| 【発明の名称】 |
光ディスクの欠陥高さ検出装置及びその保護面良否判別装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】出茂 茂
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| 【要約】 |
【課題】光ディスクの保護面に生じる欠陥の高さを検出し、光ディスクの良否を判別すること。
【解決手段】レーザ光源１より直角プリズム５，６及び８を介して光ディスク９の表面にレーザ光を照射する。その反射光をＰＳＤ１０によって受光する。光ディスク９の表面に欠陥があれば、その欠陥に応じてＰＳＤ１０の受光位置が変動する。受光位置の変動のピーク値は欠陥の高さと相関を有することから、受光位置の変化に基づいて欠陥の高さを検出している。又欠陥の高さに基づいて光ディスクの良否を判別することができる。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 光源と、光源の光を光ディスクの保護面に向けて集束して光ビームを照射する光学手段と、前記光ディスクの保護面からの反射光を受光する１次元の位置検出素子と、前記位置検出素子に入射される反射光の受光位置の変化を検出する位置検出手段と、前記光ディスクの保護面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって得られる前記位置検出手段からの出力変化のピーク値に基づいて、その欠陥の高さを検出する欠陥高さ検出手段と、光ディスクを一定速度で回転させると共に、前記光学手段からの照射位置をその半径方向に変化させることによって光ディスクの面を走査させる走査手段と、具備することを特徴とする光ディスクの欠陥高さ検出装置。
【請求項２】 光源と、光源の光を光ディスクの保護面に向けて集束して光ビームを照射する光学手段と、前記光ディスクの保護面からの反射光を受光する１次元の位置検出素子と、前記位置検出素子に入射される反射光の受光位置の変化を検出する位置検出手段と、前記光ディスクの保護面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって得られる前記位置検出手段からの出力変化のピーク値に基づいて、その欠陥の高さを検出する欠陥高さ検出手段と、光ディスクを一定速度で回転させると共に、前記光学手段からの照射位置をその半径方向に変化させることによって光ディスクの面を走査させる走査手段と、前記欠陥高さ検出手段からの出力を所定の閾値で弁別することによって光ディスクの良否を判別する欠陥高さ判別手段と、を具備することを特徴とする光ディスクの保護面良否判別装置。
【請求項３】 光源と、光源の光を光ディスクの保護面に向けて集束して光ビームを照射する光学手段と、前記光ディスクの保護面からの反射光を受光する１次元の位置検出素子と、前記位置検出素子に入射される反射光の受光位置の変化を検出する位置検出手段と、前記光ディスクの保護面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって得られる前記位置検出手段からの出力変化の最大値に基づいて、その欠陥の高さを検出する欠陥高さ検出手段と、光ディスクを一定速度で回転させると共に、前記光学手段からの照射位置をその半径方向に変化させることによって光ディスクの面を走査させる走査手段と、前記高さ検出手段からの出力を所定の閾値で弁別することによって光ディスクの良否を判別する欠陥高さ判別手段と、前記光ディスクの表面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって前記位置検出手段の出力が変化する時間幅に基づいて欠陥の幅を検出する欠陥幅検出手段と、前記欠陥幅検出手段の出力を所定のレベルで弁別することによって光ディスクの良否を判別する欠陥幅判別手段と、を具備することを特徴とする光ディスクの保護面良否判別装置。