| 【発明の名称】 |
分流弁および分流弁を連結した連結分流弁装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】坂槙 益伸
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| 【要約】 |
【課題】
【解決手段】 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 次の要件（Ａ01）を備えた分流弁、（Ａ01）互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１流路接続面および第１流体第２流路接続面と、前記両接続面に垂直な第２流体第１流路接続面と、前記三つの接続面に垂直なバルブ装着面と、前記第１流体第１流路接続面に開口する接続端部および前記バルブ装着面に開口するバルブ側端部を有する第１流体第１流路と、前記第１流体第２流路接続面に開口する接続端部および前記バルブ装着面に開口するバルブ側端部を有する第１流体第２流路と、前記第２流体第１流路接続面に開口する接続端部および前記バルブ装着面に開口するバルブ側端部を有する第２流体第１流路と、前記第１流体第１流路および第１流体第２流路の前記各バルブ側端部を常時連通させる第１流体常時連通路と、を有する分流弁本体ブロック。
（Ａ02）前記バルブ装着面に装着されて、第２流体第１流路のバルブ側端部を前記第１流体常時連通路に連通させる連通位置と前記第１流体常時連通路に対して遮断する遮断位置との間で移動可能な弁部材を有する切替バルブ。
【請求項２】 次の要件（Ｂ01），（Ｂ02）を備えた連結分流弁装置、（Ｂ01）互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１流路接続面および第１流体第２流路接続面と、前記両接続面に垂直な第２流体第１流路接続面と、前記三つの接続面に垂直なバルブ装着面と、前記第１流体第１流路接続面に１端が開口し他端が前記バルブ装着面に開口する第１流体第１流路および前記第１流体第２流路接続面に１端が開口し他端が前記バルブ装着面に開口する第１流体第２流路と、１端が前記第２流体第１流路接続面に開口し他端が前記バルブ装着面に開口する第２流体第１流路と、前記第１流体第１流路および第１流体第２流路の前記バルブ装着面の開口を常時連通させる第１流体常時連通路と、を有する分流弁本体ブロックと、前記バルブ装着面に装着されて、第２流体第１流路のバルブ側端部を前記第１流体常時連通路に連通させる連通位置と前記第１流体常時連通路に対して遮断する遮断位置との間で移動可能な弁部材を有する切替バルブと、前記第１流体第１流路接続面に開口する第１流体第１流路の接続端部に接続された第１流体第１流管、および前記第１流体第２流路接続面に開口する第１流体第２流路の接続端部に接続された第１流体第２流管と、前記第１流体第１流管および第１流体第２流管の一方の管に装着された雌継ぎ手および他方の管に装着された雄継ぎ手とを備えた複数の分流弁、（Ｂ02）前記複数の分流弁を１列に並べて、互いに隣接する各分流弁の第１流体第１流管および第１流体第２流管を各流管に装着された継ぎ手により互いに接続し、前記複数の分流弁の第１流体第１流路および第１流体第２流路を全て連通させた直列連結分流弁装置。
【請求項３】 次の要件（Ｂ03），（Ｂ04）を備えた請求項２記載の連結分流弁装置、（Ｂ03）前記第２流体第１流路接続面に開口する前記第２流体第１流路の接続端部に接続された第２流体第１流管、（Ｂ04）雌継ぎ手または雄継ぎ手が装着された前記第２流体第１流管。
【請求項４】 次の要件（Ｂ05）を備えた請求項２または３記載の連結分流弁装置、（Ｂ05）前記直列連結分流弁装置を２列設け、一方の列の直列連結分流弁装置の各分流弁の第２流体第１流路の接続端部と他方の列の直列連結分流弁装置の各分流弁の第２流体第１流路の接続端部とを互いに接続する端部接続部材および前記端部接続部材に連結された第２流体供給部材。
【請求項５】 次の要件（Ｂ06），（Ｂ07）を備えた請求項２または３記載の連結分流弁装置、（Ｂ06）前記第２流体第１流路接続面またはバルブ装着面のいずれかの面と反対側の側面に形成された第２流体第２流路接続面に一端部が開口し他端部が前記第２流体第１流路に接続する第２流体第２流路を有する前記分流弁本体ブロック、（Ｂ07）前記直列連結分流弁装置を２列設け、各列の直列連結分流弁装置の分流弁の第２流体第１流路接続面が対向して配置された２列の直列連結分流弁装置であって、各列の連結分流弁装置の各分流弁の第２流体第１流路どうしが接続された直列連結分流弁装置。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は分流弁および複数の分流弁を連結した連結分流弁装置に関し、特に高純度の混合ガスを得るのに適した分流弁および分流弁装置に関する。本発明の分流弁は流体を分流したり、混合したりする際に使用される。また、高純度のガスは、半導体製品の製造過程において、シリコンウエハ表面に数種の成分の混合ガスを使用して蒸着膜を形成する際等に使用される。
【０００２】
【従来の技術】半導体製品の製造工程において使用されるガス混合装置は、キャリアガスに１種以上の反応ガスを混合した混合ガスを蒸着装置に供給する。前記混合ガスを供給してシリコンウエハ表面に数種の成分の混合ガスにより蒸着膜を形成する作業が終了した後、前記反応ガスの供給を停止した状態で待機し、次の作業のための反応ガスをガス混合装置で混合する。その際、先に使用した反応ガスがガス供給路に未使用で残留している場合があり、その残留ガスが不純物として次の作業のための反応ガス中に混入することになる。
【０００３】前記各種ガスを混合させる時に理想的な混合比を実現して、前の作業の未使用ガスの残留成分の影響を無くすることができれば、不純物の混合が低減され、飛躍的な製品の高品質化、良品率の向上が可能となる。また、今後のプロセス上の方向性として生成膜の形成条件は、減圧下、少量流量の方向へと移行している。このため、前記残留ガス成分の影響は大きくクローズアップされてきている。
【０００４】従来、前記種類のガス混合装置において、例えば、次の図１１に示すような装置が知られている。図１１は従来のガス混合装置の説明図である。図１１に示すガス混合装置は、キャリアガスＧ０が流れるキャリアガス流路０１に複数（例えば４種類）の反応ガスＧ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４を流入させる際、キャリアガス流路の中心線に沿って、第１混合位置Ｐ１および第２混合位置Ｐ２を設定し、設定された前記第１混合位置Ｐ１においてキャリアガスＧ０に反応ガスＧ１およびＧ２を混合し、前記第２混合位置Ｐ２において反応ガスＧ３，Ｇ４を混合する。なお、図１１においてプロセスバルブＶ１およびベントバルブＶ２は、いずれかが一方が開、他方が閉の状態で使用され、Ｖ１開、Ｖ２閉の場合は反応ガスがキャリアガス流路０１に流れて混合され、Ｖ１閉、Ｖ２開の場合は反応ガスはベントバルブＶ２を通って回収装置（図示せず）に回収される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前記従来のガス混合装置では、次の問題点がある。
（ａ）前記４種の反応ガスＧ１〜Ｇ４を同時に混合する場合、Ｇ１およびＧ２の混合位置Ｐ１とＧ３，Ｇ４の混合位置Ｐ２とがキャリアガス流路に沿って位置が異なるため、各ガス（キャリアガスおよび反応ガス）が混合されながら流れる距離が異なるため、混合位置が異なる反応ガスを均一な混合比で混合しようとしても、混合開始時から均一な混合ガスを得ることは不可能である。したがって、混合位置が異なる反応ガスの均一な混合ガスを、混合開始時から蒸着室に供給することは不可能である。
