| 【発明の名称】 |
基板処理装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】大谷 正美
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| 【要約】 |
【課題】冷却流体の使用量を低減する。
【解決手段】基板処理装置１Ａには冷却水が供給される処理ユニット２が複数備えられている。冷却水供給源に連通接続された供給元管１０から個別供給管１１が分岐されて、各個別供給管１１を介して各処理ユニット２に冷却水を個別に供給するように配管されている。各個別供給管１１ごとに、処理ユニット２の上流側に流量調節弁２０を設け、処理ユニット２の下流側に温度センサ２１を設けている。各処理ユニット２にはそれぞれ、個別コントローラー２２が備えられ、各個別コントローラー２２が、温度センサ２１で検知されている処理ユニット２から排出される冷却水の温度を基に、流量調節弁２０の弁の開度を調節制御して、処理ユニット２への冷却水の供給流量を変更するように構成している。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 冷却流体が供給される処理ユニットを備えた基板処理装置において、前記処理ユニットに供給する冷却流体の流量を変更する供給流量変更手段と、前記供給流量変更手段による前記処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置において、前記処理ユニットから排出される冷却流体の温度を検知する温度検知手段をさらに備え、前記制御手段は、前記温度検知手段で検知される冷却流体の温度を基に、前記供給流量変更手段による前記処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】 請求項２に記載の基板処理装置において、前記制御手段は、前記温度検知手段で検知される冷却流体の温度が、予め決められた基準温度を維持するように、または、予め決められた基準温度範囲内に納まるように前記供給流量変更手段による前記処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御することを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置において、装置には前記処理ユニットが複数備えられ、複数の処理ユニットにわたって冷却流体が順次供給された後排出されるような冷却流体の供給経路を有することを特徴とする基板処理装置。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光ディスク用の基板などの基板に所定の処理を施す処理ユニットが備えられた基板処理装置に係り、特には、冷却水や冷却気体などの冷却流体が供給される冷却処理ユニットなどの処理ユニットが備えられた基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、フォトリソグラフィ工程のフォトレジスト塗布処理や現像処理、加熱処理、冷却処理などの一連の処理を行う基板処理装置には、フォトレジスト塗布処理ユニットや現像処理ユニット、加熱処理ユニット、冷却処理ユニットなどの処理ユニットがそれぞれ複数備えられている。
【０００３】例えば、冷却処理ユニットは、加熱処理ユニットで加熱された基板を熱プレート（冷却プレート）に支持して、常温付近の所定の冷却目標温度に基板を冷却する。そのため、冷却処理ユニットには冷却水などの冷却流体が供給され、その冷却流体を冷却プレート内に流して、加熱された基板から冷却プレートに吸収された熱を冷却流体とともに処理ユニット外に排出するように構成されている。
【０００４】上記冷却処理ユニットなどのように冷却流体が供給される処理ユニットが備えられた基板処理装置において、各処理ユニットへの冷却流体（例えば、冷却水）の供給は、従来、以下のように行われている。これを図８を参照して説明する。
【０００５】すなわち、所定温度に温調された冷却水を供給する図示しない冷却水供給源に連通接続された供給元管１０から、装置１００に備えられた各処理ユニット２に冷却水を個別に供給する個別供給管１１が分岐されて、各個別供給管１１を介して各処理ユニット２に冷却水を供給するように配管されている。そして、処理ユニット２で基板に処理を行う際に必要となる最大供給流量で各処理ユニット２に冷却水を常時供給している。なお、各個別供給管１１を介して各処理ユニット２に供給された後、各処理ユニット２から排出された冷却水は回収されて、再利用されたり廃棄される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。すなわち、従来装置１００では、各処理ユニット２に冷却水を最大供給流量で常時供給しているが、各処理ユニット２では、常時、基板の処理を行っているわけではないので、あるタイミングで一部の処理ユニット２に対しては、不要な冷却水を最大供給流量で供給していることになる。ここで、従来装置１００の配管の構造上、供給元管１０に供給する冷却水の供給流量を小さく設定すると、全ての処理ユニット２に供給される冷却水の供給流量が小さくなり、あるタイミングで基板に処理を行っている一部の処理ユニット２への冷却水の供給流量が必要流量に満たなくなり、基板の処理に支障を来すことになる。そのため、従来装置１００は、各処理ユニット２の通常の使用状況などからみて、所定温度に温調された冷却水を実際の必要量の３倍程度確保し、供給元管１０に供給しなければ、装置１００を稼働させることができないという問題があった。
