| 【発明の名称】 |
熱処理方法及びそれに用いる熱処理装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】岡本 朗
【氏名】河原 隆彦
|
| 【要約】 |
【課題】所望のタイミングで、さや蓋の開閉を行うことが可能で、封止状態で、あるいは封止解除状態で熱処理や冷却を行うことが可能で、被熱処理物を効率よく熱処理することが可能な熱処理装置及び熱処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】熱処理さや１が所定の経路で焼成炉６内を移動する際の所定の区間Ｂ，Ｄにおいては、さや蓋３を支持してさや本体２から浮き上がらせることができるように、さや本体２との位置関係において高さが高くなり、他の区間Ａ，Ｃにおいては、さや蓋３を支持せず、さや本体２がさや蓋３により封止された状態となるようにさや本体２との位置関係において高さが低くなるように構成されたさや蓋支持レール８を備えた構成とし、任意の区間では熱処理さや１を非封止状態とし、前記所定の区間以外の他の区間では熱処理さや１を封止状態として熱処理を行えるようにする。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】被熱処理物を熱処理さやに収容し、熱処理炉を通過させることにより、被熱処理物の熱処理を行うための熱処理装置であって、熱処理炉と、上部が開口したさや本体と、さや本体の開口部を覆うさや蓋とを備えてなり、かつ、さや本体及びさや蓋の一方には少なくとも他方と係合する凹部又は凸部からなる係合部（一方側係合部）が形成され、かつ、さや本体及びさや蓋の他方には、少なくとも前記一方側係合部と係合する凹部又は凸部からなる係合部（他方側係合部）が形成された熱処理さやと、前記熱処理さやを所定の経路で移動させて前記熱処理炉を通過させるための搬送手段と、少なくとも一部が前記熱処理炉内に位置するように設けられ、前記熱処理さやが所定の経路で移動する際の所定の区間では、さや蓋を支持してさや本体から浮き上がらせ、前記所定の区間以外の他の区間では、さや蓋を支持せず、さや本体がさや蓋により封止された状態となるように、前記所定の区間では、さや本体との位置関係において高さが高くなり、前記所定の区間以外の他の区間では、さや本体との位置関係において高さが低くなるように配設されたさや蓋支持レールとを具備することを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】前記所定の区間が複数あることを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項３】前記所定の区間の前後の少なくとも一方において、さや蓋支持レールに所定の傾斜を設けることにより、さや本体との位置関係において高さが徐々に変化するようにしたことを特徴とする請求項１又は２記載の熱処理装置。
【請求項４】前記さや蓋の、前記さや蓋支持レールの上り傾斜部又は下り傾斜部に当接することになる、移動方向の先端側及び後端側の下端部に丸みを持たせたことを特徴とする請求項３記載の熱処理装置。
【請求項５】前記さや蓋に一方側係合部として貫通穴を形成し、前記さや本体に他方側係合部として、前記さや蓋の貫通穴に嵌入し、前記所定の区間において、さや蓋がさや本体から浮き上がった状態になったときにも前記貫通穴にその一部が嵌入した状態が維持されるような高さの突起を形成したことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の熱処理装置。
【請求項６】請求項１〜５記載の熱処理装置を用いて、被熱処理物を熱処理する方法であって、前記熱処理さやに被熱処理物を収容し、前記搬送手段により、前記熱処理さやを、所定の経路で移動させて熱処理炉を通過させ、前記所定の区間においては、さや蓋がさや蓋支持レールにより支持されてさや蓋がさや本体から浮き上がり、熱処理さやが非封止状態となり、前記所定の区間以外の他の区間においては、さや蓋支持レールによりさや蓋が支持されず、さや本体にさや蓋が施されて、熱処理さやが封止状態となるようにして被熱処理物の熱処理を行うことを特徴とする熱処理方法。