（b）前記キャリアガス流路への前記各反応ガスＧ１〜Ｇ４の供給／遮断を行うための各プロセスバルブＶ１の位置から前記混合位置Ｐ１またはＰ２までの反応ガス流路（デッドゾーン）の長さが異なる場合には、前の作業で使用した反応ガスの残留ガス（デッドゾーンの残留ガス）が次の作業の時に混入して不純物が混入する。このため、ガス純度の再現性にバラツキを生じ高品質の製品（均一な蒸着膜）が製作できない。
（c）前記デッドゾーンの長さを一定にしても、その長さが長い程、残留ガスが不純物として混入する期間が長くなる。
【０００６】また、従来、円盤状のガス混合室の円周面に複数の反応ガスを供給して混合する装置が知られている。この従来技術は複数の各反応ガスをキャリアガス流路に沿った同一の混合位置に同時に流入させて混合することが可能であるが、前記混合位置（円盤状のガス混合室）の範囲が広いため、均一な混合比が得られ難い。また、この従来技術では前記デッドゾーンの残留ガスに対する考慮がなされていない。
【０００７】また従来、ガス混合装置として、キャリアガス流路、複数の反応ガス流路、およびそれらの混合ガス流路等が形成された厚みの有る平板状の流路形成ブロックと前記流路形成ブロックの上面に設けた多数の開閉弁装着部にそれぞれ装着した複数の開閉弁とを有するブロック状のガス混合装置が知られている。しかしながら、このガス混合装置は高価であり、反応ガスの種類が増加した場合等の対応にコストがかかる等の問題点がある。
【０００８】本発明は前記問題点に鑑み、次の記載内容（Ｏ01）〜（Ｏ04）を課題とする。
（Ｏ01）キャリアガスに複数の反応ガスを均一に混合させること。
（Ｏ02）残留ガスの生じるデッドゾーンを無くすこと。
（Ｏ03）混合するガスの種類の増減に容易に対応できるようにすること。
（Ｏ04）高純度の混合ガスをを得ることにより、高品質の製品（薄膜等）を得ること。
【０００９】
【課題を解決するための手段】次に、前記課題を解決するために案出した本発明を説明するが、本発明の要素には、後述の実施例の要素との対応を容易にするため、実施例の要素の符号をカッコで囲んだものを付記する。なお、本発明を後述の実施例の符号と対応させて説明する理由は、本発明の理解を容易にするためであり、本発明の範囲を実施例に限定するためではない。
【００１０】（第１発明）前記課題を解決するために、第１発明の分流弁は、次の要件（Ａ01）を備えたことを特徴とする。
（Ａ01）互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１流路接続面（２）および第１流体第２流路接続面（３）と、前記両接続面（２，３）に垂直な第２流体第１流路接続面（４）と、前記三つの接続面（２，３，４）に垂直なバルブ装着面（５）と、前記第１流体第１流路接続面（２）に開口する接続端部（７ａ）および前記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（７ｂ）を有する第１流体第１流路（７）と、前記第１流体第２流路接続面（３）に開口する接続端部（８ａ）および前記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（８ｂ）を有する第１流体第２流路（８）と、前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する接続端部（９ａ）および前記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（９ｂ）を有する第２流体第１流路（９）と、前記第１流体第１流路（７）および第１流体第２流路（８）の前記各バルブ側端部（７ｂ，８ｂ）を常時連通させる第１流体常時連通路（５ｃ）と、を有する分流弁本体ブロック（１）。
（Ａ02）前記バルブ装着面（５）に装着されて、第２流体第１流路（９）のバルブ側端部（９ｂ）を前記第１流体常時連通路（５ｃ）に連通させる連通位置と前記第１流体常時連通路（５ｃ）に対して遮断する遮断位置との間で移動可能な弁部材（１４）を有する切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）。
【００１１】（第１発明の作用）前記構成を備えた第１発明の分流弁では、第１流体第１流路（７）は、第１流体常時連通路（５ｃ）を介して第１流体第２流路（８）に接続している。すなわち、分流弁本体ブロック（１）の互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１流路接続面（２）および第１流体第２流路接続面（３）にそれぞれ開口する第１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）および第１流体第２流路（８）の接続端部（８ａ）は連通している。したがって、第１発明の分流弁（Ｖ）は、複数個を直列に接続することにより各分流弁（Ｖ）の第１流体第１流路（７）および第１流体第２流路（８）を直列に接続することができる。したがって、第１流体として半導体製造装置のキャリアガスを使用する場合には、前記直列に接続した複数の分流弁にキャリアガスを連続して流すことかできる。
【００１２】一端部（接続端部９ａ）が前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する第２流体第１流路（９）の他端部（バルブ側端部９ｂ）は前記バルブ装着面（５）に開口する。バルブ装着面（５）に装着された切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）の弁部材（１４）が連通位置に移動した状態では、第２流体第１流路（９）のバルブ側端部（９ｂ）は、前記第１流体常時連通路（５ｃ）に連通し、遮断位置に移動した状態では前記第１流体常時連通路（５ｃ）に対して遮断される。したがって、第２流体第１流路（９）は、切替えバルブ（Ｖ１，Ｖ２）によりデッドゾーンの無い状態で第１流体常時連通路（５ｃ）に対して連通または遮断される。このため、第１流体として半導体製造装置のキャリアガスを使用し、第２流体として半導体製造装置の反応ガスを使用する場合には、反応ガスをキャリアガス流路に対してデッドゾーンの無い状態で連通または遮断することができるので、純度の高い反応ガスを供給することができる。
【００１３】（第２発明）第２発明の連結分流弁装置は、次の要件（Ｂ01），（Ｂ02）を備えたことを特徴とする。
（Ｂ01）互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１流路接続面（２）および第１流体第２流路接続面（３）と、前記両接続面（２，３）に垂直な第２流体第１流路接続面（４）と、前記三つの接続面（２，３，４）に垂直なバルブ装着面（５）と、前記第１流体第１流路接続面（２）に開口する接続端部（７ａ）および前記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（７ｂ）を有する第１流体第１流路（７）と、前記第１流体第２流路接続面（３）に開口する接続端部（８ａ）および前記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（８ｂ）を有する第１流体第２流路（８）と、前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する接続端部（９ａ）および前記バルブ装着面（５）に開口するバルブ側端部（８ｂ）を有する第２流体第１流路（９）と、前記第１流体第１流路（７）および第１流体第２流路（８）の前記各バルブ側端部（７ｂ，８ｂ）を常時