| 【発明の名称】 |
プロセスガス供給ユニット |
| 【発明者】 |
【氏名】吉田 一裕
【氏名】小林 英雄
【氏名】小池 和彦
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| 【要約】 |
【課題】マニホールドブロックを小スペース化し、ユニット全体を小型化したプロセス供給ユニットを提供すること。
【解決手段】パージガス入力ポート４とチェック弁５０の入力ポート５１とを連通させるパージガス入力流路１０をＶ字形に形成することにより、マニホールドブロック２の下面に形成されたプロセスガス入力ポート３、パージガス入力ポート４及びプロセスガス出力ポート５を同一直線上に形成して、マニホールドブロック２を直方体に成形する。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 流路が形成されたマニホールドブロックと、その上面に取り付けられた供給弁、パージ弁、及びチェック弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおいて、前記供給弁へのプロセスガス入力ポートと、前記供給弁からのプロセスガス出力ポートと、前記チェック弁へのパージガス入力ポートとが、前記マニホールドブロック下面に、一直線上に形成されていることを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
【請求項２】 請求項１に記載するプロセスガス供給ユニットにおいて、前記マニホールドブロックの上面に真空弁が取り付けられ、前記真空弁への真空入力ポートが、前記マニホールドの下面に、前記プロセスガス入力ポート、前記プロセスガス出力ポート、前記パージガス入力ポートと一直線上に形成されていることを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載するプロセスガス供給ユニットにおいて、前記供給弁が、前記マニホールドブロックの上面端部に取り付けられ、前記プロセスガス入力ポートが、前記マニホールドブロックの下面端部に形成され、前記プロセスガス出力ポートが、前記マニホールドブロックの下面他端部に形成され、前記プロセスガス供給ポートと前記プロセスガス出力ポートとを連通するプロセスガス出力流路が前記マニホールドブロックの中心部に形成され、前記チェック弁と前記パージガス入力ポートとを連通するパージガス入力流路が、前記プロセスガス出力流路を迂回してＶ字形に形成されていることを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
【請求項４】 請求項３に記載するプロセスガス供給ユニットにおいて、前記真空弁と前記真空入力ポートとを連通する真空入力流路が、前記プロセスガス出力流路を迂回してＶ字形に形成されていることを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体製造に係るプロセスガス供給ユニットに関し、特に詳細には、マニホールドブロックを小スペース化し、ユニット全体を小型化したプロセス供給ユニットに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造工程において、エッチングガス等のプロセスガスを供給するためのプロセスガス供給ユニットが開発されている。図１６は従来のプロセスガス供給ユニットの平面図である。図１５は図１６の側面図である。図１７は図１６の下面図である。
【０００３】図１５及び図１６に示すように、プロセスガス供給ユニットは、略直方体のマニホールドブロック１０１の上面に、供給弁１２０、真空弁１３０、パージ弁１４０及びチェック弁１５０が上方からネジＮで固定されている。マニホールドブロック１０１は、真空弁１３０及びチェック弁１５０の下方側面に凸部１０１Ａ、１０１Ｂが突設されている。マニホールドブロック１０１の図中右側面には、直方体に成形された出力ブロック１６０がネジＭで連結されている。出力ブロック１６０にはＬ字形流路１６１が形成されている。Ｌ字形流路１６１の一方の開口部は、マニホールドブロック１０１に当接する面の略中央部に形成されている。また、他方の開口部は、下面中央部に形成されたプロセスガス出力ポート１６２（図１７参照）に接続されている。