|
【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本願発明は、熱処理装置及び熱処理方法に関し、詳しくは、被熱処理物を蓋付きの熱処理さやに収容して熱処理する場合に用いられる熱処理装置及び熱処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】正特性サーミスタ（ＰＴＣ）素子などのセラミック電子部品は、通常、セラミック成形体（ＰＴＣ素体）を所定の条件で熱処理する工程を経て製造されている。
【０００３】そして、従来の熱処理（焼成）工程では、通常、成形助剤として添加されている有機系のバインダーを所定の温度に加熱して燃焼、分解させて脱バインダーを行った後、さらに加熱、昇温してセラミックを焼結させるようにしている。なお、セラミックを焼結させる前に脱バインダーを行うようにしているのは、セラミックの焼結温度にまでただちに加熱、昇温すると、急激な分解ガスの発生により被熱処理物（セラミック成形体）に損傷や変形が生じる場合があり、また、バインダーの分解ガスや燃焼ガスが多量に存在する雰囲気で熱処理を行うと、製品の特性に悪影響を与えたりする場合があることによる。
【０００４】ところで、複数個の被熱処理物を同時に焼成する場合、例えば図６に示すように、上面が開口した浅い箱形のさや本体５２と、平板状のさや蓋５３からなる熱処理さや５１を用い、複数の被熱処理物５４を、さや本体５２に収納して熱処理する方法がある。そして、この方法で被熱処理物の熱処理（焼成）を行う場合、通常は、まず、脱バインダーを行った後、さらに温度を上げて本焼成を行っている。
【０００５】ところで、脱バインダーは、通常、熱処理さやが封止されていない状態で行うほうが、分解ガスや燃焼ガスを速やかに排出させることができて望ましい。そこで、従来は、バインダーの分解ガスや燃焼ガスが除去されやすいように、まず、さや本体５２がさや蓋５３により封止されていない状態で脱バインダーを行い、その後、さや本体５２の開口部がさや蓋５３により封止された状態で安定した熱処理を行うことができるように、例えば、図７に示すように、さや本体５２とさや蓋５３との間に、スペーサとしてカーボン片５５を挟み込んで熱処理を行っている。
【０００６】この方法によれば、脱バインダーが行われる温度（例えば５００℃程度）では、カーボン片５５によりさや本体５２とさや蓋５３との間に形成された隙間からバインダーの分解ガスや燃焼ガスが効率よく排出され、その後熱処理温度を、例えば１０００℃程度にまで上昇させると、カーボン片５５が燃焼して消失し、さや本体５２の開口部がさや蓋５３により封止され、その状態で熱処理が行われることになる。その結果、上方からの異物の落下や組成成分の揮散などを抑制しつつ熱処理を行うことが可能になる。
【０００７】しかし、上述の方法では、例えば、セラミック成形体中のバインダーが抜けにくいような場合に、厚みの大きいカーボン片（スペーサ）５５を用いて、さや本体５２とさや蓋５３の間隔を大きくとることが必要となることがあり、そのような場合、カーボン片（スペーサ）５５の厚みが大きくなると焼成中に、積み崩れが生じ、さや蓋５３の一部がさや本体５２内に落下してしまうおそれがあり、信頼性が低いという問題点がある。
【０００８】また、さや蓋５３でさや本体５２を封止した状態で焼成した場合、冷却に要する時間が長くなり、それが被熱処理物の特性に悪影響を与えて、目的とする特性が得られなくなったり、生産効率が低下したりするという問題点がある。