連通させる第１流体常時連通路（５ｃ）と、を有する分流弁本体ブロック（１）と、前記バルブ装着面（５）に装着されて、第２流体第１流路（９）のバルブ側端部（９ｂ）を前記第１流体常時連通路（５ｃ）に連通させる連通位置と前記第１流体常時連通路（５ｃ）に対して遮断する遮断位置との間で移動可能な弁部材（１４）を有する切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）と、前記第１流体第１流路接続面（２）に開口する第１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）に接続された第１流体第１流管（２１）、および前記第１流体第２流路接続面（３）に開口する第１流体第２流路（８）の接続端部（８ａ）に接続された第１流体第２流管（２３）と、前記第１流体第１流管（２１）および第１流体第２流管（２３）の一方の管（２３）に装着された雌継ぎ手（２４）および他方の管（２１）に装着された雄継ぎ手（２２）とを備えた複数の分流弁（Ｖ）、（Ｂ02）前記複数の分流弁（Ｖ）を１列に並べて、互いに隣接する各分流弁（Ｖ）の第１流体第１流管（２１）および第１流体第２流管（２３）を各流管に装着された継ぎ手により互いに接続し、前記複数の分流弁（Ｖ）の第１流体第１流路（７）および第１流体第２流路（８）を全て連通させた直列連結分流弁装置（Ｕ１，Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）。
【００１４】（第２発明の作用）前記構成を備えた第２発明の連結分流弁装置では、複数の各分流弁（Ｂ）の第１流体第１流路（７）は、第１流体常時連通路（５ｃ）を介して第１流体第２流路（８）に接続している。すなわち、分流弁本体ブロック（１）の互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１流路接続面（２）および第１流体第２流路接続面（３）にそれぞれ開口する第１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）および第１流体第２流路（８）の接続端部（８ａ）は連通している。前記第１流体第１流路接続面（２）に開口する第１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）に接続された第１流体第１流管（２１）、および前記第１流体第２流路接続面（３）に開口する第１流体第２流路（８）の接続端部（８ａ）に接続された第１流体第２流管（２３）の一方の管（２３）には雌継ぎ手（２４）が装着され、他方の管（２１）には雄継ぎ手（２２）が装着されている。前記複数の各分流弁（Ｖ）の雌継ぎ手（２４）および雄継ぎ手（２２）を順次接続することにより複数の分流弁（Ｖ）を容易に直列に接続することができる。そして、第１流体として半導体製造装置のキャリアガスを使用する場合には、前記直列に接続した複数の分流弁（Ｖ）の第１流体の流路（７，８，５ｃ）にキャリアガスを流すことかできる。
【００１５】一端部（接続端部９ａ）が前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する第２流体第１流路（９）の他端部（バルブ側端部９ｂ）は前記バルブ装着面（５）に開口する。バルブ装着面（５）に装着された切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）の弁部材（１４）が連通位置に移動した状態では、第２流体第１流路（９）のバルブ側端部（９ｂ）は、前記第１流体常時連通路（５ｃ）に連通し、遮断位置に移動した状態では前記第１流体常時連通路（５ｃ）に対して遮断される。したがって、第２流体第１流路（９）は、切替えバルブ（Ｖ１，Ｖ２））によりデッドゾーンの無い状態で第１流体常時連通路（５ｃ）に対して連通または遮断される。このため、第１流体として半導体製造装置のキャリアガスを使用し、第２流体として半導体製造装置の反応ガスを使用する場合には、反応ガス（第２流体）をキャリアガス流路（第１流体の流路７，８，５ｃ）に対してデッドゾーンの無い状態で連通または遮断することができる。
【００１６】また、種類の異なる反応ガスの数が増加した場合でも、連結する分流弁（Ｖ）の数を加減することにより容易に対応することができるので、ガス混合装置の規模の小さいものから大きなものまで容易に構成することができる。また同様に、流体の分流装置として使用する場合にも、装置規模の小さいものから大きいものまで、容易に構成することができる。また従来、半導体製造装置で使用していたキャリアガスおよび反応ガスの搬送路の混合装置、分流装置等では、Ｔ字型管と遮断弁とを使用していたが、前記従来のガス搬送路の代わりに容易に設置することができる。その際、デッドゾーンの残留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くなるので、旧式の半導体製造装置が高性能の装置として再生される。
【００１７】
【発明の実施の形態】（第１発明の実施の形態１）第１発明の実施の形態１の分流弁は前記第１発明において、次の要件（Ａ03）を備えたことを特徴とする。
（Ａ03）前記第１流体第１流路接続面（２）に開口する第１流体第１流路（７）の接続端部（７ａ）に接続された第１流体第１流管（２１）、および前記第１流体第２流路接続面（３）に開口する第１流体第２流路（８）の接続端部（８ａ）に接続された第１流体第２流管（２３）。
【００１８】（第１発明の実施の形態１の作用）前記構成を備えた第１発明の実施の形態１の分流弁（Ｖ）では、複数の各分流弁（Ｖ）の第１流体第１流管（２１）と第１流体第２流管（２３）とを順次接続することにより容易に直列連結分流弁装置（複数の分流弁を直列に接続した装置）（Ｕ１，Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を製作することができる。
【００１９】（第１発明の実施の形態２）第１発明の実施の形態２の分流弁は、前記第１発明または第１発明の実施の形態１において次の要件（Ａ04）を備えたことを特徴とする。
（Ａ04）前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）開口に接続された第２流体第１流管（２５）。
【００２０】（第１発明の実施の形態２の作用）前記構成を備えた第１発明の実施の形態２の分流弁では、前記第２流体第１流管（２５）に第２流体を供給することにより、容易に第１流体（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８および第１流体常時連通路５ｃを流れる流体）と混合させることができる。また、第１流体を前記第２流体第１流管（２５）に容易に分流させることができる。
【００２１】（第１発明の実施の形態３）第１発明の実施の形態３の分流弁は、前記第１発明の実施の形態１において、次の要件（Ａ05）を備えたことを特徴とする。
（Ａ05）前記第１流体第１流管（２１）および第１流体第２流管（２３）の一方の管（２３）に装着された雌継ぎ手（２４）および他方の管（２１）に装着された雄継ぎ手（２２）。
【００２２】（第１発明の実施の形態３の作用）前記構成を備えた第１発明の実施の形態３の分流弁は、複数の各分流弁の前記第１流体第１流管（２１）および第１流体第２流管（２３）の一方の管（２３）に装着された雌継ぎ手（２４）および他方の管（２１）に装着された雄継ぎ手（２２）を互いに接続することにより、複数の分流弁（Ｖ）を容易に直列に接続することができる。
【００２３】（第１発明の実施の形態４）第１発明の実施の形態４の分流弁は、第１発明または第１発明の実施の形態１ないし３のいずれかにおいて次の要件（Ａ06），（Ａ07）を備えたことを特徴とする。