【０００４】図１７に示すように、マニホールドブロック１０１の下面には、プロセスガスが供給されるプロセスガス入力ポート１０２と、不図示の真空ポンプに連通する真空入力ポート１０３と、パージガスが供給されるパージガス入力ポート１０４とが形成されている。プロセスガス入力ポート１０２は、図中左端中央部に形成されており、出力ブロック１６０のプロセスガス出力ポート１６２に対して同一直線上に設けられている。また、真空入力ポート１０３及びパージガス入力ポート１０４は、凸部１０１Ａ、１０１Ｂの下面に各々形成されており、両者は同一直線上に設けられている。
【０００５】次に、従来のプロセスガス供給ユニットで使用されているマニホールドブロック１０１の構成を説明する。図１８は、従来のプロセスガス供給ユニットで使用されているマニホールドブロックの上面図である。図１９は図１８のＸＸ断面図である。図２０は図１８のＹＹ断面図である。図２１は図１８のＺＺ断面図である。
【０００６】図１９に示すように、マニホールドブロック１０１にはプロセスガス入力ポート１０２から供給弁１２０の入力ポート１２１に連通するプロセスガス入力流路１０５が形成されている。そして、マニホールドブロック１０１の略中央部長手方向にはプロセスガス出力流路１０６が形成されている。プロセスガス出力流路１０６の一端は、上面に向かってまっすぐ形成されて、供給弁１２０の出力ポート１２２に接続されている。一方、他端は、出力ブロック１６０に形成されたＬ字形流路１６１に接続されている。プロセスガス出力流路１０６には、真空弁１３０の出力ポート１３２に接続する真空出力流路１０７と、パージ弁１４０の出力ポート１４２に接続するパージガス出力流路１０８とが各々連通している。そして、マニホールドブロック１０１には、チェック弁１５０の出力ポート１５２とパージ弁１４０の入力ポート１４１とが連通するようにＶ字形に形成されたＶ字形流路１０９が設けられている。これらの流路１０５〜１０９は、マニホールドブロック１０１の同一断面上に設けられている。
【０００７】また、マニホールドブロック１０１には、図２０に示すように、真空入力ポート１０３と真空弁１３０の入力ポート１３１とを接続する真空入力流路１１０が形成されている。真空入力流路１１０は、真空入力ポート１０３をパージガス入力ポート１０４と同一直線上に配置した関係上、くの字型に形成されている。また、マニホールドブロック１０１には、図２１に示すように、パージガス入力ポート１０４とチェック弁１５０の入力ポート１５１とを接続するパージガス入力流路１１１が形成されている。パージガス入力流路１１１は、プロセスガス出力流路１０６を避けて斜めに形成されている。
【０００８】また、マニホールドブロック１０１の上面には、図１８に示すように、供給弁１２０、真空弁１３０、パージ弁１４０及びチェック弁１５０をネジ止めするために、ネジ孔１０１ａが複数個形成されている。また、供給弁１２０、真空弁１３０、パージ弁１４０及びチェック弁１５０をマニホールドブロック１０１に対して各々位置決めするために、位置決め孔１０１ｂが形成されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来のプロセスガス供給ユニットは、マニホールドブロック１０１に凸部１０１Ａ、１０１Ｂが形成されていたため、設置スペースが大きくなってしまっていた。近年、半導体製造工程において、複数枚のウエハをバッチ処理する方法から一枚ずつ処理する枚葉処理方法に移行するようになったため、装置数が増加し、プロセスガス供給ユニットの小型化がより強く要求されるようになった。また、半導体製造工程で使用されるガスの種類が多様化し、システムが複雑化したため、プロセスガス供給ユニットが１つの装置について複数個連設して使用されるようになった。ところが、従来のプロセスガス供給ユニットを連設すると、マニホールドブロック１０１の凸部１０１Ａ、１０１Ｂの先端部が隣接するマニホールドブロック１０１に当接して、マニホールドブロック１０１間に隙間が生じ、装置全体が大きくなってしまっていた。そのため、プロセスガス供給ユニットの小型化が要求されていた。
【００１０】そこで、本発明は上記技術的課題を解決するためになされたものであり、マニホールドブロックを小スペース化し、ユニット全体を小型化したプロセス供給ユニットを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本願請求項１に係る発明のプロセスガス供給ユニットは、流路が形成されたマニホールドブロックと、その上面に取り付けられた供給弁、パージ弁、及びチェック弁とを有するものであって、前記供給弁へのプロセスガス入力ポートと、前記供給弁からのプロセスガス出力ポートと、前記チェック弁へのパージガス入力ポートとが、前記マニホールドブロック下面に、一直線上に形成されていることを特徴とする。上記構成を有する請求項１のプロセスガス供給ユニットによれば、プロセスガス入力ポート、プロセスガス出力ポート及びパージガス入力ポートが一直線上に形成されるので、マニホールドブロックを直方体に形成することができる。これにより、マニホールドブロックを小スペース化することができる。また、プロセスガス供給ユニットを隙間なく並べることができ、装置全体を小型化することができる。