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はミニディスク等の光ディスクの表面に塗布される保護膜の欠陥を検出するための欠陥高さ検出装置及び保護面良否判別装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年光ディスクとして、オーディオ用，ビデオ用及びデータ用の種々の光ディスクが用いられている。光ディスクにはポリカーボネイト等の基板上に誘電体膜，磁性膜，アルミニウム等の反射膜等が形成されており、更に同一面では反射膜を保護するための潤滑保護膜が設けられるものがある。潤滑保護膜は光ディスクの中心部にアクリル酸エステル系組成物質などの紫外線硬化樹脂を環状に塗布し、光ディスクを高速度で回転させることによって遠心力で光ディスクのほぼ全周に均一に分散させ、紫外線を照射することによって均一な保護膜を形成するようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】光ディスクの保護膜の表面は平坦であることが要求されるが、データの消去時等で保護膜にヘッドが近接するため、ヘッドとの干渉を防止するために保護膜の表面から所定値以上、例えば１０μｍ以上の高さの突起欠陥が生じないようにすることが求められている。しかしながら保護膜の形成時に保護膜の内部に微小な泡が混入したり、その泡が遠心力によって崩壊してその直後に紫外線が放射され、硬化されたときに微小な突起欠陥（以下、単に欠陥という）を生じることがあった。従って欠陥が所定の高さ以内かどうかをあらかじめ検査しておく必要がある。しかし従来このような保護膜の欠陥は目視検査によってチェックしており、自動的に検出する装置は用いられていなかった。
【０００４】本発明はこのような従来の問題点に着目してなされたものであって、保護膜上の欠陥の高さを検出すると共に、光ディスクの良否を自動的に検出することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本願の請求項１の発明は、光源と、光源の光を光ディスクの保護面に向けて集束して光ビームを照射する光学手段と、前記光ディスクの保護面からの反射光を受光する１次元の位置検出素子と、前記位置検出素子に入射される反射光の受光位置の変化を検出する位置検出手段と、前記光ディスクの保護面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって得られる前記位置検出手段からの出力変化のピーク値に基づいて、その欠陥の高さを検出する欠陥高さ検出手段と、光ディスクを一定速度で回転させると共に、前記光学手段からの照射位置をその半径方向に変化させることによって光ディスクの面を走査させる走査手段と、具備することを特徴とするものである。
【０００６】本願の請求項２の発明は、光源と、光源の光を光ディスクの保護面に向けて集束して光ビームを照射する光学手段と、前記光ディスクの保護面からの反射光を受光する１次元の位置検出素子と、前記位置検出素子に入射される反射光の受光位置の変化を検出する位置検出手段と、前記光ディスクの保護面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって得られる前記位置検出手段からの出力変化のピーク値に基づいて、その欠陥の高さを検出する欠陥高さ検出手段と、光ディスクを一定速度で回転させると共に、前記光学手段からの照射位置をその半径方向に変化させることによって光ディスクの面を走査させる走査手段と、前記欠陥高さ検出手段からの出力を所定の閾値で弁別することによって光ディスクの良否を判別する欠陥高さ判別手段と、を具備することを特徴とするものである。
【０００７】本願の請求項３の発明は、光源と、光源の光を光ディスクの保護面に向けて集束して光ビームを照射する光学手段と、前記光ディスクの保護面からの反射光を受光する１次元の位置検出素子と、前記位置検出素子に入射される反射光の受光位置の変化を検出する位置検出手段と、前記光ディスクの保護面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって得られる前記位置検出手段からの出力変化の最大値に基づいて、その欠陥の高さを検出する欠陥高さ検出手段と、光ディスクを一定速度で回転させると共に、前記光学手段からの照射位置をその半径方向