（Ａ06）前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）に接続された第２流体第１流管（２５）、（Ａ07）雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着された前記第２流体第１流管（２５）。
【００２４】（第１発明の実施の形態４の作用）前記構成を備えた第１発明の実施の形態４の分流弁では、前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）に第２流体第１流管（２５）が接続され、前記第２流体第１流管（２５）には雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着される。前記複数の分流弁（Ｖ）を直列に接続した直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列製作して並列に配置した状態で、前記第２流体第１流管（２５）の雄継ぎ手（２６）または雌継ぎ手は、Ｔ字管（３１）の両端に連結した継ぎ手（３３）により容易に連結することができる。その場合、Ｔ字管（３１）から第２流体を、前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）に供給することができる。
【００２５】前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベントガス流路として使用することができる。その場合、前記Ｔ字管（３１）から第２流体として反応ガスを供給することができる。その場合、前記Ｔ字管（３１）が接続された一対の分流弁（Ｖ）の一方の分流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移動させることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送用流路またはベントガス流路に流すことができる。
【００２６】（第１発明の実施の形態５）第１発明の実施の形態５の分流弁は、第１発明または第１発明の実施の形態１ないし４のいずれかにおいて次の要件（Ａ08）を備えたことを特徴とする。
（Ａ08）前記第２流体第１流路接続面（４）またはバルブ装着面（５）のいずれかの面（４，５）と反対側の側面に形成された第２流体第２流路接続面（３６）に一端部が開口し他端が前記第２流体第１流路（９）に接続する第２流体第２流路（３７）を有する前記分流弁本体ブロック（１）。
【００２７】（第１発明の実施の形態５の作用）前記構成を備えた第１発明の実施の形態５の分流弁では、前記複数の分流弁（Ｖ）を直列に接続した直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列製作して並列に配置した状態で、一方の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の前記第２流体第１流路（９）と他方の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の第２流体第１流路（９）とを連結した状態で、前記第２流体第２流路（３７）から第２流体を、前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）に供給することができる。前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベントガス流路として使用することができる。その場合、前記第２流体第２流路（３７）から第２流体として反応ガスを供給すると、第２流体第２流路（３７）が接続された一対の分流弁（Ｖ）の一方の分流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移動させることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送用流路またはベントガス流路に流すことができる。
【００２８】（第１発明の実施の形態６）第１発明の実施の形態６の分流弁は、第１発明の実施の形態５において次の要件（Ａ09），（Ａ010）を備えたことを特徴とする、（Ａ09）前記第２流体第２流路接続面（３６）に開口する前記第２流体第２流路（３７）の接続端部（３７ａ）開口に接続された第２流体第２流管（３８）。
（Ａ010）雌継ぎ手または雄継ぎ手が装着された前記第２流体第２流管（３８）。
【００２９】（第１発明の実施の形態６の作用）前記構成を備えた第１発明の実施の形態６の分流弁では、第２流体第２流管（３８）に装着された雌継ぎ手または雄継ぎ手により、前記第２流体第２流管（３８）に第２流体を供給する第２流体供給部材を容易に接続することができる。
【００３０】（第２発明の実施の形態１）第２発明の実施の形態１の連結分流弁装置は、前記第２発明において次の要件（Ｂ03），（Ｂ04）を備えたことを特徴とする。
（Ｂ03）前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）に接続された第２流体第１流管（２５）、（Ｂ04）雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着された前記第２流体第１流管（２５）。
【００３１】（第２発明の実施の形態１の作用）前記構成を備えた第２発明の実施の形態１の連結分流弁装置では、前記第２流体第１流路接続面（４）に開口する前記第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）に第２流体第１流管（２５）が接続され、前記第２流体第１流管（２５）には雌継ぎ手または雄継ぎ手（２６）が装着される。前記複数の分流弁（Ｖ）を直列に接続した直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列製作して並列に配置した状態で、前記第２流体第１流管（２５）の雄継ぎ手（２６）または雌継ぎ手は、例えばＴ字管（３１）の両端に連結した継ぎ手（３３）により容易に連結することができる。その場合、Ｔ字管（３１）から第２流体を、前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）に供給することができる。
【００３２】前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベントガス流路として使用することができる。その場合、前記Ｔ字管（３１）から第２流体として反応ガスを供給することができる。その場合、前記Ｔ字管（３１）が接続された一対の分流弁（Ｖ）の一方の分流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分流弁（Ｖ）の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移動させることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送用流路またはベントガス流路に流すことができる。
【００３３】（第２発明の実施の形態２）第２発明の実施の形態２の連結分流弁装置は、前記第２発明または第２発明の実施の形態１において次の要件（Ｂ05）を備えたことを特徴とする。
（Ｂ05）前記直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列設け、一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）と他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）とを互いに接続する端部接続部材（３１，３２，２５）および前記端部接続部材（２５，３１，３２）に連結された第２流体供給部材（３４）。
