| 【発明の名称】 |
高さ測定装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】青木 雅弘
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| 【要約】 |
【課題】表面を有する被検体に対しても、その面頂に最も近い部分からの高さデータを選択でき、精度の高い高さ測定を実現できる高さ測定装置を提供する。
【解決手段】被検体101の表面に投光絞り112を通して光ビームを投光し、被検体101で反射された全光束の光軸から所定の量だけずれた測定用光軸上の光束の一部を測定光として取り出し、受光絞り114を通し対物レンズ102の瞳位置に配置されたセパレータレンズ115を介して測定光のスポット位置を検出する第1のPSD116に収束させ、また、ハーフミラー113で分割された他方の測定光路の配置され第2のPSD117により被検体101面の傾きを検出し、この第2のPSD117の検出結果に基づいて第1のPSD116により検出されるスポット位置信号より被検体101表面の高さを求める。 |
【特許請求の範囲】
【請求項1】 被検体の表面に照明光を収束させる光源および対物レンズを有する照明光学系と、この照明光学系の光源の前方に配置され、光源からの光をビームにして被検体に投光させる投光絞りと、被検体で反射された全光束の光軸から所定の量だけずれた測定用光軸を有し、前記光束の一部を測定光として取り出し、前記測定用光軸に沿って収束させる前記対物レンズの瞳位置に配置されたセパレータレンズを有する結像光学系と、この結像光学系のセパレータレンズの前方に配置される受光絞りと、前記結像光学系の測定光を2光路に分割する光路分割手段と、この光路分割手段により分割された一方の測定光の収束面に配置され、前記受光絞りを通り前記セパレータレンズにより収束される測定光のスポット位置を検出する第1の位置検出素子と、前記光路分割手段により分割された他方の測定光路上に配置され前記被検体面の傾きを検出する第2の位置検出素子とを具備し、前記第2の位置検出素子の検出結果に基づいて第1の位置検出素子により検出されるスポット位置信号より前記被検体表面の高さを求めることを特徴とする高さ測定装置。 【請求項2】 投光絞りおよび受光絞りは、ほぼ等しい大きさの絞り径に設定されることを特徴とする請求項1記載の高さ測定装置。 【請求項3】 前記第2の位置検出素子により検出される前記被検体面の傾きが一定以上の場合には、第1の位置検出素子により求められる前記被検体の高さ測定データを破棄することを特徴とする請求項1記載の高さ測定装置。
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【発明の詳細な説明】【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレーム、ボールグリッドアレイ(BGA)、さらにはバンプなどの電気部品実装に関わる微小物体の形状検査、なかでも特に高さの検査に用いられる高さ測定装置に関するものである。 【0002】 【従来の技術】たとえば、半導体製造工程には、リードフレームのリードや、ベアチップ実装用のボールグリッドアレイのように微小かつ連続する構造体の高さを測定する工程がある。近年、半導体部品はますます高集積化及び大型化する傾向にあり、これに伴いより多くの測定点を、より高速で測定することの出来る高さ測定装置が求められている。 【0003】従来、半導体製造工程に適用される高さ測定装置として、焦点ずれ信号を利用して測定点の高さを測定する装置がある。この装置は、測定点に対し対物レンズを通して光ビームを照射し、其の反射光をビームスプリッターで分割し、その一方を焦点面より前方に配置された第1の絞りを介して第1の受光素子で検出し、他方を焦点面より後方に配置された第2の絞りを介して第2の受光素子で検出するように構成されている。 【0004】このような構成によれば、第1、第2の受光素子の各出力の差は、合焦点で0となりその近くにおいて焦点ずれに対応した正負符号と焦点ずれの量にしたがった大きさを有する焦点ずれ信号を得ることが出来る。従って、この焦点ずれ信号が0になるように対物レンズを高さ方向に移動させ、この時の対物レンズの高さを測定することで、被検体の高さを求めることが出来る。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】ところが、このような高さ測定装置では、被検体上の1点の高さ測定を行うようになっていて、1点の高さを測定するごとにステージを走査して次の測定点に移動するようになるため、最近の電子部品に見られるように、実装部品の高密度、大型化する傾向の中で多数点の測定を必要とするものでは、必要とする各所の測定を行うのに、膨大な時間がかかってしまい、作業者にも大きな負担を強いることになるばかりか、作業能率も極めて悪くなるという問題があった。 【0006】さらに、近年の実装技術は、よりコンパクトな方式を目指しており、ボールグリッドアレイやバンプアレイなど、球状または曲面状の物体の高さを正確に測定する手段が求められている。 