に変化させることによって光ディスクの面を走査させる走査手段と、前記高さ検出手段からの出力を所定の閾値で弁別することによって光ディスクの良否を判別する欠陥高さ判別手段と、前記光ディスクの表面の欠陥毎に、夫々の欠陥部分への光ビームの入射によって前記位置検出手段の出力が変化する時間幅に基づいて欠陥の幅を検出する欠陥幅検出手段と、前記欠陥幅検出手段の出力を所定のレベルで弁別することによって光ディスクの良否を判別する欠陥幅判別手段と、を具備することを特徴とするものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施の形態による光ディスクの保護面の良否判別装置の構成を示す図である。本図においてレーザ光源１はＡＰＣ回路２によって安定化された強度のレーザ光を発生するレーザ光源であり、このレーザ光を偏光ビームスプリッタ３を介して特定方向の偏光成分のみをλ／４波長板４に入射させる。λ／４波長板４は直線偏光を円偏光に変化させるものであり、λ／４波長板４を通過した光は直角プリズム５及び６を介してレンズ７に入射する。レンズ７はレーザ光を光ディスクの位置で集束するための集束レンズである。レンズ７を通過したレーザ光は、直角プリズム８を介して光ディスク９の保護膜面に光ビームとして照射される。直角プリズム８は光ディスク９の表面の直角方向からわずかに傾けて、例えば法線から５°傾けた角度で光を照射し、光ディスク９の表面に例えば短軸１００μｍ、長軸約２５０μｍの楕円形のスポットの光を照射するようにしている。そしてその反射光を１次元の位置検出素子、ここではＰＳＤ（ポジションセンシティブディバイス）１０によって受光する。ＰＳＤ１０は受光した光の重心に応じた電流信号をその両端より出力するものである。ここで偏光ビームスプリッタ３、λ／４波長板４、直角プリズム５，６，８及びレンズ７は、レーザ光を集束して光ディスクに照射する光学手段を構成している。
【０００９】次に光ディスクを回転駆動する駆動部について説明する。光ディスク９はベース１１上に保持されており、回転制御部１２によって一定の速度、例えば３０００ｒｐｍで回転するように構成されている。又光ディスク９はスライド駆動部１３によって回転制御部１２と共にその半径方向に一定の速度で移動される。ここで前述したように光ビームの半径方向の幅を１００μｍとすると、移動速度を１回転毎に１００μｍ移動させる速度とすることによって、光ディスク９の記録面の全面を走査することができる。
【００１０】図２はＰＳＤからの信号を処理する信号処理回路を示すブロック図である。ＰＳＤ１０の出力端には、図２に示すように夫々Ｉ／Ｖ変換器２１，２２が接続され、電流が電圧に変換される。Ｉ／Ｖ変換器２１，２２の夫々の出力はその和及び差を演算する加算器２３及び減算器２４に入力される。加算器２３及び減算器２４の出力は割算器２５に与えられる。割算器２５は減算出力を加算出力で割算するものであり、その出力はハイパスフィルタ（ＨＰＦ）２６に入力される。光ディスク９を回転させると、その反りや面ぶれ等の機械的な傾きに基づく信号の変化は光ディスク９の回転速度に対応する周波数成分を有するため、ハイパスフィルタ２６は、これを除くために用いられている。例えば３０００ｒｐｍの回転速度の場合には、５０Ｈｚの成分が光ディスク９の反りや面ぶれに応じて得られるため、ハイパスフィルタ２６はこれより高い周波数のみを増幅器２７に与える。増幅器２７の出力はＡ／Ｄ変換器２８を介してデジタル値としてマイクロコンピュータ２９に入力される。ここでＩ／Ｖ変換器２１，２２、加算器２３、減算器２４、割算器２５及びハイパスフィルタ２６、増幅器２７、Ａ／Ｄ変換器２８は、位置検出素子に入射される反射光の受光位置の変化を検出する位置検出手段を構成している。