【００１２】本願請求項２に記載するプロセスガス供給ユニットは、請求項１に記載するものであって、前記マニホールドブロックの上面に真空弁が取り付けられ、前記真空弁への真空入力ポートが、前記マニホールドの下面に、前記プロセスガス入力ポート、前記プロセスガス出力ポート、前記パージガス入力ポートと一直線上に形成されていることを特徴とする。上記構成を有する請求項２のプロセスガス供給ユニットによれば、プロセスガス入力ポート、プロセスガス出力ポート、パージガス入力ポート及び真空入力ポートが一直線上に形成されるので、マニホールドブロックを直方体に形成することができる。これにより、マニホールドブロックを小スペース化することができる。また、プロセスガス供給ユニットを隙間なく並べることができ、装置全体を小型化することができる。
【００１３】本願請求項３に記載するプロセスガス供給ユニットによれば、請求項１又は請求項２に記載するものであって、前記供給弁が、前記マニホールドブロックの上面端部に取り付けられ、前記プロセスガス入力ポートが、前記マニホールドブロックの下面端部に形成され、前記プロセスガス出力ポートが、前記マニホールドブロックの下面他端部に形成され、前記プロセスガス供給ポートと前記プロセスガス出力ポートとを連通するプロセスガス出力流路が前記マニホールドブロックの中心部に形成され、前記チェック弁と前記パージガス入力ポートとを連通するパージガス入力流路が、前記プロセスガス出力流路を迂回してＶ字形に形成されていることを特徴とする。上記構成を有する請求項３に記載するプロセスガス供給ユニットは、パージガス入力流路がＶ字形に形成されているので、マニホールドブロックに凸部を形成する必要がなく、プロセスガス供給ユニットを小型化することができる。また、マニホールドブロックに余分な孔が形成されないので、揮発性流体を流して流路を洗浄するときに、流路内に付着した不純物を完全に除去することができる。
【００１４】本願請求項４に記載するプロセスガス供給ユニットによれば、請求項３に記載するものであって、前記真空弁と前記真空入力ポートとを連通する真空入力流路が、前記プロセスガス出力流路を迂回してＶ字形に形成されていることを特徴とする。上記構成を有する請求項４に記載するプロセスガス供給ユニットは、パージガス入力流路及び真空入力流路がＶ字形に形成されているので、マニホールドブロックに凸部を形成する必要がなく、プロセスガス供給ユニットを小型化することができる。また、マニホールドブロックに余分な孔が形成されないので、揮発性流体を流して流路を洗浄するときに、流路内に付着した不純物を完全に除去することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニットの側面図である。図２は、本発明の第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニットの上面図である。図３は、本発明の第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニットの下面図である。第１実施の形態のプロセスガス供給ユニット１は、図１及び図２に示すように、マニホールドブロック２の上面に供給弁２０、パージ弁４０及びチェック弁５０が上方から接続ネジＮで固定されている。
【００１６】マニホールドブロック２の構成について図面を参照しながら説明する。図４は、第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニットで使用されているマニホールドブロックの上面図である。図５は、第１実施の形態に係るプロセスガス供給ユニットで使用されているマニホールドブロックの下面図である。図６は図５のＡＡ断面図である。
【００１７】図５に示すように、マニホールドブロック２は第１マニホールドブロック２Ａと第２マニホールドブロック２Ｂとを接続ネジ９６で連結させたものである。マニホールドブロック２の下面には、図３に示すように、プロセスガスが供給されるプロセスガス入力ポート３、Ｎ2等のパージガスが供給されるパージガス入力ポート４及びプロセスガスが排出されるプロセスガス出力ポート５が、同一直線上に形成されている。また、マニホールドブロック２の下面には、不図示のベースプレートを固定するための接続ネジが締結されるネジ孔９３が形成されている。