【００３４】（第２発明の実施の形態２の作用）前記構成を備えた第２発明の実施の形態２の連結分流弁装置では、２列設けられた前記直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）と他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）の接続端部（９ａ）とは端部接続部材（２５，３１，３２）により互いに接続される。前記端部接続部材（２５，３１，３２）に連結された第２流体供給部材（３４）から供給された第２流体は、前記２列の各列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の互いに連結された各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）に供給される。
【００３５】前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベントガス流路として使用することができる。その場合、前記第２流体供給部材（３４）から第２流体として反応ガスを供給することができる。その場合、前記Ｔ字管（３１）が接続された一対の分流弁の一方の分流弁の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分流弁の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移動させることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送用流路またはベントガス流路に流すことができる。
【００３６】（第２発明の実施の形態３）第２発明の実施の形態３の連結分流弁装置は、前記第２発明または第２発明の実施の形態１において次の要件（Ｂ06），（Ｂ07）を備えたことを特徴とする。
（Ｂ06）前記第２流体第１流路接続面（４）またはバルブ装着面（５）のいずれかの面と反対側の側面に形成された第２流体第２流路接続面（３６）に一端部が開口し他端部が前記第２流体第１流路（９）に接続する第２流体第２流路（３７）を有する前記分流弁本体ブロック（１）、（Ｂ07）前記直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）を２列設け、各列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路接続面（４）が対向して配置された２列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）であって、各列の連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）どうしが接続された直列連結分流弁装置（Ｕ１，Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）。
【００３７】（第２発明の実施の形態３の作用）前記構成を備えた第２発明の実施の形態３の連結分流弁装置は、２列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各列の分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）どうしが接続されて構成される。一方の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の前記第２流体第１流管（９）と他方の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の第２流体第１流路（９）とを直接連結した状態で、前記第２流体第２流路（３７）から第２流体を、前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の各分流弁（Ｖ）の第２流体第１流路（９）に供給することができる。前記２列の各直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ，Ｕ２ｂ）の一方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ａ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）を反応ガス搬送用流路として使用し、他方の列の直列連結分流弁装置（Ｕ２ｂ）の第１流体の流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８、第１流体常時連通路５ｃ）をベントガス流路として使用することができる。その場合、前記第２流体第２流路（３７）から第２流体として反応ガスを供給するとともに、一対の分流弁（Ｖ）の一方の分流弁の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を連通位置に移動させ且つ他方の分流弁の切替バルブ（Ｖ１，Ｖ２）を遮断位置に移動させることにより、前記反応ガスを前記反応ガス搬送用流路またはベントガス流路に流すことができる。
【００３８】
【実施例】次に図面を参照しながら、本発明のガス混合装置の実施の形態の例（すなわち、実施例）を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
（実施例１）図１は本発明の実施例１の常閉の分流弁の説明図で、図１Ａは正断面図、図１Ｂは上面図で前記図１Ａの矢印ＩＢから見た図、図１Ｃは下面図で前記図１Ａの矢印ＩＣから見た図である。図２は同実施例１の常閉の分流弁の説明図で図２Ａは前記図１ＡのIIＡ−IIＡ線断面図、図２Ｂは前記図１Ａの矢印IIＢから見た図である。図３は同実施例１の常閉の分流弁の正断面拡大図で、図３Ａは閉じた状態（遮断状態）を示す図、図３Ｂは開いた状態（連通状態）を示す図である。
【００３９】図１〜図３において、分流弁Ｖは、分流弁本体ブロック１を有している。分流弁本体ブロック１は、互いに平行で且つ反対側面に形成された第１流体第１流路接続面２および第１流体第２流路接続面３と、前記両接続面２，３に垂直な第２流体第１流路接続面４と、前記三つの接続面２，３，４に垂直なバルブ装着面５とを有している。前記バルブ装着面５には突出部５ａが設けられており、突出部５ａの端面５ｂには環状凹溝により形成された第１流体常時連通路５ｃが設けられている。前記突出部５ａの円筒状外周面にはバルブ装着用オスネジ５ｄが形成されている。
【００４０】分流弁本体ブロック１には第１流体第１流路７が形成されており、第１流体第１流路７は前記第１流体第１流路接続面２に開口する接続端部７ａと、前記バルブ装着面５の第１流体常時連通路５ｃに開口するバルブ側端部７ｂとを有している。また、分流弁本体ブロック１には第１流体第２流路８が形成されており、第１流体第２流路８は前記第１流体第２流路接続面３に開口する接続端部８ａと、前記バルブ装着面５の第１流体常時連通路５ｃに開口するバルブ側端部８ｂとを有している。前記バルブ側端部７ｂおよび８ｂは前記第１流体常時連通路５ｃにより常時連通している。また、分流弁本体ブロック１には第２流体第１流路９が形成されており、第２流体第１流路９は前記第２流体第１流路接続面４（図２Ａ参照）に開口する接続端部９ａと、前記バルブ装着面５に開口するバルブ側端部９ｂとを有している。前記第２流体第１流路９の位置が前記第１流体第１流路７および第１流体第２流路８の直線上にあるが、他の位置に形成することも可能である。例えば、上方に形成した場合の方が加工が容易である。