【０００９】本願発明は、このような背景に鑑みてなされたものであり、所望のタイミングで、さや蓋の開閉を行うことが可能で、封止状態で、あるいは封止解除状態で熱処理や冷却を行うことが可能で、被熱処理物を効率よく熱処理することが可能な熱処理装置及び熱処理方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するために、本願発明の熱処理装置は、被熱処理物を熱処理さやに収容し、熱処理炉を通過させることにより、被熱処理物の熱処理を行うための熱処理装置であって、熱処理炉と、上部が開口したさや本体と、さや本体の開口部を覆うさや蓋とを備えてなり、かつ、さや本体及びさや蓋の一方には少なくとも他方と係合する凹部又は凸部からなる係合部（一方側係合部）が形成され、かつ、さや本体及びさや蓋の他方には、少なくとも前記一方側係合部と係合する凹部又は凸部からなる係合部（他方側係合部）が形成された熱処理さやと、前記熱処理さやを所定の経路で移動させて前記熱処理炉を通過させるための搬送手段と、少なくとも一部が前記熱処理炉内に位置するように設けられ、前記熱処理さやが所定の経路で移動する際の所定の区間では、さや蓋を支持してさや本体から浮き上がらせ、前記所定の区間以外の他の区間では、さや蓋を支持せず、さや本体がさや蓋により封止された状態となるように、前記所定の区間では、さや本体との位置関係において高さが高くなり、前記所定の区間以外の他の区間では、さや本体との位置関係において高さが低くなるように配設されたさや蓋支持レールとを具備することを特徴としている。
【００１１】少なくとも一部が前記熱処理炉内に位置するように設けられ、熱処理さやが所定の経路で移動する際の所定の区間では、さや蓋を支持してさや本体から浮き上がらせ、前記所定の区間以外の他の区間では、さや蓋を支持せず、さや本体がさや蓋により封止された状態となるように、前記所定の区間では、さや本体との位置関係において高さが高くなり、前記所定の区間以外の他の区間では、さや本体との位置関係において高さが低くなるように配設されたさや蓋支持レールを備えた構成とすることにより、所定の区間ではさや蓋をさや蓋支持レールにより支持して熱処理さやを非封止状態とし、所定の区間以外の他の区間においては、さや蓋をさや蓋支持レールにより支持せず、熱処理さやを封止状態として、所望の条件で被熱処理物の熱処理することが可能になる。すなわち、本願発明によれば任意の区間では熱処理さやを非封止状態とし、他の区間では熱処理さやを封止状態として、焼成条件を制御することが可能になり、所望の特性を備えた焼成体を得ることができるようになる。
【００１２】また、請求項２の熱処理装置は、前記所定の区間が複数あることを特徴としている。
【００１３】本願発明においては、さや蓋がさや本体から浮き上がって熱処理さやが非封止状態となる区間を複数設けることも可能である。このように、被熱処理物を熱処理する場合に熱処理条件（温度プロファイルや熱処理雰囲気条件など）に応じて、複数の区間で熱処理さやが非封止状態となるようにすることにより、焼成条件をさらに細かく制御することが可能になり、所望の特性を備えた焼成体を得ることができるようになる。なお、上記の所定の区間は、熱処理炉内に限らず、熱処理炉の入口側及び出口側にも設けることも可能である。
【００１４】また、請求項３の熱処理装置は、前記所定の区間の前後の少なくとも一方において、さや蓋支持レールに所定の傾斜を設けることにより、さや本体との位置関係において高さが徐々に変化するようにしたことを特徴としている。
【００１５】所定の区間の前後の少なくとも一方の区間で、さや蓋支持レールに所定の傾斜をつけることにより、さや本体との位置関係において高さが徐々に変化するようにした場合、熱処理さや及び熱処理さや内に収容された被熱処理物に加わる衝撃を抑制して、熱処理さや内の被処理物の積み崩れを抑制、防止し、信頼性を向上させることが可能になる。
【００１６】また、請求項４の熱処理装置は、前記さや蓋の、前記さや蓋支持レールの上り傾斜部又は下り傾斜部に当接することになる、移動方向の先端側及び後端側の下端部に丸みを持たせたことを特徴としている。
