| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２００２−３０３７９ | 高歪負荷状態での耐延性破壊特性に優れた鋼材およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８０ | 溶接継手靭性の優れた高張力鋼とその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８１ | 薄鋼板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８２ | 薄鋼板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８３ | 焼付硬化性、耐パウダリング性、プレス成形性に優れた溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８４ | ２次加工性とプレス加工性に優れた燃料タンク用防錆鋼板とその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８５ | 歪時効硬化特性に優れた高張力高加工性熱延鋼板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８６ | スピンドルモータおよびピボットアッシー |
| 特開２００２−３０３８７ | 耐食性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金板およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０３８８ | 高速増殖炉用耐熱鋼 |
| 特開２００２−３０３８９ | エッチング穿孔性に優れたＦｅ−Ｎｉ系合金シャドウマスク用素材 |
| 特開２００２−３０３９０ | ガラス強化用合金 |
| 特開２００２−３０３９１ | ＣＯ２を５０％以上含有するシールドガスを用いるマグ溶接に適した溶接部の靭性及び耐食性に優れた大型構造物用ステンレス鋼 |
| 特開２００２−３０３９２ | 耐食性に優れた高Ｃｒマルテンサイトステンレス鋼及びその製造方法 |
| 特開２００２−３０３９３ | セラミックパッケージ封止用材料とその製造方法 |
| 特開２００２−３０３９４ | 耐スカッフィング性、耐クラッキング性及び耐疲労性に優れたピストンリング及びその製造方法、並びにピストンリングとシリンダーブロックの組合わせ |
| 特開２００２−３０３９５ | Ｃｒ系ステンレス鋼とその製造方法 |
| 特開２００２−３０３９６ | かしめ性に優れた無方向性電磁鋼板 |
| 特開２００２−３０３９７ | 無方向性電磁鋼板とその製造方法 |
| 特開２００２−３０３９８ | 高透磁率と高飽和磁束密度を有する軟磁性合金とその製造方法 |
| 特開２００２−３０３９９ | 内燃機関用バルブシート |
| 特開２００２−３０４００ | 高温強度に優れた金属−セラミックス複合材料及びその製造方法 |
| 特開２００２−３０４０１ | 水素吸蔵金属の表面活性化処理方法 |
| 特開２００２−３０４０２ | 耐黒変性ミニマイズドスパングル溶融亜鉛めっき鋼板並びに処理液およびその使用法 |
| 特開２００２−３０４０３ | 合金化溶融亜鉛めっき鋼板とその製造方法 |
| 特開２００２−３０４０４ | 高耐食性を有し加工性に優れためっき鋼材およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０４０５ | 高耐食性を有し加工性に優れためっき鋼材およびその製造方法 |
| 特開２００２−３０４０６ | プレス成形性及びアルカリ洗浄性に優れた燃料タンク用アルミ系めっき鋼板 |
| 特開２００２−３０４０７ | メッキラインのバッフルプレート装置 |
| 特開２００２−３０４０８ | 溶融めっき鋼帯端部のめっき付着量均一化方法及び溶融めっき装置 |
| 特開２００２−３０４０９ | 自動溶射装置及び複合被膜の形成方法 |
| 特開２００２−３０４１０ | 電気機器用コーティング部材及びその製造方法 |
| 特開２００２−３０４１１ | 溶射皮膜の形成方法および溶射皮膜形成装置 |
| 特開２００２−３０４１２ | 窒化処理に先立つオーステナイト系ステンレス鋼表面の前処理方法および前処理薬剤、並びに、表面処理方法、窒化処理品 |
| 特開２００２−３０４１３ | 薄膜形成装置および薄膜形成方法 |
| 特開２００２−３０４１４ | マスク組立体の組立装置及び組立方法 |
| 特開２００２−３０４１５ | 導電膜パターン化用マスク |
| 特開２００２−３０４１６ | 可視光応答型酸化チタン薄膜の作製方法 |
| 特開２００２−３０４１７ | アナターゼ型結晶構造の酸化チタン単結晶薄膜の作製法 |
| 特開２００２−３０４１８ | 蒸着装置 |
| 特開２００２−３０４１９ | 成膜装置および方法 |
| 特開２００２−３０４２０ | 成膜装置及び成膜方法 |
| 特開２００２−３０４２１ | 超微粒子膜の生成方法および生成装置 |
| 特開２００２−３０４２２ | 成膜装置 |
| 特開２００２−３０４２３ | 成膜装置及び方法 |
| 特開２００２−３０４２４ | 成膜装置及び方法 |
| 特開２００２−３０４２５ | 成膜装置及び方法 |
| 特開２００２−３０４２６ | 成膜方法及び装置 |
| 特開２００２−３０４２７ | 真空成膜装置 |
| 特開２００２−３０４２８ | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びにそれを用いたフォトマスクブランクの製造方法 |