【００４１】図３において、前記バルブ装着用オスネジ５ｄには連結用ナット１２が螺合しており、連結用ナット１２にはスライダ支持ナット１３が螺合している。前記スライダ支持ナット１３の外端部には円筒状突出部１３aが設けられており、前記円筒状突出部１３aの周側面にはキャップ装着用オスネジ１３ｂが形成されている。前記スライダ支持ナット１３の内端と前記バルブ装着面５との間には弾性を有する円板状のバルブ切替プレート（弁部材）１４の外周縁が配置されている。
【００４２】前記キャップ装着用オスネジ１３ｂには円筒状キャップ１６が螺合している。円筒状キャップ１６の外端にはエアパイプ１７が固定されている。エアパイプ１７の外端は前記円筒状キャップ１６の外端よりも外方に突出しており、内端部は円筒状キャップ１６の内部内方に延びている。前記円筒状キャップ１６の内孔１６ａおよび前記スライダ支持ナット１３の内孔にはスライダ１８がスライド可能に支持されている。前記スライダ１８の外端部には大径フランジ１８ａが設けられており、大径フランジ１８ａは前記内孔１６ａにスライド可能に嵌合している。前記スライダ１８にはパイプガイド孔１８ｂが形成されており、パイプガイド孔１８ｂは前記エアパイプ１７の内端部とスライド移動可能に嵌合している。前記スライダ１８には前記パイプラインガイド孔１８ｂと前記大径フランジ１８ａの下側の空間とを連結するエア連通孔１８cが形成されている。
【００４３】前記スライダ１８の大径フランジ１８ａの外端に形成された凹部の底面１８ｄと前記円筒状キャップ１６の外端部内面には圧縮バネ１９が配置されており、前記スライダ１８を常時内方（図３で下方、すなわち、バルブ装着面５の方向に押圧している。このスライダ１８により前記バルブ切替プレート１４は常時図３Ａの位置（前記第２流体第１流路９および第１流体常時連通路５ｃを遮断する遮断位置）に保持される。また図３Ｂにおいて、前記エアパイプ１７の外端からエアが供給されると、エアはスライダ１８のパイプラインガイド孔１８ｂから前記エア連通孔１８cを通って前記大径フランジ１８ａの下側の空間に流入し、前記大径フランジ１８ａを上方に移動させる。このとき、スライダ１８は上昇し、前記バルブ切替プレート１４はその弾性力により図３Ｂの位置（前記第２流体第１流路９および第１流体常時連通路５ｃを連通させる連通位置）に保持される。前記図３に示す符号１２〜１９で示された要素により常閉切替バルブＶ１が構成されている。
【００４４】前記第１流体第１流路接続面２に開口する第１流体第１流路７の接続端部７ａには第１流体第１流管２１（図１Ａ参照）が接続されており、第１流体第１流管２１には雄継ぎ手２２が装着されている。前記第１流体第２流路接続面３に開口する第１流体第２流路８の接続端部８ａには第１流体第２流管２３が接続されており、第１流体第２流管２３には雌継ぎ手２４が装着されている。前記第２流体第１流路接続面４に開口する第２流体第１流路９の接続端部９ａには第２流体第１流管２５（図２Ａ参照）が接続されており、第２流体第１流管２５には雄継ぎ手２６が装着されている。前記符号１〜２６で示された要素により実施例１の分流弁Ｖが構成されている。
【００４５】（実施例１の作用）前記構成を備えた実施例１では、前記分流弁Ｖの切替バルブＶ１は、前記バルブ装着面５に装着される。切替バルブＶ１の弁部材１４は、第２流体第１流路９のバルブ側端部９ｂを前記第１流体常時連通路５ｃに連通させる連通位置（図３Ｂ参照）と前記第１流体常時連通路５ｃに対して遮断する遮断位置（図３Ａ参照）との間で移動する。前記実施例１の分流弁Ｖを使用して、例えば第１流体として半導体製造装置で使用するキャリアガスを使用すると、キャリアガスは第１流体常時連通路５ｃを常時流れる。第２流体として反応ガスを使用する場合、反応ガスは第２流体第１流路９からバルブ側端部９ｂに供給される。
【００４６】前記弁部材１４が連通位置のときには反応ガスは前記バルブ側端部９ｂから第１流体常時連通路５ｃに流入する。第２流体第１流路９のバルブ側端部９ｂは前記第１流体常時連通路５ｃに面して配置されているため、前記切替バルブＶ１が遮断位置に移動したとき、キャリアガス流路（第１流体第１流路７、第１流体第２流路８および第１流体常時連通路５ｃ）に対して第２流体第１流路９が完全に遮断される。このため、キャリアガス流路に接続するデッドゾーン（反応ガスが残留する領域）が全く無くなる。したがって、デッドゾーンの残留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くなる。
【００４７】また、前記分流弁Ｖを複数用意して、互いに異なる分流弁の雄継ぎ手２２と雌継ぎ手２４とを連結することにより、連通した第１流体流路（例えば、キャリアガス流路）に複数の第２流体第１流路（例えば、複数の反応ガス流路）を接続することができる。したがって、種類の異なる反応ガスの数が増加した場合でも、連結する分流弁Ｖの数を加減することにより容易に対応することができるので、ガス混合装置の規模の小さいものから大きなものまで容易に構成することができる。また同様に、流体の分流装置として使用する場合にも、装置規模の小さいものから大きいものまで、容易に構成することができる。また従来、半導体製造装置で使用していたキャリアガスおよび反応ガスの搬送路の混合装置、分流装置等では、Ｔ字型管と遮断弁とを使用していたが、前記従来のガス搬送路の代わりに容易に設置することができる。その際、デッドゾーンの残留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くなるので、旧式の装置が高性能の装置として再生される。
【００４８】（実施例２）図４は実施例２の常閉の分流弁の正断面拡大図で、図４Ａは開いた状態（連通状態）を示す図、図４Ｂは閉じた状態（連通状態）を示す図である。なお、この実施例２の説明において、前記実施例１の構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付して、その詳細な説明を省略する。図４においてバルブ装着面５には、前記常閉の切替バルブＶ１と類似した常開の切替バルブＶ2が装着されている。前記常開の切替バルブＶ2は、前記常閉の切替バルブＶ１と同様の連結用ナット１２、スライダ支持ナット１３、バルブ切替プレート１４および円筒状キャップ１６を有している。円筒状キャップ１６の外端に固定されたエアパイプ１７′の外端は前記円筒状キャップ１６の外端よりも外方に突出しており、内端部は円筒状キャップ１６の内部に延びている。
【００４９】前記円筒状キャップ１６の内孔１６aおよび前記スライダ支持ナット１３の内孔にはスライダ１８′がスライド可能に支持されている。前記スライダ１８′の外端部には大径フランジ１８a′が設けられており、大径フランジ１８a′の下面と前記スライダ支持ナット１３の外端面との間には圧縮バネ１９′が配置されており、前記スライダ１８′を常時外方（図４で上方、すなわち、バルブ装着面５から離れる方向）に押圧している。このスライダ１８′により前記バルブ切替プレート１４は常時図４Ａの位置（前記第２流体第１流路９および第１流体常時連通路５ｃを連通させる連通位置）に保持される。また、前記エアパイプ１７′の外端からエアが供給されると、エアはスライダ１８′の凹部底面１８d′を下方に押圧して前記スライダ１８′を下方に移動させる。このとき、スライダ１８′下面により前記バルブ切替プレート１４は図４Ｂの位置（前記第２流体第１流路９および第１流体常時連通路５ｃを遮断する遮断位置）に保持される。前記図４に示す符号１２〜１６、１７′，１８′，１９′で示された要素により常開の切替バルブＶ2が構成されている。
