| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２００１−３４２５４８ | 疲労特性および塗膜密着性に優れた土木・建築構造用ステンレス鋼 |
| 特開２００１−３４２５４９ | 低・中Ｃｒ系耐熱鋼 |
| 特開２００１−３４２５５０ | タングステン線 |
| 特開２００１−３４２５５１ | 溶融金属めっき鋼帯の製造装置および方法 |
| 特開２００１−３４２５５２ | 耐摩耗性に優れたＣＰＣロール |
| 特開２００１−３４２５５３ | 合金保護皮膜形成方法 |
| 特開２００１−３４２５５４ | 摺動部材の表面形成方法および摺動部材 |
| 特開２００１−３４２５５５ | スパッタリングによる成膜方法、及び該成膜方法を用いる光起電力素子の製造方法 |
| 特開２００１−３４２５５６ | アルミナ結晶質薄膜の低温製法 |
| 特開２００１−３４２５５７ | 酸化けい素質蒸着膜の製造方法 |
| 特開２００１−３４２５５８ | 薄膜形成装置およびそれを用いた薄膜形成方法 |
| 特開２００１−３４２５５９ | Ｔｅ系合金ターゲット材の製造方法 |
| 特開２００１−３４２５６０ | スパッタリングターゲット |
| 特開２００１−３４２５６１ | Ｎｉ−Ｗ系スパッタリングターゲット及びこれを用いたブラックマトリックス |
| 特開２００１−３４２５６２ | ターゲット材およびその製造方法 |
| 特開２００１−３４２５６３ | 光学薄膜の膜厚制御方法及び膜厚制御装置 |
| 特開２００１−３４２５６４ | 金属薄膜の作製方法及びその作製装置 |
| 特開２００１−３４２５６５ | 炭素被膜形成基体及び回転圧縮機 |
| 特開２００１−３４２５６６ | ＣＶＤ薄膜形成プロセス及びＣＶＤ薄膜製造装置 |
| 特開２００１−３４２５６７ | プラズマ処理装置 |
| 特開２００１−３４２５６８ | 堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 |
| 特開２００１−３４２５６９ | 堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 |
| 特開２００１−３４２５７０ | 半導体装置の製造方法および半導体製造装置 |
| 特開２００１−３４２５７１ | 堆積膜形成装置及び堆積膜形成方法 |
| 特開２００１−３４２５７２ | 誘電体薄膜の製造方法およびその製造装置 |
| 特開２００１−３４２５７３ | 無電解めっき方法及び装置 |
| 特開２００１−３４２５７４ | めっき触媒核除去方法及び配線基板の製造方法 |
| 特開２００１−３４２５７５ | 水性金属表面処理剤 |
| 特開２００１−３４２５７６ | 耐候性鋼材の製造方法 |
| 特開２００１−３４２５７７ | プレス成形性に優れたアルミニウム合金板 |
| 特開２００１−３４２５７８ | 金属表面処理剤 |
| 特開２００１−３４２５７９ | シリンダの鍍金方法および鍍金装置 |
| 特開２００１−３４２５８０ | 電子部品の放熱板用めっき付き金属板・条材及びその製造方法 |
| 特開２００１−３４２５８１ | メタリック調琺瑯製品とその製造方法 |
| 特開２００１−３４２５８２ | 簡易エッチング装置 |
| 特開２００１−３４２５８３ | 水循環系の腐食防止装置 |
| 特開２００１−３４２５８４ | ねじ部品の製造における汚れ除去方法 |
| 特開２００１−３４２５８５ | ステンレス鋼製酒容器及びその製造方法 |
| 特開２００１−３４２５８６ | 酸化亜鉛超微粒子の製造方法 |
| 特開２００１−３４２５８７ | 給電体 |
| 特開２００１−３４２５８８ | 陰極板自動搬送入替装置 |
| 特開２００１−３４２５８９ | 銅箔の製造方法及び製造装置 |
| 特開２００１−３４２５９０ | 電解銅箔の製造方法とそれに用いる装置 |
| 特開２００１−３４２５９１ | 高強度合金及びその製造方法並びにその高強度合金を被覆してなる金属とその高強度合金を用いたマイクロ構造体 |
| 特開２００１−３４２５９２ | 錫−銅合金電気めっき液 |
| 特開２００１−３４２５９３ | 接点部材及びその製造方法 |
| 特開２００１−３４２５９４ | 有機物機能素子デバイスの製造方法、及びそれにより得られる有機物機能素子デバイス |
| 特開２００１−３４２５９５ | 模様付電着画像およびその製造方法 |
| 特開２００１−３４２５９６ | 電着ホイール及びその製造方法 |
| 特開２００１−３４２５９７ | 基板めっき装置 |