【００１８】マニホールドブロック２には、図１に示すように、プロセスガス入力ポート３と供給弁２０の入力ポート２１とを連通させるプロセスガス入力流路６が形成されている。また、マニホールドブロック２には、供給弁２０の出力ポート２２と第２マニホールドブロック２Ｂに形成されたプロセスガス出力ポート５とを連通させるプロセスガス出力流路７が形成されている。プロセスガス出力流路７は、供給弁２０の出力ポート２２から第１マニホールドブロック２Ａの略中央に向かって斜めに穿設された斜め流路７ａと、第１マニホールドブロック２Ａの略中央部長手方向に形成された水平流路７ｂと、第２マニホールドブロック２Ｂの略中央部長手方向に形成された水平流路７ｃと、水平流路７ｃの端部からプロセスガス出力ポート５に垂直に形成された垂直流路７ｄとから形成されている。斜め流路７ａには、パージ弁４０の出力ポート４２に連通するパージガス出力流路８が連通している。
【００１９】また、マニホールドブロック２には、チェック弁５０の出力ポート５２とパージ弁４０の入力ポート４１とを連通させるコの字形流路９が形成されている。ここで、コの字形流路９と水平流路７ｂの途中には、第１、第２マニホールドブロック２Ａ、２Ｂの接続部分があるため、その接続部分にはシール部材９５が配設されている。
【００２０】また、第２マニホールドブロック２Ｂには、チェック弁５０の入力ポート５１とパージガス入力ポート４とを連通させるためのパージガス入力流路１０が形成されている。パージガス入力流路１０は、図６に示すように、チェック弁５０の入力ポート５１と接続する部分からプロセスガス出力流路７を回避するように斜めに穿設された流路と、パージガス入力ポート４からプロセスガス出力流路７を回避するように斜めに穿設された流路とを連通させたものであり、Ｖ字形に形成されている。
【００２１】マニホールドブロック２の上面に形成された流路６、７、８、９、１０の開口部は、図４に示すように、同一直線上に設けられている。また、マニホールドブロック２の上面には、接続ネジＮ（図２参照）が締結されるネジ孔９１と、マニホールドブロック２に対して供給弁２０等を位置決めするための位置決めピンが挿通される位置決め孔９２が形成されている。
【００２２】このように構成されたプロセスガス供給ユニットは、半導体製造装置で使用される複数種類のガスの流量を調節するために、マスフローコントローラ等と共にシステム化される。図７は、第１実施の形態のプロセスガス供給ユニットをシステム化した一例を示す図である。図７に示すように、プロセスガス供給ユニット１は、マスフローコントローラ７０等と共に隙間なく連設されて半導体製造装置に組み付けられる。
【００２３】上記構成を有する第１実施の形態のプロセスガス供給ユニットは、次のように作用する。プロセスガス出力ポート５をマスフローコントローラ７０等を介して、半導体製造工程の真空チャンバ（不図示）に接続する。また、プロセスガス入力ポート３をプロセスガス供給源（不図示）に接続する。パージ弁４０を閉じた状態で供給弁２０を開くことにより、プロセスガスはプロセスガス入力流路６、入力ポート２１、出力ポート２２、プロセスガス出力流路７を通ってプロセスガス出力ポート５からマスフローコントローラ７０へと流れる。
【００２４】マスフローコントローラ７０で所定量のプロセスガスを流したことを検出すると、供給弁２０を閉じてプロセスガスの供給を停止する。そして、マスフローコントローラ７０の出口側を真空チャンバから排気手段へ切り換える。その後、パージ弁４０を開いて、パージガスとして、Ｎ2ガス等の不活性ガスをパージガス入力ポート４、パージガス入力流路１０、チェック弁５０の入力ポート５１、チェック弁５０の出力ポート５２、コの字形流路９、パージ弁４０の入力ポート４１、パージ弁４０の出力ポート４２、パージガス出力流路８を通して、プロセスガス出力流路７へ流す。これにより、プロセスガス出力流路７及びマスフローコントローラ７０内に残留しているプロセスガスを排除することができる。
【００２５】以上詳細に説明したように、第１実施の形態のプロセスガス供給装置によれば、パージガス入力流路１０をＶ字形に形成したことにより、プロセスガス入力ポート３、パージガス入力ポート４及びプロセスガス出力ポート５を同一直線上に形成することができた。これにより、マニホールドブロック２を直方体に成形することができ、プロセスガス供給ユニットを小型化することができた。また、各種ガスの入力ポートが同一直線状に配置されるので、流路を設計しやすくなった。