【００５０】（実施例２の作用）前記常開の切替バルブＶ2を使用した分流弁Ｖは、エアパイプ１７′にエアが供給された場合とされない場合の状態が前記実施例１の分流弁Ｖと逆であるが、その他の点では前記実施例１の分流弁Ｖと同様の作用を奏する。
【００５１】（実施例３）図５は本発明の実施例３の連結分流弁装置の説明図である。図５において、本発明の実施例３の連結分流弁装置Ｕ１は、前記実施例１の常閉の切替えバルブＶ１（図１〜３参照）を使用した分流弁Ｖを複数使用し、前記複数の分流弁Ｖを１列に並べて、互いに隣接する各分流弁の第１流体第１流管２１および第１流体第２流管２３を各流管２１，２３に装着された雄継ぎ手２２および雌継ぎ手２４により互いに接続し、前記複数の分流弁Ｖの第１流体第１流路７、第１流体常時連通路５ｃおよび第１流体第２流路８を全て連通させている。すなわち、連結分流弁装置Ｕ１は直列連結分流弁装置である。。
【００５２】（実施例３の作用）前記構成を備えた実施例３の連結分流弁装置Ｕ１は、例えば、第１流体としてキャリアガスを使用し、第２流体として反応ガスを使用する場合、種類の異なる反応ガスの数が増加した場合でも、連結する分流弁Ｖの数を加減することにより容易に対応することができる。したがって、自由度の高いガス混合装置およびガス分流装置等を構成することができる。
【００５３】（実施例４）図６は本発明の実施例４の連結分流弁装置の説明図である。図６において、本発明の実施例４の連結分流弁装置Ｕ２は、平行に配置された一対の直列分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂを有している。直列分流弁装置Ｕ２ａは、前記常閉の切替えバルブＶ１を使用した複数の分流弁Ｖ（図３参照）を連結した直列分流弁装置であり、実施例３の直列連結分流弁装置Ｕ１と同じ構成である。第２直列分流弁装置Ｕ２ｂは、常開の切替えバルブＶ２を使用した複数の分流弁Ｖ（図４参照）を連結した直列連結分流弁装置である。
【００５４】前記２列の直列連結分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂの一方の列の直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖの第２流体第１流管２５と他方の列の直列連結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流管２５とは、Ｔ字管３１およびＴ字管３１の両端部に接続された端部接続管３２，３２により接続されている。前記各端部接続管３２，３２にはそれぞれ雌継ぎ手３３，３３が装着されており、前記雌継ぎ手３３，３３は、前記２列の直列連結分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂの各分流弁Ｖ１，Ｖ２の各第２流体第１流管２５，２５に装着された雄継ぎ手２６，２６と連結されている。各Ｔ字管３１はそれぞれ第２流体供給管（第２流体供給部材）３４に接続されている。前記符号２５，３１，３２で示された要素により端部接続部材（２５，３１，３２）が構成されており、端部接続部材（２５，３１，３２）は、前記一方の直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖの第２流体第１流路９の接続端部９ａと他方の直列連結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流路９の接続端部９ａとを接続している。
【００５５】図６において、直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖは、図３に示す常閉の切替えバルブＶ1を有し、直列連結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖは、図４に示す常開の切替えバルブＶ２を有している。前記常閉の切替えバルブＶ１を有する分流弁Ｖを流れるガスは反応室（図示せず）に接続されており、前記常開の切替えバルブＶ2はガス回収室（図示せず）に接続されている。前記Ｔ字管３１により接続された各一対の切替えバルブＶ１およびＶ２のエアパイプ１７および１７′は同一の電磁切替バルブＶa（図６には１個のみ図示）を介してエア供給源Ａに接続されている。図６のように、各エアパイプ１７，１７′にエア供給源Ａの圧縮エアが供給されていない場合には、常閉切替えバルブＶ1は図３Ａの位置（遮断位置）に保持され、常開切替えバルブＶ2は図４Ａの位置（連通位置）に保持される。また、図６において電磁バルブＶaが切り替えられると、常閉切替えバルブＶ１は図３Ｂの位置（連通位置）に保持され、常開切替えバルブＶ２は図４Ｂの位置（遮断位置）に保持される。
【００５６】（実施例４の作用）前記構成を備えた本発明の実施例４の連結分流弁装置Ｕ２は、例えば、第１流体としてキャリアガスを使用し、第２流体として反応ガスを使用する。キャリアガスは、前記直列連結分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂをそれぞれ流れ、直列連結分流弁装置Ｕ２ａを流れるキャリアガスは反応室（図示せず）に搬送され、直列連結分流弁装置Ｕ２ｂを流れるキャリアガスは回収室（図示せず）に搬送される。第２流体供給管３４およびＴ字管３１から供給される反応ガスは、前記電磁バルブＶａがオフのとき（Ｖ１が遮断、Ｖ２が連通のとき）、常開の切替えバルブＶ２を通って直列連結分流弁装置Ｕ２ｂから回収室に流れ、前記電磁バルブＶａがオンのとき（Ｖ１が連通、Ｖ２が遮断のとき）、常閉の切替えバルブＶ１を通って直列連結分流弁装置Ｕ２ａから反応室に流れる。この実施例４の連結分流弁装置Ｕ２は、反応ガスの種類が増加した場合でも、連結する分流弁Ｖの数を加減することにより容易に対応することができる。したがって、自由度の高いガス混合装置を構成することができる。
【００５７】（実施例５）図７は本発明の実施例５の常閉の分流弁の説明図で、図７Ａは正断面図、図７Ｂは上面図で前記図７Ａの矢印ＶIIＢから見た図、図７Ｃは下面図で前記図７Ａの矢印ＶIIＣから見た図である。図８は同実施例５の常閉の分流弁の説明図で図８Ａは前記図７ＡのＶIIIＡ−ＶIIIＡ線断面図、図８Ｂは前記図７Ａの矢印ＶIIIＢから見た図である。図７、図８において、本発明の実施例５の分流弁Ｖは、前記実施例１の分流弁Ｖ（図３参照）と次の点で相違しているが他の点では同一に構成されている。
【００５８】図８において、分流弁本体１の第２流体第１流路接続面４の反対側の第２流体第２流路接続面３６には、第２流体第２流路３７の一端部（接続端部）３７ａが開口しており、他端部は前記第２流体第１流路９に連通している。前記第２流体第２流路接続面３６に開口する第２流体第２流路３７の一端部（接続端部）３７ａには第２流体供給管３８が接続されている。
【００５９】（実施例５の作用）前記構成を備えた実施例５では、前記分流弁Ｖの切替バルブＶ１の弁部材１４は、前記実施例１と同様に、第２流体第１流路９のバルブ側端部９ｂを前記第１流体常時連通路５ｃに連通させる連通位置（図３Ｂ参照）と前記第１流体常時連通路５ｃに対して遮断する遮断位置（図３Ａ参照）との間で移動する。前記実施例５の分流弁Ｖを使用して、例えば第１流体として半導体製造装置で使用するキャリアガスを使用すると、キャリアガスは第１流体常時連通路５ｃを常時流れる。第２流体として反応ガスを使用する場合、反応ガスは第２流体供給管３８から第２流体第２流路３７、第２流体第１流路９に順次供給され、さらにバルブ側端部９ｂに供給される。
