法 |
| 特開２００２−３７１３６２ | プラズマＣＶＤ装置および磁気記録媒体の保護膜形成方法 |
| 特開２００２−３７１３６３ | 基材の表面処理装置及び表面処理方法並びに薄膜、薄膜積層体、光学フィルム及び画像表示素子 |
| 特開２００２−３７１３６４ | ３次元中空容器への薄膜成膜装置及びそれを用いた薄膜成膜方法 |
| 特開２００２−３７１３６５ | プラズマＣＶＤ装置 |
| 特開２００２−３７１３６６ | プラズマＣＶＤ装置 |
| 特開２００２−３７１３６７ | プラズマ処理方法及びその装置 |
| 特開２００２−３７１３６８ | 無電解ニッケルめっき老化液の処理方法 |
| 特開２００２−３７１３６９ | 耐食性に優れた亜鉛系メッキ鋼板 |
| 特開２００２−３７１３７０ | 銅または銅合金の表面処理剤、表面処理法およびプリント配線板の製造法 |
| 特開２００２−３７１３７１ | 表裏識別性に優れたリン酸塩処理亜鉛系メッキ鋼板 |
| 特開２００２−３７１３７２ | 亜鉛系めっき鋼材とコンクリートの複合構造体 |
| 特開２００２−３７１３７３ | 耐食性に優れた亜鉛系メッキ鋼板 |
| 特開２００２−３７１３７４ | 銅製部材の表面処理方法 |
| 特開２００２−３７１３７５ | 水素吸蔵合金の表面処理方法及び表面被覆水素吸蔵合金 |