【００２６】また、マニホールドブロック２が直方体に成形されているので、図７に示すようにプロセスガス供給ユニット１を隙間なく連設することができ、半導体製造装置全体を小スペース化することができた。
【００２７】また、マニホールドブロック２が直方体に成形されているので、流路を設計するときに従来のプロセスガス供給ユニット１００のように凸部の位置に拘束されることがなく、設計の自由度が向上した。また、流路の形成時においても、マニホールドブロック２の向きを一々確認してから作業をする必要がなく、簡単に流路を形成することができるようになり、作業効率が向上した。
【００２８】また、パージガス供給流路１０はチェック弁５０の入力ポート５１に接続する部分から斜めに穿設された流路と、パージガス入力ポート４から斜めに穿設された流路とを連通させてＶ字形に形成したので、パージガス入力流路１０は余分な孔を形成せずに、簡単に形成することができる。すなわち、例えば、上面から下面に貫通する貫通孔を形成し、その貫通孔に連通する流路をチェック弁５０の入力ポート５１及びパージガス入力ポート４から形成して略「升」形の流路を設け、流体が外部に洩れないように貫通孔の両端を塞ぐ必要がない。また、パージガス入力流路１０をＶ字形に成形することにより、揮発性流体で流路内を洗浄するときに、流路の交差部分から揮発性流体が外部に漏れることがないので、流路内の不純物を完全に除去することができる。
【００２９】続いて、本発明の第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットについて説明する。図８は、第２実施の形態のプロセスガス供給にユニットの側面図である。図９は、第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットの上面図である。図１０は、第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットの下面図である。図１１は、第２実施の形態で使用されているマニホールドブロックの上面図である。図１２は、第２実施の形態で使用されているマニホールドブロックの下面図である。図１３は、図１２のＢＢ断面図である。図１４は、図１２ＣＣ断面図である。尚、第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットは第１実施の形態のプロセスガス供給ユニット１に真空弁を取り付けたものであるので、第１実施の形と重複する部分には同じ符号を付して詳細な説明を省略し、第１実施の形態と異なる構成のみ説明する。
【００３０】図８及び図９に示すように、マニホールドブロック２の上面には、供給弁２０、パージ弁４０、チェック弁５０及び真空弁３０が上方から接続ネジＮで固定されている。図１２に示すように、マニホールドブロック２は第１マニホールドブロック２Ａと第３マニホールドブロック２Ｃとを接続ネジ９６で連結したものである。図１０及び図１２に示すように、マニホールドブロック２の下面には、プロセスガスが供給されるプロセスガス入力ポート３と、パージガスが供給されるパージガス入力ポート１１と、不図示の真空ポンプに連通する真空入力ポート１２と、プロセスガスが排出されるプロセスガス出力ポート１３が同一直線上に形成されている。
【００３１】図８に示すように、マニホールドブロック２には供給弁２０の出力ポート２２とプロセスガス出力ポート１３とを連通させるプロセスガス出力流路７が形成されている。第３マニホールドブロック２Ｃには、第１マニホールドブロック２Ａに形成された水平流路７ｂに接続する水平流路７ｅが形成され、ぞの水平流路７ｅの端部とプロセスガス出力ポート１３とを連通させる垂直流路７ｆが形成されている。第３マニホールドブロック２Ｃには、真空弁３０の出力ポート３２から水平流路７ｅに対して垂直に形成された真空出力流路１５が形成されており、真空出力流路１５と水平流路７ｅとは連通している。
【００３２】また、第３マニホールドブロック２Ｃには、図８に示すように、真空弁３０の入力ポート３１と真空入力ポート１２とを連通させる真空入力流路１６が形成されている。真空入力流路１６は、図１４に示すように、真空弁３０の入力ポート３１が接続する部分から斜めに穿設された流路と、真空入力ポート１２から斜めに穿設された流路とを連通させたものであり、Ｖ字形に形成されている。
