| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２００１−３３５９１６ | 高分子基板用薄膜形成装置および高分子基板用薄膜形成方法 |
| 特開２００１−３３５９１７ | アルミナ結晶質薄膜の低温製法 |
| 特開２００１−３３５９１８ | ＩＴＯ透明導電膜の形成方法 |
| 特開２００１−３３５９１９ | αタンタル膜の製造方法、αタンタル膜及びそれを用いた素子 |
| 特開２００１−３３５９２０ | 蒸着源、光学物品およびそれらの製造方法 |
| 特開２００１−３３５９２１ | 蒸着被膜形成装置 |
| 特開２００１−３３５９２２ | 気相成長結晶薄膜製造装置 |
| 特開２００１−３３５９２３ | スパッタリングターゲット |
| 特開２００１−３３５９２４ | スパッタリング装置 |
| 特開２００１−３３５９２５ | ＩＴＯ薄膜の製造方法 |
| 特開２００１−３３５９２６ | ガスバリア性フィルムの製造方法 |
| 特開２００１−３３５９２７ | スパッタリング装置 |
| 特開２００１−３３５９２８ | スパッタリング装置 |
| 特開２００１−３３５９２９ | 成膜装置 |
| 特開２００１−３３５９３０ | 薄膜形成装置 |
| 特開２００１−３３５９３１ | 真空処理装置および処理方法 |
| 特開２００１−３３５９３２ | 低温プラズマによる固体表面処理制御方法 |
| 特開２００１−３３５９３３ | 金属膜作製装置及び金属膜作製方法 |
| 特開２００１−３３５９３４ | 立方晶炭化珪素単結晶薄膜におけるスリップの低減方法 |
| 特開２００１−３３５９３５ | 炭化珪素の製造方法、炭化珪素及び複合材料、並びに半導体素子 |
| 特開２００１−３３５９３６ | 処理方法および処理装置 |
| 特開２００１−３３５９３７ | 金属汚染低減方法及びプラズマ装置の再生方法 |
| 特開２００１−３３５９３８ | パーティクル低減方法 |
| 特開２００１−３３５９３９ | プラズマ生成用電極のクリーニング方法、クリーニング装置おおよび成膜装置 |
| 特開２００１−３３５９４０ | 基板処理システムにおける材料蒸着方法及び装置 |
| 特開２００１−３３５９４１ | ガス噴出装置及び真空処理装置 |
| 特開２００１−３３５９４２ | 堆積膜形成方法 |
| 特開２００１−３３５９４３ | プラズマＣＶＤ装置およびＣＶＤ用サイドアンテナコイル構造 |
| 特開２００１−３３５９４４ | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
| 特開２００１−３３５９４５ | ＣＶＤ成膜装置及びＣＶＤ成膜方法 |
| 特開２００１−３３５９４６ | ＣＶＤ成膜装置及びＣＶＤ成膜方法 |
| 特開２００１−３３５９４７ | ＣＶＤ成膜装置及びＣＶＤ成膜方法 |
| 特開２００１−３３５９４８ | プラズマＣＶＤによる堆積膜形成装置および方法 |
| 特開２００１−３３５９４９ | プラズマ式化学蒸気沈積設備の自動監視方法及び系統 |
| 特開２００１−３３５９５０ | 被覆物の形成方法及び被覆物 |
| 特開２００１−３３５９５１ | 導体の形成方法および電子部品 |
| 特開２００１−３３５９５２ | 無電解めっき方法、並びに、配線装置およびその製造方法 |
| 特開２００１−３３５９５３ | プリント基板の端子部分におけるめっき処理方法及びプリント基板 |
| 特開２００１−３３５９５４ | 金属表面処理剤、金属表面処理方法及び表面処理金属材料 |
| 特開２００１−３３５９５５ | 耐食性に優れた有機被覆鋼板 |
| 特開２００１−３３５９５６ | Ｃｒ含有鋼製油井管継ぎ手のりん酸マンガン系化成処理方法 |
| 特開２００１−３３５９５７ | ステンレス鋼の表面改質方法 |
| 特開２００１−３３５９５８ | Ｓｎ−Ｚｎ合金めっき上に六価クロムフリー耐食性皮膜を形成する方法 |
| 特開２００１−３３５９５９ | 金属超微粒子作製方法及び金属超微粒子作製装置 |
| 特開２００１−３３５９６０ | 亜鉛系めっき材の耐候性改善方法 |
| 特開２００１−３３５９６１ | 加工性に優れた樹脂フィルム表面被覆金属板 |
| 特開２００１−３３５９６２ | 電極の表面処理法 |
| 特開２００１−３３５９６３ | 耐熱性塗装金属板 |
| 特開２００１−３３５９６４ | 耐食性に優れた有機被覆鋼板 |
| 特開２００１−３３５９６５ | 耐食性に優れた有機被覆鋼板 |