| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２００２−２４９３７５ | 高周波用誘電体磁器組成物および誘電体共振器 |
| 特開２００２−２４９３７６ | 低窒素濃度炭素系材料及びその製造方法 |
| 特開２００２−２４９３７７ | 半導体製造・検査装置用セラミック基板 |
| 特開２００２−２４９３７８ | 高強度ホウ化ジルコニウム−炭化ケイ素複合体の反応合成 |
| 特開２００２−２４９３７９ | 窒化アルミニウム焼結体及び半導体製造装置用部材 |
| 特開２００２−２４９３８０ | 熱電対保護管 |
| 特開２００２−２４９３８１ | 加熱体保護管 |
| 特開２００２−２４９３８２ | ＩＴＯ成形体の製造方法 |
| 特開２００２−２４９３８３ | セラミックス用混合アルミナ |
| 特開２００２−２４９３８４ | 連続焼成炉に用いる焼成用治具 |
| 特開２００２−２４９３８５ | 焼成炉、焼成炉における一酸化珪素の除去方法、及び炭化珪素製フィルタの製造方法 |
| 特開２００２−２４９３８６ | コンクリート製品の高温蒸気養生方法 |
| 特開２００２−２４９３８７ | 炭化珪素質部材の製造方法 |
| 特開２００２−２４９３８８ | 葉菜類用資材 |
| 特開２００２−２４９３８９ | 施肥用材料、施肥用成形体及び施肥方法 |
| 特開２００２−２４９３９０ | 有機態窒素含有組成物及びそれを含む肥料 |
| 特開２００２−２４９３９１ | 残留物排出装置を備えた有機性廃棄物処理装置 |
| 特開２００２−２４９３９２ | 浮上防止処理を施した被覆生物活性粒状物およびその製造方法 |
| 特開２００２−２４９４４８ | 有機ハロゲン化合物からの脱ハロゲン化物の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４４９ | 塩素系溶剤の精製方法 |
| 特開２００２−２４９４５０ | 有機基質の酸化方法 |
| 特開２００２−２４９４５１ | 有機基質の酸化方法 |
| 特開２００２−２４９４５２ | 含酸素化合物の合成装置およびその方法 |
| 特開２００２−２４９４５３ | オレフィンをヒドロホルミル化するための連続的方法および反応器 |
| 特開２００２−２４９４５４ | シクロブタノン類の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４５５ | 高純度ハフニウム錯体Ｈｆ（ＤＰＭ）４の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４５６ | 高純度ジルコニウム錯体Ｚｒ（ＤＰＭ）２（ｉ−Ｃ３Ｈ７Ｏ）２の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４５７ | アルデヒドの製造方法 |
| 特開２００２−２４９４５８ | ビタミンＫ類の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４５９ | Ｄ−アロ−５−イノソースとその製造法およびアロ−イノシトール、Ｄ−アロ−３−イノソースまたはＤ−キロ−イノシトールの製造法 |
| 特開２００２−２４９４６０ | ２−ブチルオクタン二酸の製造法 |
| 特開２００２−２４９４６１ | 高純度な酢酸化合物の製造方法及びそれによって得られた酢酸化合物 |
| 特開２００２−２４９４６２ | ｃｉｓ−ジシクロヘキシル−３，３’，４，４’−テトラカルボン酸ジメチルエステルの分離法 |
| 特開２００２−２４９４６３ | キラル補助基を効率的に除去する光学活性化合物の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４６４ | エステル化合物およびそれを有効成分として含有する有害生物防除剤 |
| 特開２００２−２４９４６５ | ３種の反応性基を有する新規な化合物 |
| 特開２００２−２４９４６６ | アクリレート化合物及びその製造法 |
| 特開２００２−２４９４６７ | ４−アミノジフェニルアミンの製造方法 |
| 特開２００２−２４９４６８ | 新規トリス（４−アミノアリール）芳香族化合物類とその製法 |
| 特開２００２−２４９４６９ | 有機化合物、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、および有機エレクトロルミネッセンス素子。 |
| 特開２００２−２４９４７０ | アルカノールアミンの製造方法及びその製造装置 |
| 特開２００２−２４９４７１ | エステルの製造方法 |
| 特開２００２−２４９４７２ | 芳香族ポリカーボネート樹脂及び電子写真用感光体 |
| 特開２００２−２４９４７３ | アニリン誘導体またはその塩ならびにそれらを含有するサイトカイン産生抑制剤 |
| 特開２００２−２４９４７４ | アミド誘導体 |
| 特開２００２−２４９４７５ | １，４−フェニレンジアミン誘導体の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４７６ | 光学活性３−置換−２−シアノブタンジカルボン酸類の製造方法 |
| 特開２００２−２４９４７７ | β−ケトニトリル類の製法 |
| 特開２００２−２４９４７８ | アミン化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| 特開２００２−２４９４７９ | スルホン酸フルオリドの製造方法 |