【０００７】また、処理ユニット２に冷却水を供給する場合に限らず、冷却気体を処理ユニット２に供給するような場合にも、従来は、同様の問題が起きていた。
【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、冷却流体の使用量を低減することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、請求項１に記載の発明は、冷却流体が供給される処理ユニットを備えた基板処理装置において、前記処理ユニットに供給する冷却流体の流量を変更する供給流量変更手段と、前記供給流量変更手段による前記処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御する制御手段と、を備えたことを特徴とするものである。
【００１０】請求項２に記載の発明は、上記請求項１に記載の基板処理装置において、前記処理ユニットから排出される冷却流体の温度を検知する温度検知手段をさらに備え、前記制御手段は、前記温度検知手段で検知される冷却流体の温度を基に、前記供給流量変更手段による前記処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御することを特徴とするものである。
【００１１】請求項３に記載の発明は、上記請求項２に記載の基板処理装置において、前記制御手段は、前記温度検知手段で検知される冷却流体の温度が、予め決められた基準温度を維持するように、または、予め決められた基準温度範囲内に納まるように前記供給流量変更手段による前記処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御することを特徴とするものである。
【００１２】請求項４に記載の発明は、上記請求項１ないし３のいずれかに記載の基板処理装置において、装置には前記処理ユニットが複数備えられ、複数の処理ユニットにわたって冷却流体が順次供給された後排出されるような冷却流体の供給経路を有することを特徴とするものである。
【００１３】
【作用】請求項１に記載の発明によれば、制御手段は、処理ユニットに必要な流量で冷却流体が供給されるように、供給流量変更手段による処理ユニットへの冷却流体の供給流量を変更するように制御する。
【００１４】請求項２に記載の発明によれば、制御手段は、処理ユニットから排出される冷却流体の温度を検知する温度検知手段で検知される冷却流体の温度を基に、供給流量変更手段による処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御する。
【００１５】処理ユニットで基板に処理を行っているか否かなどの処理ユニットの使用状況などによって処理ユニットから排出される冷却流体の温度が変動するので、処理ユニットから排出される冷却流体の温度によって、処理ユニットに必要な冷却流体の供給流量を知ることができる。従って、制御手段は、以下のように温度検知手段で検知される冷却流体の温度を基に、処理ユニットに必要な流量で冷却流体が供給されるように供給流量変更手段を制御すればよい。
【００１６】すなわち、処理ユニットで基板の処理が開始されるなどして、処理ユニットへの冷却流体の供給流量が不足した状態になると、処理ユニットから排出される冷却流体の温度が昇温するので、その場合には、処理ユニットへの冷却流体の供給流量を増加させる方向に変更する。一方、処理ユニットでの基板の処理が終了するなどして、処理ユニットに余分な冷却流体が供給されている状態になると、処理ユニットから排出される冷却流体の温度が降温するので、その場合には、処理ユニットへの冷却流体の供給流量を減少させる方向に変更する。
【００１７】請求項３に記載の発明によれば、制御手段は、温度検知手段で検知される冷却流体の温度が、予め決められた基準温度を維持するように、または、予め決められた基準温度範囲内に納まるように供給流量変更手段による処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御する。
【００１８】すなわち、処理ユニットから排出される冷却流体の温度が基準温度を越えたり、基準温度範囲の上限値を越えたりすると、処理ユニットへの冷却流体の供給流量を増加させる方向に序々に変更して、処理ユニットへの冷却流体の供給流量の不足を補って、処理ユニットから排出される冷却流体の温度を基準温度に戻し、または、基準温度範囲内に収める。一方、処理ユニットから排出される冷却流体の温度が基準温度を下回ったり、基準温度範囲の下限値を下回ったりすると、処理ユニットへの冷却流体の供給流量を減少させる方向に徐々に変更して、処理ユニットに供給されている余分な冷却流体を抑制して、処理ユニットから排出される冷却流体の温度を基準温度に戻し、または、基準温度範囲内に収める。