【0007】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、作業者にかかる負担を軽減でき、高い作業性を実現できるとともに、球面を有する被検体に対しても正確な測定が行える高さ測定装置を提供することを目的とする。 【0008】 【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、被検体の表面に照明光を収束させる光源および対物レンズを有する照明光学系と、この照明光学系の光源の前方に配置され、光源からの光をビームにして被検体に投光させる投光絞りと、被検体で反射された全光束の光軸から所定の量だけずれた測定用光軸を有し、前記光束の一部を測定光として取り出し、前記測定用光軸に沿って収束させる前記対物レンズの瞳位置に配置されたセパレータレンズを有する結像光学系と、この結像光学系のセパレータレンズの前方に配置される受光絞りと、前記結像光学系の測定光を2光路に分割する光路分割手段と、この光路分割手段により分割された一方の測定光の収束面に配置され、前記受光絞りを通り前記セパレータレンズにより収束される測定光のスポット位置を検出する第1の位置検出素子と、前記光路分割手段により分割された他方の測定光路上に配置され前記被検体面の傾きを検出する第2の位置検出素子とを具備し、前記第2の位置検出素子の検出結果に基づいて第1の位置検出素子により検出されるスポット位置信号より前記被検体表面の高さを求めることを特徴としている。 【0009】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、投光絞りおよび受光絞りは、ほぼ等しい大きさの絞り径に設定されることを特徴としている。 【0010】請求項3記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記第2の位置検出素子により検出される前記被検体面の傾きが一定以上の場合には、第1の位置検出素子により求められる前記被検体の高さ測定データを破棄することを特徴としている。 【0011】この結果、本発明によれば、投光側および受光側に、それぞれ小さな径の絞りを設けることで、BGA、バンプなどのように曲面を有する被検体に対して、正反射光に近い成分のみを捉えることができ、高さ測定の精度を向上させることができる。 【0012】また、第2の位置検出素子により被検体の反斜面の傾きを検出するようにしたので、測定ビームが有限の径を持っていることによって生じる誤差を含んだデータを取捨することができるようになり、測定精度をさらに向上させることができる。 【0013】 【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態を図面に従い説明する。 【0014】図1は、本発明が適応される高さ測定装置の概略構成を示している。 【0015】図において、101は被検体で、この被検体101は、図示しないステージに搭載されていて少なくとも1方向(測定光の走査方向と被検体面内で直交する方向)に移動可能にしている。 【0016】このような被検体101に対して第1の対物レンズ102を配置している。この対物レンズ102は無限遠設計の物側テレセントリックレンズである。 【0017】対物レンズ102の瞳面103に二次元走査手段としてガルバノミラー104を配置している。このガルバノミラー104は、瞳面103の中心にその回転中心を持っていて、図示しない制御回路によって回転可能とされている。 【0018】対物レンズ102の光軸から一定距離離してレーザダイオード105を配置している。このレーザダイオード105を発した測定光は、コリメータレンズ106で平行光とし、絞り112を通り、偏向ビームスプリッタ107と1/4波長板108を透過されたのち、ガルバノミラー104で反射され、対物レンズ102によって、被検体101の表面の任意の位置に集光される。 【0019】一方、被検体101で反射された測定光は、対物レンズ102を透過し、ガルバノミラー104で反射された後、1/4波長板108を透過し、偏向ビームスプリッタ107で反射されて、第1の結像レンズ109によって一次像面110に集光される。 【0020】一次像面110から発した光束は、やはり無限系に設計された第2の対物レンズである瞳リレーレンズ111を透過し、ハーフミラー113で分割される。そして、ハーフミラー113で分割された一方の光束は、絞り114を通って第2の結像レンズであるセパレータレンズ115により被検体の高さに応じて第1の光位置検出素子(PSD)116上に集光される。 【0021】この場合、投光側の絞り112と受光側の絞り114は、例えば、円板状の回転体の周縁部に沿って径の異なる複数のピンホールを有するものを用い、このような回転体を回転させて所定径のピンホールを光軸上に位置させるようにしている。また、これら絞り112と受光側の絞り114は、無限に細いビームを得られるものが好ましく、さらに、投光側の絞り112によって形成されるビームが丁度よく受光側の絞り114を通過できるように、実質的にほぼ等しい大きさの絞り径に設定される。 