【００１１】又増幅器２７の出力はコンパレータ３０，３１にも入力される。コンパレータ３０，３１にはマイクロコンピュータ２９よりＤ／Ａ変換器３２を介して後述するように夫々正及び負に一定の閾値Ｔｈ１，Ｔｈ２が設定されている。コンパレータ３０，３１は夫々閾値Ｔｈ１，Ｔｈ２と増幅器２７の出力とを比較するものであり、コンパレータ３０は正の閾値Ｔｈ１を越えている場合、コンパレータ３１は負方向の閾値Ｔｈ２以下の場合に、夫々Ｈレベルの出力をオア回路３３に与える。オア回路３３はいずれか一方がＨレベルのときに保護膜の所定の高さ以上の欠陥が検出されたものとする。又オア回路３３の出力はフリップフロップ３４に入力される。フリップフロップ３４は正及び負の連続するパルスを欠陥に応じた幅の信号に整形するものであり、その出力はゲート回路３５に与えられ、マイクロコンピュータ２９にトリガ信号として与えられる。クロック発生器３６は光ビームの照射位置に応じた周波数のクロック信号を発生しており、ゲート信号が所定レベルの間にクロックをカウンタ３７に入力する。カウンタ３７はこのクロックを計数することによって、欠陥の幅を検出するものである。カウンタ３７によって計数された欠陥幅のデータはマイクロコンピュータ２９に入力される。
【００１２】又マイクロコンピュータ２９には図３に示すように、閾値や動作モードを設定する操作部３８、光ディスクの半径方向への走査を制御するスライド制御部３９及び欠陥の有無や個数等を表示する表示部４０が設けられる。スライド制御部３９は前述したスライド駆動部１３を介して光ディスク９をその半径方向に一定の速度で駆動するものであり、その半径の位置信号がクロック発生器３６に与えられる。クロック発生器３６はその半径に対応したクロック周波数を発生するものであり、例えば電圧制御発振器によって構成されている。ここで回転制御部１２，スライド駆動部１３及びスライド制御部３９は光ディスク９を一定速度で回転させると共に、半径方向に一定速度で移動させ照射位置を変化させる走査手段を構成している。
【００１３】マイクロコンピュータ２９は図３に示すように欠陥高さ検出手段２９ａ、検出された高さを判別する欠陥高さ判別手段２９ｂ、及びカウンタ３７からの計数値に基づいて欠陥の幅を判別する欠陥幅判別手段２９ｃの機能を有している。欠陥高さ検出手段２９ａはＡ／Ｄ変換器２８からの欠陥毎の高さの最大値に基づいて欠陥の高さを検出するものであり、又欠陥高さ判別手段２９ｂは検出された欠陥の高さを所定の閾値で弁別し、その欠陥の個数や高さに基づいて光ディスクの良否を判別するものである。又欠陥幅判別手段２９ｃはカウンタ３７から得られる計数値に基づいて欠陥の幅の個数を分級し、その数値より光ディスクの良否を判別するものである。
【００１４】次に本実施の形態の動作についてタイムチャート及びフローチャートを参照しつつ説明する。光ディスク９の保護面が平坦であれば、レーザ光源１からのレーザ光は直角プリズム５，６及び８で反射されて光ディスク９の表面に入射し、その反射光がそのまま１次元のＰＳＤ１０に入射する。このときＰＳＤ１０の入射位置は保護面が平坦である限り一定の位置であり、このとき加算器２３及び減算器２４の出力及び割算器２５の出力も一定となる。しかし図４に示すように保護面に欠陥となる平たい山形の突起がある場合には、この山形の位置で光の屈折角が変化し、ＰＳＤ１０への入射位置も変動する。通常このような欠陥によりＰＳＤ１０の入射位置が変動する。図５（ａ）〜（ｄ）は図２のａ〜ｄの各部の波形を示すタイムチャートである。そして欠陥があれば図５（ａ）に示すように割算器２５からの出力が変動する。このような変動は欠陥の形状に対応した時間幅を有しているため、光ディスクの回転速度に比べて十分高い周波数を持つ。従ってハイパスフィルタ２６を通過して直流成分及び回転に伴う変動成分が除かれ、欠陥による交流成分のみとなる。そしてこの信号はコンパレータ３０，３１に設定される閾値Ｔｈ１，Ｔｈ２を越えるものとすると、図５（ａ）に示すように閾値Ｔｈ１を越えたときコンパレータ３０よりＨレベルの出力、閾値Ｔｈ２以下のときにコンパレータ３１よりＨレベルの出力が得られ、オア回路３３より図５（ｂ）に示す出力が得られる。オア回路３３の出力はフリップフロップ３４に入力され、図５（ｃ）に示す信号が得られる。そしてトリガ信号としてマイクロコンピュータ２９に入力される。Ａ／Ｄ変換器２８は一定のクロックのタイミングで入力されたＡ／Ｄ信号を常にＡ／Ｄ変換し、マイクロコンピュータ２９に出力しているが、マイクロコンピュータ２９ではこのフリップフロップ３４からのトリガ信号の立上りの時点以後にＡ／Ｄ変換器２８からの出力を取込み、その正及び負のピーク値を算出する。従ってマイクロコンピュータ２９によってこのとき得られる表面欠陥のピーク値が保持される。このピーク値は正及び負の絶対値のより高いピーク値として検出される。