【００１９】請求項４に記載の発明によれば、装置に搭載された複数の処理ユニットのうちの少なくとも一部の処理ユニットに対する冷却流体の供給経路を、ある処理ユニットに供給された後排出された冷却流体が別の処理ユニットに供給されるように、複数の処理ユニットにわたって冷却流体が順次供給された後排出される供給経路とする。
【００２０】上記のような供給経路とした場合には、供給流量変更手段は最初に冷却流体が供給される処理ユニットの上流側に設けて、複数の処理ユニットに順次供給する冷却流体の供給流量を一括して変更し、また、温度検知手段を設ける場合には、最後に冷却流体が供給される処理ユニットの下流側に設けて、複数の処理ユニットの全てを通過した後に最後の処理ユニットから排出された冷却流体の温度を検知する。
【００２１】また、上記のような供給経路で冷却流体を供給する構成例としては、装置に備えられた全ての処理ユニットにわたって冷却流体が順次供給された後排出されるようにしてもよいし、装置に備えられた処理ユニットの一部の処理ユニットだけに対して、冷却流体が順次供給された後排出されるようにしてもよい。また、装置に備えられた全ての処理ユニット、または、一部の処理ユニットを複数のグループに分け、各グループごとに、各グループに各々属する複数の処理ユニットに対して上記のような供給経路で冷却流体を供給するようにして、上記のような供給経路で冷却流体を供給する供給流路を装置内に複数設けてもよい。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図１は本発明の第１実施例に係る基板処理装置の要部構成を示す図である。
【００２３】この第１実施例に係る基板処理装置１Ａには、冷却処理ユニットのように冷却流体（例えば、冷却水）が供給される処理ユニット２が複数備えられている。各処理ユニット２への冷却水の供給経路は、従来と同様に、所定温度に温調された冷却水を供給する図示しない冷却水供給源に連通接続された供給元管１０から、装置１Ａに備えられた各処理ユニット２に冷却水を個別に供給する個別供給管１１が分岐されて、各個別供給管１１を介して各処理ユニット２に冷却水を供給するように配管されている。
【００２４】この第１実施例装置１Ａでは、各個別供給管１１ごとに、処理ユニット２の上流側に供給流量変更手段に相当する流量調節弁２０を設けて処理ユニット２に供給する冷却水の流量を変更可能に構成するとともに、処理ユニット２の下流側に温度検知手段に相当する温度センサ２１を設けて処理ユニット２から排出される冷却水の温度を検知できるように構成している。
【００２５】また、各処理ユニット２にはそれぞれ、制御手段に相当する個別コントローラー２２を設けている。そして、各処理ユニット２ごとに、個別コントローラー２２が、温度センサ２１で検知されている処理ユニット２から排出される冷却水の温度を基に、流量調節弁２０の弁の開度を調節制御して、処理ユニット２への冷却水の供給流量を変更するように構成している。
【００２６】ここで、１つの処理ユニット２に着目して個別コントローラー２２の制御を説明する。
【００２７】処理ユニット２で基板に処理を行っているか否かなどの処理ユニット２の使用状況などによって処理ユニット２から排出される冷却水の温度が変動するので、処理ユニット２から排出される冷却水の温度によって、処理ユニット２に必要な冷却水の供給流量を知ることができる。従って、個別コントローラー２２は、以下のように温度センサ２１で検知される冷却水の温度を基に、その処理ユニット２に必要な流量で冷却水が供給されるように流量調節弁２０を制御すればよい。
【００２８】すなわち、処理ユニット２で基板の処理が開始されるなどして、処理ユニット２への冷却水の供給流量が不足した状態になると、処理ユニット２から排出される冷却水の温度が昇温するので、その場合には、処理ユニット２への冷却水の供給流量を増加させる方向に変更する。一方、処理ユニット２での基板の処理が終了するなどして、処理ユニット２に余分な冷却水が供給されている状態になると、処理ユニット２から排出される冷却水の温度が降温するので、その場合には、処理ユニット２への冷却水の供給流量を減少させる方向に変更する。
【００２９】上述のような制御の具体的な方式としては、例えば、温度センサ２１で検知される冷却水の温度が、予め決められて個別コントローラー２２に設定されている基準温度（冷却水の場合は３０℃程度）を維持するように、または、予め決められて個別コントローラー２２に設定されている基準温度範囲（前記基準温度を含む適宜の温度範囲）内に納まるように流量調節弁２０を制御する方式が考えられる。
【００３０】すなわち、処理ユニット２から排出される冷却水の温度が基準温度を越えたり、基準温度範囲の上限値を越えたりすると、処理ユニット２への冷却水の供給流量を増加させる方向に徐々に変更して、処理ユニット２への冷却水の供給流量の不足を補って、処理ユニット２から排出される冷却水の温度を基準温度に戻し、または、基準温度範囲内に収める。一方、処理ユニット２から排出される冷却水の温度が基準温度を下回ったり、基準温度範囲の下限値を下回ったりすると、処理ユニット２への冷却水の供給流量を減少させる方向に徐々に変更して、処理ユニット２に供給されている余分な冷却水を抑制して、処理ユニット２から排出される冷却水の温度を基準温度に戻し、または、基準温度範囲内に収める。