【００１７】さや蓋の移動方向の先端側及び後端側の下端部に丸みを持たせることにより、さや蓋が、さや蓋支持レールの上りの傾斜部に当接して上方に押し上げられ、あるいは下りの傾斜に沿って下降する際の動作を円滑にするとともに、衝撃を抑制することが可能になり、熱処理さや内の被処理物の積み崩れを抑制、防止し、信頼性を向上させることが可能になる。
【００１８】また、請求項５の熱処理装置は、前記さや蓋に一方側係合部として貫通穴を形成し、前記さや本体に他方側係合部として、前記さや蓋の貫通穴に嵌入し、前記所定の区間において、さや蓋がさや本体から浮き上がった状態になったときにも前記貫通穴にその一部が嵌入した状態が維持されるような高さの突起を形成したことを特徴としている。
【００１９】さや蓋に一方側係合部として貫通穴を形成し、さや本体に他方側係合部として、さや蓋の貫通穴に嵌入し、所定の区間において、さや蓋がさや本体から浮き上がった状態になったときにも貫通穴にその一部が嵌入した状態が維持されるような高さの突起を形成した構成とすることにより、さや蓋の昇降（開閉）を確実に行わせることが可能で、かつ、さや蓋がさや本体から浮き上がった状態になった場合にも、両者が確実に係合した状態を維持することが可能になり、本願発明をより実効あらしめることが可能になる。
【００２０】また、本願発明（請求項６）の熱処理方法は、請求項１〜５記載の熱処理装置を用いて、被熱処理物を熱処理する方法であって、前記熱処理さやに被熱処理物を収容し、前記搬送手段により、前記熱処理さやを、所定の経路で移動させて熱処理炉を通過させ、前記所定の区間においては、さや蓋がさや蓋支持レールにより支持されてさや蓋がさや本体から浮き上がり、熱処理さやが非封止状態となり、前記所定の区間以外の他の区間においては、さや蓋支持レールによりさや蓋が支持されず、さや本体にさや蓋が施されて、熱処理さやが封止状態となるようにして被熱処理物の熱処理を行うことを特徴としている。
【００２１】上述の本願発明の熱処理装置を用いることにより、任意の区間では熱処理さやを非封止状態とし、前記所定の区間以外の他の区間では熱処理さやを封止状態として熱処理を行うことが可能になり、焼成条件を任意に制御して、所望の特性を有する焼成体を得ることが可能になる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本願発明の実施の形態を示してその特徴とするところをさらに詳しく説明する。
【００２３】図１は、本願発明の一実施形態にかかる熱処理装置の概略構成を示す図、図２はその要部構成を示す図、図３は本願発明の一実施形態にかかる熱処理装置を構成する熱処理さやを示す図であり、(ａ)はさや蓋を施す前の状態、(ｂ)はさや蓋を施した後の状態を示す斜視図である。この実施形態の熱処理装置は、図３(ａ)，(ｂ)に示すように、被熱処理物（この実施形態ではＰＴＣ素体となるセラミック成形体）４を熱処理さや１に収容し、熱処理炉６を通過させることにより、被熱処理物４の熱処理を行うための熱処理装置であって、図１及び図２に示すように、熱処理炉６と、上部が開口したさや本体２と、さや本体２の開口部を覆うさや蓋３からなる熱処理さや１と、熱処理さや１を支持するとともに、所定の経路で移動させて熱処理炉６を通過させるための搬送手段（ここでは、多数の回転ローラを並べて配設してなる回転ローラ式の搬送手段）７と、少なくとも一部が熱処理炉６内に位置するように、搬送手段７の上方に搬送手段７と略平行に配設されたさや蓋支持レール８とを備えている。
【００２４】さや蓋支持レール８は、熱処理さや１が所定の経路で移動する際の所定の区間（この実施形態では、区間Ｂ及びＤ）においては、さや蓋３を押し上げて、さや本体２から浮き上がらせることができるように、搬送手段７との高さ方向の距離が大きくなり（すなわち、さや本体２との位置関係において高さが高くなり）、また、上記の区間Ｂ及びＤ以外の他の区間（すなわち、上記区間Ｂの上流側の区間Ａと、上記の区間Ｂの下流側の区間Ｃ）においては、さや蓋３を押し上げることがなく、さや蓋３がさや本体２上に載り、さや本体２がさや蓋３により封止された状態となるように、搬送手段７との高さ方向の距離が小さくなるように（すなわち、さや本体２との位置関係において高さが低くなるように）構成されている。