【００６０】前記弁部材１４が連通位置のときには第２流体第２流路３７および第２流体第１流路９を有する第２流体流路（３７，９）を流れるガス（例えば反応ガス）は、前記バルブ側端部９ｂから第１流体常時連通路５ｃに流入する。第２流体第１流路９のバルブ側端部９ｂは前記第１流体常時連通路５ｃに面して配置されているため、前記切替バルブＶ１が遮断位置に移動したとき、第１流体第１流路７、第１流体常時連通路５ｃおよび第１流体第２流路８を有する第１流体流路（５ｃ，７，８）を流れるガス（キャリアガス）に対して第２流体流路（３７，９）を流れるガス（反応ガス）は完全に遮断される。このため、第１流体流路（キャリアガス流路（５ｃ，７，８）に接続するデッドゾーン（反応ガスが残留する領域）が全く無くなる。したがって、デッドゾーンの残留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くなる。
【００６１】また、前記実施例５の分流弁Ｖを複数用意して、互いに異なる分流弁Ｖの雄継ぎ手２２と雌継ぎ手２４とを連結することにより、第１流体流路７，５ｃ，８（例えば、キャリアガス流路）に複数の第２流体流路９，３７（例えば、複数の反応ガス流路）を接続することができる。したがって、種類の異なる反応ガスの数が増加した場合でも、連結する分流弁Ｖの数を加減することにより容易に対応することができるので、ガス混合装置の規模の小さいものから大きなものまで容易に構成することができる。また同様に、流体の分流装置として使用する場合にも、装置規模の小さいものから大きいものまで、容易に構成することができる。また従来、半導体製造装置で使用していたキャリアガスおよび反応ガスの搬送路の混合装置、分流装置等では、Ｔ字型管と遮断弁とを使用していたが、前記従来のガス搬送路の代わりに容易に設置することができる。その際、デッドゾーンの残留ガスがキャリアガスに混入するようなことが無くなるので、旧式の半導体製造装置が高性能の装置として再生される。
【００６２】（実施例６）図９は本発明の実施例６の連結分流弁装置の説明図である。図１０は前記図９のＸ−Ｘ線断面図である。図９、図１０において、本発明の実施例６の連結分流弁装置Ｕ２は、前記実施例４の図６に示す連結分流弁装置Ｕ２と同様に、平行に配置された一対の直列分流弁装置Ｕ２ａおよびＵ２ｂを有している。実施例６（図９、図１０参照）の連結分流弁装置Ｕ２は次の点で前記実施例４（図６参照）の連結分流弁装置Ｕ２と相違しているが他の点では同一に構成されている。
【００６３】前記実施例４（図６参照）の直列分流弁装置Ｕ２ａの複数の各分流弁Ｖが図１、図２に示す実施例１の分流弁であったのに対し、本実施例６（図９、図１０参照）の直列分流弁装置Ｕ２ａの複数の各分流弁Ｖは、図７、図８に示す実施例５の分流弁である。また、前記実施例４（図６参照）の直列分流弁装置Ｕ２ｂの複数の各分流弁Ｖが雄継ぎ手２６を有したのに対し、本実施例６は雌継ぎ手２６′を有している。図１０において、前記直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖの第２流体第１流管２５に装着された雄継ぎ手２６と、前記直列連結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流管２５に装着された雌継ぎ手２６′とは直接連結されている。図１０から分かるように、第２流体供給管３８から供給されたガスは、前記雄継ぎ手２６および雌継ぎ手２６′により連結された各直列連結分流弁装置Ｕ２ａ，Ｕ２ｂの各分流弁Ｖの第２流体第１流路９に供給される。
【００６４】また、前記図６で説明したのと同様に、図９に示す前記直列連結分流弁装置Ｕ２ａの各分流弁Ｖは常閉切替えバルブＶ１（図３参照）を有し、前記直列連結分流弁装置Ｕ２ｂの各分流弁Ｖは常開切替えバルブＶ２（図４参照）を有している。そして、各分流弁Ｖの切替えバルブＶ１およびＶ２は前記図６のように、各エアパイプ１７，１７′にエア供給源Ａの圧縮エアが供給されるように構成されている。前記各エアパイプ１７，１７′にエア供給源Ａの圧縮エアが供給されていない場合には、常閉切替えバルブＶ１は図３Ａの位置（遮断位置）に保持され、常開切替えバルブＶ2は図４Ａの位置（連通位置）に保持される。また、図６において電磁バルブＶaが切り替えられると、常閉切替えバルブＶ１は図３Ｂの位置（連通位置）に保持され、常開切替えバルブＶ２は図４Ｂの位置（遮断位置）に保持される。
【００６５】（実施例６の作用）この実施例６の連結分流弁装置Ｕ２は、前記実施例４と同様に、反応ガスの種類が増加した場合でも、連結する分流弁Ｖの数を加減することにより容易に対応することができる。したがって、自由度の高いガス混合装置を構成することができる。また本実施例６では、各分流弁の第２流体第１流路９を直接接続するので、図６の実施例４に示すようにＴ字型管を使用する必要が無い。このため、ガス混合装置、分流装置等に使用する連結分流弁装置Ｕ２を組み立てる場合の作業性が向上する。また、構成も簡素となり、コンパクトなガス混合装置、分流装置等を提供することができる。
【００６６】（変更例）以上、本発明の実施例を詳述したが、本発明は、前記実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内で、種々の変更を行うことが可能である。本発明の変更実施例を下記に例示する。
（Ｈ01）本発明は各種のガスを混合して薄膜を形成する各種の装置に適用可能であり、例えば次の装置に適用可能である。
（a）ＣＶＤ等の各種半導体製造装置。
（b）ＬＣＤ（液晶表示パネル）製造装置。
（c）ＨＤ（ハードディスク）に代表される各種の記憶媒体の薄膜を形成する装置。
（Ｈ02）分流弁Ｖにおいて、第２流体第２流路３７の開口する第２流体第２流路接続面３６は、バルブ装着面５の反対側に設けることが可能である。
（Ｈ03）分流弁Ｖにおいて、第２流体第１流路９の開口する第２流体第１流路接続面４に設けた第２流体第１流管２５およびそれに装着された継ぎ手２６，２６′等を省略することが可能である。その場合、実施例４の図６に示す連結分流弁装置Ｕ２を構成するときは、第２流体第１流路接続面４に開口する第２流体第１流路９の接続端部９ａどうしを直接Ｔ字管３１で連結することが可能である。
【００６７】
【発明の効果】前述の本発明のガス混合装置およびガス混合ブロックは、下記の効果を奏する。
（Ｅ01）キャリアガスに複数の反応ガスを均一に混合させることができる。
（Ｅ02）残留ガスの生じるデッドゾーンを無くすことができる。
（Ｅ03）混合するガスの種類の増減に容易に対応できるようにすることができる。
（Ｅ04）高純度の混合ガスをを得ることにより、高品質の製品（薄膜等）を得ることができる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】５９９００２４９０
【氏名又は名称】株式会社オムニ研究所
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| 【出願日】 |
平成１１年９月７日（１９９９．９．７） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００９４９０５
【弁理士】
【氏名又は名称】田中 隆秀
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| 【公開番号】 |
特開２００１−７４１５１（Ｐ２００１−７４１５１Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１３年３月２３日（２００１．３．２３） |
| 【出願番号】 |
特願平１１−２５２８６１ |
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