【００３３】また、第３マニホールドブロック２Ｃには、図８に示すように、チェック弁５０の入力ポート５１とパージガス入力ポート１１とを連通させるパージガス入力流路１４が形成されている。ここで、図１３に示すように、接続ネジ９６（図１２参照）が締結されるネジ孔９７が４カ所形成されている。そのため、パージガス入力流路１４は、図８及び図１３に示すように、プロセスガス出力流路７、コの字形流路９及びネジ孔９７を回避するように形成されている。すなわち、チェック弁５０の入力ポートから斜めに穿設した流路と、パージガス入力ポート１１から斜めに穿設した流路とを連通させて、Ｖ字形に形成されている。これらの流路６、７、８、９、１４、１５、１６の開口部は、図１１に示すように、マニホールドブロック２の上面に同一直線上に形成されている。
【００３４】上記構成を有する第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットの作用を第１実施の形態と異なる点について簡単に説明する。プロセスガスの供給が終了してプロセスガス出力流路７内に残留しているプロセスガスをパージガスと置換するときに、供給弁２０を閉じた後、真空弁３０を開いて、残留するプロセスガスを真空入力流路１６を介して真空入力ポート１２から所定時間（例えば数分間）吸引する。その後、パージ弁４０を開いてパージガスによりパージを行う。この吸引とパージを数回繰り返すことにより、短時間で置換を完了することができる。
【００３５】以上詳細に説明したように、第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットは、パージガス入力流路１４及び真空入力流路１６をＶ字形に形成したことにより、プロセスガス供給ポート３、パージガス入力ポート１１、真空入力ポート１２及びプロセスガス出力ポート１３を同一直線上に形成することができたので、マニホールドブロック２を直方体に成形することができ、プロセスガス供給ユニットを小スペース化することができた。また、マニホールドブロック２が直方体に成形されているので、隙間無く連設することができ、装置全体を小型化することができた。
【００３６】また、第１実施の形態のプロセスガス供給ユニット及び第２実施の形態のプロセスガス供給ユニットで第１マニホールドブロック２Ａを共用している。そのため、第１マニホールドブロック２Ａをベースプレート（不図示）に固定した状態で、第２、第３マニホールドブロック２Ｂ、２Ｃを上方から接続ネジＮで取り付けると共に、第１マニホールドブロック２Ａの側面から接続ネジ９６でブロック同士を締結するだけで簡単に仕様変更をすることができるようになった。
【００３７】尚、本発明は上記実施の形態に何ら拘束されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において、適宜変更可能であることはいうまでもない。すなわち、例えば、プロセスガス供給ユニットを構成する各パーツ機器の構成は、上記実施の形態のものに拘束されるわけではない。
【００３８】
【発明の効果】よって、本発明のプロセスガス供給ユニットによれば、流路が形成されたマニホールドブロックと、その上面に取り付けられた供給弁、パージ弁、及びチェック弁とを有するものであって、前記供給弁へのプロセスガス入力ポートと、前記供給弁からのプロセスガス出力ポートと、前記チェック弁へのパージガス入力ポートとが、前記マニホールドブロック下面に、一直線上に形成されているので、マニホールドブロックを直方体に成形して小スペース化することができ、装置全体を小型化することができた。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００１０６７６０
【氏名又は名称】シーケーディ株式会社
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| 【出願日】 |
平成１１年９月９日（１９９９．９．９） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００９７００９
【弁理士】
【氏名又は名称】富澤 孝 （外２名）
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| 【公開番号】 |
特開２００１−８２６２１（Ｐ２００１−８２６２１Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１３年３月３０日（２００１．３．３０） |
| 【出願番号】 |
特願平１１−２５５１９８ |
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