【００２５】また、さや蓋支持レール８には、搬送手段７との高さ方向の距離が変化する領域（各区間Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界部）に、上りまたは下りの傾斜（部）１０が設けられており、これによって、搬送手段７との高さ方向の距離が徐々に変化するように構成されている。
【００２６】また、上記の熱処理さや１を構成するさや本体２は、ムライトやアルミナなどの耐熱性材料で構成されており、対向する一対の側壁上端部には、さや蓋３との係合用の凸部（一方側係合部である突起）２ａ，２ｂが形成されている。また、さや蓋３も、ムライトやアルミナなどの耐熱性材料で構成されており、その両端側には、さや本体２の凸部２ａ，２ｂが嵌入する係合用の凹部（他方側係合部である貫通穴）３ａ，３ｂが形成されている。なお、突起２ａ，２ｂは、上記の所定の区間Ｂ，Ｄにおいて、さや蓋３がさや本体２から浮き上がった状態になったときにも貫通穴３ａ，３ｂに、さや本体２の突起２ａ，２ｂの一部が嵌入して、さや本体２とさや蓋３とが係合した状態が維持されるような高さを有している。
【００２７】さらに、さや蓋３の移動方向の先端側及び後端側の下端部１１には所定の丸み（Ｒ）が付与されており、さや蓋３が、さや蓋支持レール８の上りの傾斜（部）１０に当接して上方に押し上げられ、あるいは下りの傾斜（部）１０に沿って下降する際の動作が円滑になるとともに、その際の衝撃を抑制することができるように構成されている。なお、この実施形態の熱処理装置においては、熱処理さや１は、炭化ケイ素からなる台板９に載置された状態で搬送手段７により熱処理炉を移動するように構成されている。
【００２８】次に、上記のように構成された熱処理装置を用いて被熱処理物を熱処理する際の動作について説明する。
■まず、図３(ａ)に示すように、さや本体２の内部に被熱処理物４を収容し、図３(ｂ)に示すようにさや蓋３を施す。
【００２９】■それから、図１に示すように、被熱処理物４が内部に収容された熱処理さや１を搬送手段７上に載置し、矢印Ｙ方向に搬送して、所定の経路で熱処理炉６を通過させる。このとき、熱処理さや１が区間Ａを通過する際においては、さや蓋支持レール８がさや本体２の高さより低い位置にあることから、さや蓋３はさや本体２上に載った状態、すなわち、さや本体２がさや蓋３により封止された状態で矢印Ｙの方向に搬送される。
【００３０】■そして、熱処理さや１が区間Ｂ（この実施形態では脱バインダー領域）に搬送されてくると、その途中でさや蓋３がさや蓋支持レール８の上りの傾斜に沿って上方に押し上げられ、さや本体２から浮き上がって熱処理さや１（さや本体２）の封止状態が解除される。すなわち、区間（脱バインダー領域）Ｂでは、図２に示すように、さや蓋支持レール８がさや本体２の高さより高い位置にあるため、さや蓋３がさや蓋支持レール８によって上方に押し上げられ、さや本体２から浮き上がった状態となり、さや本体２とさや蓋３の間に隙間Ｇ（図１及び図２）が形成され、熱処理さや１が非封止状態となり、バインダーの分解ガスや燃焼ガスが速やかに外部に排出される。なお、さや蓋３がさや本体２から浮き上がった状態でも、さや蓋３の貫通穴３ａ，３ｂに、さや本体２の突起２ａ，２ｂの一部が嵌入し、さや本体２とさや蓋３とが係合した状態が維持されるため、さや本体２とさや蓋３はともに、矢印Ｙの方向に搬送される。
【００３１】■このようにして、区間Ｂにおいて脱バインダーが行われた後、熱処理さや１が区間Ｃ（この実施形態では本焼成領域）に搬送されると、その過程で、さや蓋３が、さや蓋支持レール８の下りの傾斜（部）１０に沿って下降し、さや本体３がさや本体２上に載った状態（熱処理さや１（さや本体２）が封止された状態）となる。すなわち、区間（本焼成領域）Ｃでは、さや蓋支持レール８がさや本体２の高さより低い位置にあるため、さや蓋３がさや本体２に載った状態となり、熱処理さや１が封止状態となって、上方からの異物の落下や組成成分の揮散などを抑制、防止しつつ熱処理（本焼成）が行われる。