【0022】また、ハーフミラー113で分割された他方の光束は、セパレータレンズ115とほぼ共役な位置に置かれた第2の光位置検出素子(PSD)117に入射される。 【0023】このような構成において、第1の結像レンズ109の前側焦点は、第1の対物レンズ102の瞳面103にあり、セパレータレンズ115は、第2の対物レンズである瞳リレーレンズ111の後焦点面に配置されており、これによりセパレータレンズ115は、第1の対物レンズ102の瞳面103と共役の位置にある。 【0024】従って、セパレータレンズ115は、全ての測定点から反射された測定光のうち、瞳面103の同一部分を通過した光束によって、測定スポットを第1のPSD116上に形成することになる。 【0025】また図から明らかなように、ガルバノミラー104の角度の変化によって照射される被検体101の全ての点からの反射光は、再びガルバノミラー104で反射されることによって、軸対称ではあるが、投光光路と同じ道筋を逆進し、常に一次像面110の軸上に結像する。このことから、第1のPSD116上のスポット位置は、ビーム走査によっては変動せず、セパレータレンズ115の光軸と投光側コリメータレンズ106の光軸が対物レンズ102の光軸に対して対称に配置されているので、三角測量の原理に基づいて、被検体101の凹凸によって変動する。 【0026】この結果として、図示しない制御回路により、ガルバノミラーの角度とステージの位置から知られる被検体101の測定位置座標X、Yと、それぞれのディレクタ上でのスポット位置の中心からのずれδから、サンプルの表面形状が測定できることになる。 【0027】次に、その測定のための計算方法について図2に従って詳しく説明する。 【0028】図2は図1の一次像面110から後の部分のみを示したもので、一次像面110の被検体像を新たに被検体面として考えている。 【0029】ここで、システムのパラメータとして、瞳リレーレンズ(第2の対物レンズ)111の焦点距離をfp 、セパレータレンズ115の焦点距離をfs 、一次像101’の結像倍率をM、光軸からセパレータレンズ115の中心までの高さをh、瞳リレーレンズ111とセパレータレンズ115の距離をD、第1の対物レンズ102のNAをNAOBとする。 【0030】一次像101’のデフォーカス量(高さ)がZ’の時、PSD116には中心からδの位置に光スポットが形成される。この時δは、図2からδ=fs・tanα …(1) tanα=h/(b−D) …(2) となる。 【0031】したがって、次式が導かれる。 【0032】 δ=fs・h/(b−D) …(3) h=fp・NAOB/MP …(4) ここで、Pは、対物レンズ102の瞳上で換算した絞径と瞳の中心からセパレータレンズ115の光軸までの距離の比である。 【0033】次に、bを計算すると、 1/b=(1/fp)−(1/(fp+M2Z)) …(5) であるから、b=fp(fp+M2Z)/M2Z …(6) となる。これらの式をまとめると、【0034】 【数1】
【0035】となる。さらに、前述したように、セパレータレンズ115と瞳リレーレンズ112の距離Dはfpなので、【0036】 【数2】
【0037】となり、δとZは完全に線形の関係となる。 【0038】実際の測定量はδである。したがって、測定値δから被検体の高さZを算出する式は、【0039】 【数3】
【0040】となり、δとZは完全に線形でアブソリュートな測長機が実現される。 【0041】次に、このような原理に基づいてBGA、あるいはバンプなど曲面を持った被検体の高さを測定する場合を考える。 【0042】図3(a)(b)は、測定光が第1の対物レンズ102のNAをほぼ満たしている場合の平面からの反射光と曲面からの反射光の違いを説明するものである。 【0043】この場合、図3(a)に示すように入射光201による合焦点202が被検体101の下方に位置する場合、被検体101を、仮に平面鏡101’とみなすと、入射光201の位置と角度がA点からB点の範囲で移動したとしても、平面鏡101’からの反射光204の反射点205は、いずれも合焦点202と平面鏡101’との間の距離の2倍の位置になるが、被検体101が、図示のように曲面を有すると、この曲面からの反射光206の反射点207は、反射点205より上方で、しかも入射光201の位置と角度がA方向からB方向の範囲で移動することで、反射点205と207の範囲で変化する。 【0044】また、図3(b)に示すように入射光201による合焦点202が被検体101の上方に位置する場合も同様で、被検体101を、平面鏡101’とみなすと、入射光201の位置と角度がA点からB点の範囲で移動したとしても、平面鏡101’からの反射光204の反射点205は、いずれも合焦点202と平面鏡101’との間の距離の2倍の位置になるが、被検体101が曲面を有すると、曲面からの反射光206の反射点207は、反射点205より上方で、しかも入射光201の位置と角度がA方向からB方向の範囲で移動することで、反射点205と207の範囲で変化する。 