【００１５】さてこのピーク値と表面欠陥の高さとの関係について、図４を用いて説明する。光ビームは光ディスク９の欠陥部分に入射すると、図４に示すように屈折する。ここで空気の屈折率をｎ1 、保護膜５１の屈折率をｎ2 とし、欠陥の幅をｄ、欠陥の高さをＨ、ＰＳＤ１０により検出される反射光の移動距離をＸ、ＰＳＤ１０と光ディスク９との距離をＬとすると、欠陥の高さＨは次式で示される。
【数１】
この式より明らかなように、欠陥の高さＨは欠陥の幅ｄ及び移動距離Ｘに比例することとなる。
【００１６】図６は表面欠陥の高さを直接検出することができる触針式による欠陥の高さＨを横軸とし、これに対する欠陥の幅ｄ、反射光の移動距離Ｘの積ｄ・Ｘを縦軸として多数の欠陥のデータを示したグラフである。このように２０μｍ以下の欠陥高さでは、式（１）に示される通り、触針式による欠陥高さＨと乗算値ｄＸとの測定値とがほぼ対応しており、乗算値ｄＸに基づいて欠陥の高さＨを検出することができる。
【００１７】更に図７は触針式による欠陥の高さＨに対する割算器２５からの電圧出力を示すグラフである。本図より割算器２５からの出力Ｘのみについても高さＨと相関が高く、割算出力のみに基づいて欠陥の高さを検出することができることが示されている。これは実際に発生する欠陥はほぼ相似であることに基づくものと考えられる。このように割算出力が欠陥の高さＨと高い相関関係を有することから、本実施の形態では割算出力のピーク値に一定の係数を乗じてそのまま欠陥の高さＨとして算出するようにしている。
【００１８】次に図８はマイクロコンピュータ２９の概略の動作を示すフローチャートである。マイクロコンピュータ２９はステップＳ１においてフリップフロップ３４からのトリガ信号を待受けており、トリガ信号が得られる毎にステップＳ２においてＡ／Ｄ変換のピーク値を算出する。そしてステップＳ３においてピーク値に基づいて高さＨi を検出する。そしてステップＳ４において欠陥の高さを判別する。例えば欠陥の高さＨi を８μｍ，５μｍ，３μｍ，１μｍで区分して、次のように４種類に分級する。
■Ｈi が８μｍ以上のとき、Ｂｈ←Ｂｈ＋１■Ｈi が８〜５μｍのとき、Ｌｈ←Ｌｈ＋１■Ｈi が５〜３μｍのとき、Ｍｈ←Ｍｈ＋１■Ｈi が３〜１μｍのとき、Ｓｈ←Ｓｈ＋１Ｂｈ，Ｌｈ，Ｍｈ，Ｓｈは夫々の範囲の高さの欠陥個数を示している。尚最小値１μｍはコンパレータ３０，３１に設定される閾値Ｔｈ１，Ｔｈ２に対応しており、１μｍを越える高さの信号のみからトリガ信号が得られるように閾値が設定されている。
【００１９】こうして欠陥の高さを分級した後、ステップＳ５に進んでカウンタ３７の欠陥幅のデータｄi を取込む。そして欠陥幅のデータをステップＳ６において分級する。例えば欠陥の幅ｄi を５００μｍ，３００μｍ，２００μｍで区分して、次のように４種類に分級する。
■ｄi が５００μｍｍ以上のとき、Ｂｄ←Ｂｄ＋１■ｄi が５００〜３００μｍのとき、Ｌｄ←Ｌｄ＋１■ｄi が３００〜２００μｍのとき、Ｍｄ←Ｍｄ＋１■ｄi が２００μｍ以下のとき、Ｓｄ←Ｓｄ＋１Ｂｄ，Ｌｄ，Ｍｄ，Ｓｄは夫々の範囲の幅の欠陥個数を示している。
【００２０】そしてステップＳ７に進んで１枚の光ディスクについての検査が終了したかどうかを確認する。この検査が終了していなければステップＳ１に戻って同様の処理を繰り返し、トリガ信号があった場合に欠陥の高さ及び欠陥幅を上述のように分級して夫々の個数を検出する。ここで図５に示すように光ディスク９の内側から外側へ走査が進むと同一幅の欠陥であってもその幅は短くなる。従ってこの実施の形態ではクロック発生器３６は光ディスクの半径方向への走査に応じたクロックとしている。このようにクロック自体の周期を短くすることにより走査速度に無関係に欠陥幅データを検出することができる。
【００２１】そして１枚の光ディスクの検査が終了すると、ステップＳ８に進んで良否判別処理を行う。良否判別処理では、まず１枚の光ディスクについて分級された欠陥の高さの個数により要否を判別する。この要否判定はＢｈ，Ｌｈ，Ｍｈ，Ｓｈについて夫々判定基準値となる個数を決めておき、以下のようにして算出する。