【００３２】■上述のようにして本焼成が行われた後、熱処理さや１が区間Ｄ（この実施形態では冷却領域）に搬送されると、その過程でさや蓋３がさや蓋支持レール８の上りの傾斜に沿って上方に押し上げられ、さや本体２から浮き上がって、さや本体２とさや蓋３の間に隙間Ｇ（図１及び図２）が形成され、熱処理さや１（さや本体２）の封止状態が解除される。すなわち、区間（冷却領域）Ｄでは、さや蓋支持レール８がさや本体２の高さより高い位置にあるため、さや蓋３がさや蓋支持レール８によって押し上げられてさや本体２から浮き上がった状態となり、熱処理さや１が非封止状態となって、速やかに冷却が行われる。その結果、冷却工程に要する時間を短くすることが可能になり、生産効率の向上を図ることが可能になる。
【００３３】なお、この冷却工程において、熱処理さや１を非封止状態としたり、封止状態にしたり、あるいは、非封止状態と封止状態を所定の時間割合で組み合わせたりすることにより、目的の特性（例えば抵抗など）をコントロールすることが可能になる。例えば、熱処理さや１を非封止状態として冷却工程を行えば、被熱処理物（ＰＴＣ素体）４の酸化が進行して低抵抗品を得ることが可能になり、また、熱処理さや１を封止状態として冷却工程を行えば、被熱処理物（ＰＴＣ素体）４の酸化を抑制して、高抵抗品を得ることが可能になる。
【００３４】なお、本願発明においては、冷却工程に限らず、熱処理工程の全体において、さや蓋支持レールの高さを調整することにより、熱処理さやの開閉状態を任意に制御して、所望の条件及び雰囲気で熱処理を行うことが可能である。
【００３５】なお、上記実施形態では、被熱処理物がＰＴＣ素体となるセラミック成形体である場合を例にとって説明したが、本願発明は、誘電体セラミック、圧電体セラミック、磁性体セラミック、その他種々の被熱処理物を熱処理する場合に広く適用することが可能である。
【００３６】また、上記実施形態では、搬送手段として、回転ローラ式の搬送手段を用いた場合について説明したが、搬送手段はこれに限られるものではなく、ベルトコンベア式のものなど、他の構成のものを用いることも可能である。
【００３７】また、図４は、本願発明の熱処理装置の変形例を示す図である。この熱処理装置においては、さや蓋３を支えるさや蓋支持レールとして、間隔Ｇ１の大きい一対のさや蓋支持レール（幅広支持レール）８ａと、間隔Ｇ２の小さい一対のさや蓋支持レール（幅狭支持レール）８ｂの２つのさや蓋支持レールが設けられており、かつ、各さや蓋支持レール８ａ，８ｂごとに、任意にその高さが設定されている。
【００３８】このように間隔の異なる複数のさや蓋支持レール８ａ，８ｂを備えた構成とした場合、図５に模式的に示すように、幅広支持レール８ａの間隔Ｇ１より幅の広いさや蓋１３ａと、幅狭支持レール８ｂの間隔Ｇ２より幅が広くかつ、幅広支持レール８ａの間隔Ｇ１より幅の狭いさや蓋１３ｂの２種類のさや蓋を用いることにより、熱処理さやの開閉条件（焼成条件）を容易に変更することが可能になる。すなわち、幅の広いさや蓋１３ａを用いた場合には、幅広支持レール８ａによりさや蓋１３ａの開閉が行われ、幅の狭いさや蓋１３ｂを用いた場合には、幅狭支持レール８ｂによりさや蓋１３ｂの開閉が行われることになり、幅の異なるさや蓋を用意するだけで、焼成条件を容易に変更することが可能になる。なお、図４及び図５において、図２と同一符号を付した部分は、同一又は相当部分を示している。
【００３９】なお、この変形例の場合においても、さや蓋１３ａ、１３ｂの開閉条件は、脱バインダー領域、本焼成領域、冷却領域の各領域において、任意に設定することが可能であり、さや蓋１３ａ、１３ｂの開閉間隔や、開閉回数を任意に設定することにより、熱処理工程の全体において、熱処理さやの開閉状態を任意に制御して、所望の条件及び雰囲気で熱処理を行うことが可能になる。