【0045】つまり、平面からの反射光は、いずれも合焦点からの高さの2倍の位置にある点からの反射光が帰ってきているのに対して、曲面の場合は、より高い点からの反射光が帰ってきているように見える。しかもその高さは入射光の位置と角度によって様々に変化する。従って、測定光のNAが大きい場合には曲面の高さを正確に測ることは出来ないということになる。 【0046】これに対して本発明による高さ測定装置では、図4の本装置を簡略化した概念図に示すように、交換可能な投光側の絞り112と受光側の絞り114を出来るだけ小さくすることで、ガルバノミラー104により被検体101上で揺動される光のうち、被検体101の曲面の面頂で正反射される光のみを、被検体101の位置が合焦点F1に対して前後のF2点、F3点にあっても、全て受光絞り114を通過させるようにして、つまり、曲面の面頂からの正反射に近い光束のみを捉えられるようにすることにより、球面が合焦点をも含んでいかなる高さにある場合でもその面頂にある平面と同じ高さとして測定できるようにしている。 【0047】しかし、現実には投光側の絞り112と受光側の絞り114により無限に細いビームを形成することは不可能で、回折の影響、集光特性の状態、光量の関係等を考慮すると1〜2mmが限界であり、これだけでは、とうしても測定誤差が残ってしまう。 【0048】そこで、本発明では、ハーフミラー113で分割された他方の光束を、セパレータレンズ115とほぼ共役な位置に第2のPSD117を設けている。 【0049】この場合、図5に示すように第2のPSD117に入射する光束の位置σは、被検体101の合焦点FAまたは非合焦点FBの関係、つまり、被検体101のデフォーカス量に依ることなく、被検体101面の傾きによって上下に移動する。また、被検体101が合焦点FA位置にある場合は、対物レンズ102から出てくる光線a、bは被検体101面の傾きによらず光軸に平行になるため、第1のPSD116に対する高さ信号は変わらないが、被検体101面が非合焦点FB位置にある場合は、その傾きによって対物レンズ102から出てくる光線c、dは互いに平行にはならず、第1のPSD116に対する高さ信号が異なることがわかる。 【0050】そこで、第1のPSD116から得られる高さ信号のうち、第2のPSD117での信号がゼロ(傾きが無い場合は第2のPSD117の中心位置に入射する)近辺のものだけを採用するようにすれば、球面又は曲面の頂点に近い位置からの反射光による高さ測定値のみを更に厳密に選択できる。つまり、投光側の絞り112と受光側の絞り114により無限に細いビームが得られず、ある程度の太さを持っていても、より理想に近い高さ測定ができることになる。 【0051】この場合、データ処理としては、言うまでもないことであるが、第1のPSD116からの高さ信号のうち、第1のPSD116の明るさ信号が一定以上であり、かつ第2のPSD117の傾き信号が一定以下のデータのみを採用し、それ以外の測定データは、破棄することになる。 【0052】従って、このような構成とすれば、多数点の測定を必要とする高密度、大型電子部品のような被測定物の高さ測定が、従来、1点ごとにステージ走査を行って、測定していたのに対して、格段の速さでの測定が可能となり、スループットの向上と測定作業者にかかる負担の軽減が実現できる。 【0053】また、投光側および受光側に、それぞれ小さな径の絞り112、114を設けることで、BGA、バンプなどのように曲面を有する被検体の高さに関してもその面頂に最も近い部分から正反射光に近い成分のみを捉えることができるようになり、高さ測定の精度を向上させることができる。 【0054】さらに、第2のPSD117により被検体101の反斜面の傾きを検出するようにしたので、測定ビームが有限の径を持っていることによって生じる誤差を含んだデータを取捨することができるようになり、測定精度をさらに向上させることができる。 【0055】 【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、表面を有する被検体に対しても、その面頂に最も近い部分からの高さデータを選択でき、精度の高い高さ測定を実現できる高さ測定装置を提供できる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】000000376 【氏名又は名称】オリンパス光学工業株式会社
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| 【出願日】 |
平成11年9月20日(1999.9.20) |
| 【代理人】 |
【識別番号】100058479 【弁理士】 【氏名又は名称】鈴江 武彦 (外4名)
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| 【公開番号】 |
特開2001−91211(P2001−91211A) |
| 【公開日】 |
平成13年4月6日(2001.4.6) |
| 【出願番号】 |
特願平11−265331 |
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