Ｂｈ：ＮＧ≧Ｂｈ判定基準値＞ＯＫＬｈ：ＮＧ≧Ｌｈ判定基準値＞ＯＫＭｈ：ＮＧ≧Ｍｈ判定基準値＞ＯＫＳｈ：ＮＧ≧Ｓｈ判定基準値＞ＯＫ例えばＢｈ判定基準値を１とすると、８μｍを越える欠陥が１つでもあれば不良品と判断することができる。又Ｌｈの基準値を１０、Ｍｈの基準値を５０、Ｓｈの基準値を１００等と設定しておくことにより、高さが低い欠陥であってもその個数が多ければ不良品と判断することができる。
【００２２】又欠陥幅判別についても同様にして１枚の光ディスクについて分級された幅の個数により良否を判別する。この良否判定はＢｄ，Ｌｄ，Ｍｄ，Ｓｄについて夫々判定基準値となる個数を決めておき、以下のようにして算出する。
Ｂｄ：ＮＧ≧Ｂｄ判定基準値＞ＯＫＬｄ：ＮＧ≧Ｌｄ判定基準値＞ＯＫＭｄ：ＮＧ≧Ｍｄ判定基準値＞ＯＫＳｄ：ＮＧ≧Ｓｄ判定基準値＞ＯＫ【００２３】ここで用いた分級の閾値や判定の基準値については、操作部３７から任意に設定できるものとする。こうすれば光ディスクの種類に応じて最適な閾値を設定し、光ディスクの良否を判別することができる。
【００２４】尚本実施の形態では欠陥の高さと欠陥の幅とを同時に検出し、その双方に基づいて光ディスクの良否を判別するようにしているが、欠陥の高さのみに基づいて欠陥の良否を判別するようにしてもよい。この場合にはゲート回路３５からカウンタ３７までのブロックは不要となる。
【００２５】尚本実施の形態では高さを検出するために位置検出素子からの加算値と減算値について割算処理をしているが、いずれか一方の出力と加算値とを割算して位置信号を得るようにしてもよい。又本実施の形態では位置検出素子として１次元のＰＳＤを用いているが、ＰＳＤに限らず、例えば１次元のＣＣＤ等の種々の位置検出素子を用いることができる。
【００２６】本実施の形態では、増幅器２７からの出力を２つの閾値Ｔｈ１，Ｔｈ２で判別するようにしているが、欠陥の幅を検出しない場合には閾値Ｔｈ１のみで正方向のピーク値を検出して欠陥の高さを検出することもできる。
【００２７】更に本実施の形態では光ディスクを一定速度で回転させると共に、光ディスクを半径方向に移動させるようにしているが、光学系全体を半径方向に移動させて光ディスクの面を走査するようにしてもよい。
【００２８】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本願の請求項１の発明によれば、光ディスクの保護面についての欠陥の高さを容易に検出することができる。又請求項２の発明では、検出された欠陥の高さに基づいて光ディスクの良否を判別することができる。更に請求項３の発明では、検出された欠陥の高さと幅とに基づいて光ディスクの良否を判別することができる。このため書込処理等でヘッドが保護面に近接する場合にも、あらかじめ欠陥検査により所定の高さ以上の欠陥を持つ光ディスクを排除しておくことによって、誤動作を生じることなく光ディスクを使用することが可能となる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００２３０６８５
【氏名又は名称】日本カノマックス株式会社
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| 【出願日】 |
平成１０年７月２日（１９９８．７．２） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００８４３６４
【弁理士】
【氏名又は名称】岡本 宜喜 （外１名）
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| 【公開番号】 |
特開２０００−１８９３３（Ｐ２０００−１８９３３Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１２年１月２１日（２０００．１．２１） |
| 【出願番号】 |
特願平１０−１８７８５８ |
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