【００４０】本願発明はさらにその他の点においても上記実施形態に限定されるものではなく、熱処理さやを構成するさや本体及びさや蓋の具体的な形状、構成材料、被熱処理物の熱処理さやへの収容態様などに関して、発明の要旨の範囲内において種々の応用、変形を加えることが可能である。
【００４１】
【発明の効果】上述のように、本願発明の熱処理装置は、熱処理さやが所定の経路で移動する際の所定の区間では、さや蓋を支持してさや本体から浮き上がらせ、所定の区間以外の他の区間では、さや蓋を支持せず、さや本体がさや蓋により封止された状態となるように、所定の区間では、さや本体との位置関係において高さが高くなり、所定の区間以外の他の区間では、さや本体との位置関係において高さが低くなるように配設されたさや蓋支持レールを備えた構成としているので、所定の区間ではさや蓋をさや蓋支持レールにより支持して熱処理さやを非封止状態とし、所定の区間以外の他の区間においては、さや蓋をさや蓋支持レールにより支持せず、熱処理さやを封止状態として、所望の条件で被熱処理物の熱処理することが可能になる。すなわち、本願発明によれば任意の区間では熱処理さやを非封止状態とし、他の区間では熱処理さやを封止状態として、焼成条件を制御することが可能になり、所望の特性を備えた焼成体を得ることができるようになる。
【００４２】また、請求項２の熱処理装置のように、さや蓋がさや本体から浮き上がって熱処理さやが非封止状態となる区間を複数設けることにより、焼成条件をさらに細かく制御することが可能になり、所望の特性を備えた焼成体を得ることができるようになる。
【００４３】また、請求項３の熱処理装置のように、所定の区間の前後の少なくとも一方の区間で、さや蓋支持レールに所定の傾斜をつけることにより、さや本体との位置関係において高さが徐々に変化するようにした場合、熱処理さや及び熱処理さや内に収容された被熱処理物に加わる衝撃を抑制して、熱処理さや内の被処理物の積み崩れを抑制、防止し、信頼性を向上させることができるようになる。
【００４４】また、請求項４の熱処理装置のように、さや蓋の移動方向の先端側及び後端側の下端部に丸みを持たせることにより、さや蓋が、さや蓋支持レールの上りの傾斜部に当接して上方に押し上げられ、あるいは下りの傾斜に沿って下降する際の動作を円滑にするとともに、衝撃を抑制することが可能になり、熱処理さや内の被処理物の積み崩れを抑制、防止し、信頼性を向上させることが可能になる。
【００４５】また、請求項５の熱処理装置のように、さや蓋に一方側係合部として貫通穴を形成し、さや本体に他方側係合部として、さや蓋の貫通穴に嵌入し、所定の区間において、さや蓋がさや本体から浮き上がった状態になったときにも貫通穴にその一部が嵌入した状態が維持されるような高さの突起を形成した構成とすることにより、さや蓋の昇降（開閉）を確実に行わせることが可能で、かつ、さや蓋がさや本体から浮き上がった状態になった場合にも、両者が確実に係合した状態を維持することが可能になり、本願発明をより実効あらしめることができる。
【００４６】また、本願発明（請求項６）の熱処理方法のように、上述の本願発明の熱処理装置を用いることにより、任意の区間では熱処理さやを非封止状態とし、前記所定の区間以外の他の区間では熱処理さやを封止状態として熱処理を行うことが可能になり、焼成条件を任意に制御して、所望の特性を焼成体を得ることが可能になる。
|
| 【出願人】 |
【識別番号】０００００６２３１
【氏名又は名称】株式会社村田製作所
|
| 【出願日】 |
平成１１年９月１６日（１９９９．９．１６） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００９２０７１
【弁理士】
【氏名又は名称】西澤 均
|
| 【公開番号】 |
特開２００１−８２８８１（Ｐ２００１−８２８８１Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１３年３月３０日（２００１．３．３０） |
| 【出願番号】 |
特願平１１−２６１４７１ |
|