| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２００２−６０９２４ | 絶縁層を有するステンレス鋼 |
| 特開２００２−６０９２５ | 磨耗や腐食を受ける機械的部品の表面処理方法 |
| 特開２００２−６０９２６ | 成膜装置およびそのクリーニング方法 |
| 特開２００２−６０９２７ | 薄膜パターン成膜用マスク |
| 特開２００２−６０９２８ | 回転軸への成膜方法 |
| 特開２００２−６０９２９ | ＩＴＯ膜の成膜方法及び成膜装置 |
| 特開２００２−６０９３０ | 蒸着装置及び蒸着方法 |
| 特開２００２−６０９３１ | 巻取真空成膜装置およびこれを用いた成膜フィルムの製造方法 |
| 特開２００２−６０９３２ | Ｓｍ−Ｃｏ系ターゲット材およびＳｍ−Ｃｏ系磁気記録媒体用膜 |
| 特開２００２−６０９３３ | 蒸着用Ｔｉ−Ｖ合金製ターゲット材およびその製法 |
| 特開２００２−６０９３４ | スパッタリングターゲット |
| 特開２００２−６０９３５ | ターゲットエロージョン計測を可能としたスパッタリング装置 |
| 特開２００２−６０９３６ | スパッタ装置 |
| 特開２００２−６０９３７ | スパッタ成膜装置および該スパッタ成膜装置を用いた成膜方法 |
| 特開２００２−６０９３８ | インライン式スパッタ装置 |
| 特開２００２−６０９３９ | マグネトロンスパッタリング装置および薄膜形成方法 |
| 特開２００２−６０９４０ | 窒素注入Ｃ６０フラーレン薄膜およびその作製方法 |
| 特開２００２−６０９４１ | コーティング処理方法および絞りプレート |
| 特開２００２−６０９４２ | 銅薄膜形成方法及び銅薄膜形成装置 |
| 特開２００２−６０９４３ | 高純度シリコンの被覆方法及び装置 |
| 特開２００２−６０９４４ | 前駆原料混合物、膜付着方法、及び構造の形成 |
| 特開２００２−６０９４５ | パルスＲＦプラズマを用いたＴＥＯＳ酸化物の堆積 |
| 特開２００２−６０９４６ | 化学気相蒸着方法および化学気相蒸着装置 |
| 特開２００２−６０９４７ | 原子層のＣＶＤ |
| 特開２００２−６０９４８ | ＣＶＤ装置 |
| 特開２００２−６０９４９ | プラズマ成膜装置及びそのクリーニング方法 |
| 特開２００２−６０９５０ | 化学的気相堆積処理を改善する方法 |
| 特開２００２−６０９５１ | 気体反応によるＣＶＤチャンバ内の異物の除去 |
| 特開２００２−６０９５２ | 堆積膜作成装置および作成方法 |
| 特開２００２−６０９５３ | 表面処理装置及び表面処理方法 |
| 特開２００２−６０９５４ | 成膜装置の評価方法および調整方法ならびにＴｉＮ膜の成膜方法 |
| 特開２００２−６０９５５ | 真空処理装置 |
| 特開２００２−６０９５６ | ウレタンフォーム表面の無電解めっき方法とそれに用いる前処理液 |
| 特開２００２−６０９５７ | ダイレクトイグニッションに適した方向性電磁鋼板 |
| 特開２００２−６０９５８ | 耐酸化性の優れた錫めっき鋼板およびその製造方法 |
| 特開２００２−６０９５９ | 耐食性及び塗装密着性に優れた亜鉛めっき鋼板，化成処理液及び化成処理方法 |
| 特開２００２−６０９６０ | 色調安定性に優れた黒色化亜鉛系めっき鋼板の製造方法 |
| 特開２００２−６０９６１ | 焼結体の化成被膜形成方法及び化成被膜を施した希土類金属磁石 |
| 特開２００２−６０９６２ | 亜鉛系めっき鋼板 |
| 特開２００２−６０９６３ | 防食被覆鋼材の製造方法 |
| 特開２００２−６０９６４ | 表面清浄なステンレス鋼管およびその製造方法 |
| 特開２００２−６０９６５ | 銅酸化物還元用の処理液および処理方法 |
| 特開２００２−６０９６６ | リン酸塩処理性および成形性に優れたＡｌ基材料およびその製造方法 |
| 特開２００２−６０９６７ | 銅または銅合金の表面処理法 |
| 特開２００２−６０９６８ | 金属表面のリン酸塩処理皮膜の後処理剤、後処理剤を用いて得られる被覆鋼鈑及びその製造方法 |
| 特開２００２−６０９６９ | 被覆鋼より線用の珪砂付着装置 |
| 特開２００２−６０９７０ | 金属部材の改質方法 |
| 特開２００２−６０９７１ | 成形性に優れたアルカリ可溶型潤滑表面処理金属製品 |
| 特開２００２−６０９７２ | 自動車燃料タンク用ステンレス鋼板 |
| 特開２００２−６０９７３ | 自動車燃料タンク用ステンレス鋼板 |