【００３１】その他、以下のような制御であってもよい。例えば、処理ユニット２への冷却水の最小供給流量を予め決めておくとともに、上記基準温度を上限値とした温度範囲を予め決めておき、処理ユニット２から排出される冷却水の温度がその温度範囲の上限値（上記基準温度）を越えると、処理ユニット２への冷却水の供給流量を増加させる方向に序々に変更して、処理ユニット２への冷却水の供給流量の不足を補い、処理ユニット２から排出される冷却水の温度をその温度範囲の上限値（上記基準温度）に戻す。一方、処理ユニット２から排出される冷却水の温度がその温度範囲の下限値を下回ると、処理ユニット２への冷却水の供給流量をいっきに最小供給流量に変更し、以後、処理ユニット２から排出される冷却水の温度がその温度範囲の上限値（上記基準温度）を越えるまで、処理ユニット２への冷却水の供給流量を最小供給流量に維持する。
【００３２】また、処理ユニット２への冷却水の最小供給流量を予め決めておくとともに、上記基準温度を中心とした温度範囲を予め決めておき、処理ユニット２から排出される冷却水の温度がその温度範囲の上限値を越えると、処理ユニット２への冷却水の供給流量をいっきに最大供給流量（処理ユニット２で基板に処理を行う際に必要となる供給流量）に変更し、以後、処理ユニット２から排出される冷却水の温度がその温度範囲の下限値を下回るまで、処理ユニット２への冷却水の供給流量を最大供給流量に維持する。一方、処理ユニット２から排出される冷却水の温度がその温度範囲の下限値を下回ると、処理ユニット２への冷却水の供給流量をいっきに最小供給流量に変更し、以後、処理ユニット２から排出される冷却水の温度がその温度範囲の上限値を越えるまで、処理ユニット２への冷却水の供給流量を最小供給流量に維持する。なお、このように制御する場合には、流量調節弁２０は、最大供給流量と最小供給流量の２段階の供給流量で切替え可能なもので構成することができる。
【００３３】以上のように構成することで、各処理ユニット２では、必要な時、必要な流量で冷却水が供給されるように、各処理ユニット２への冷却水の供給流量を自動的に変更することができる。従って、各処理ユニット２に不要な冷却水を供給しなくても、装置を稼働させることができるので、冷却水の無駄な使用を抑制することができて、冷却水の使用量を低減することができる。
【００３４】また、例えば、個別供給管１１が配設される近傍の装置１Ａ内の機器の発熱など、処理ユニット２において基板の処理中か否か以外の要件で処理ユニット２に供給する冷却水の流量を変更する必要が生じることも考えられるが、このような場合でも、処理ユニット２から排出される冷却水の温度を基に、処理ユニット２への冷却水の供給流量を変更制御することで、必要な時、必要な流量で冷却水を各処理ユニット２に供給することができる。
【００３５】また、上述したように、温度センサ２１で検知される冷却水の温度が、予め決められた基準温度を維持するように、または、予め決められた基準温度範囲内に納まるように流量調節弁２０を制御すると、処理ユニット２での冷却水の過不足に応じて冷却水の供給流量を変更でき、必要な時、必要な流量で冷却水を各処理ユニット２に供給させる冷却水の供給制御を正確に行うことができる。
【００３６】次に、本発明の第２実施例装置の構成を図２を参照して説明する。図２は本発明の第２実施例に係る基板処理装置の要部構成を示す図である。なお、第１実施例と共通する部分は、図１と同一符号を付す。
【００３７】この第２実施例に係る基板処理装置１Ｂでは、ある処理ユニット２（２Ａ）に供給された後排出された冷却水が別の処理ユニット２（２Ｂ）に供給されるように、複数（図２では２つ）の処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）にわたって共通供給管１２を配管し、供給元管１０からの冷却水を、これら処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）にわたって順次供給された後排出される供給経路で流すように構成している。
【００３８】また、流量調節弁２０は最初に冷却水が供給される処理ユニット２（２Ａ）の上流側に設けて、これら処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）に順次供給する冷却水の供給流量を一括して変更し、温度センサ２１は最後に冷却水が供給される処理ユニット２（２Ｂ）の下流側に設けて、これら処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）の全てを通過した後に最後の処理ユニット２（２Ｂ）から排出された冷却水の温度を検知するように構成している。
【００３９】そして、個別コントローラー２２は、上記第１実施例と同様の制御、すなわち、温度センサ２１で検知されている処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）の全てを通過した後に最後の処理ユニット２（２Ｂ）から排出される冷却水の温度を基に、流量調節弁２０の弁の開度を調節制御して、これら処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）への冷却水の供給流量の変更を制御することにより、共通供給管１２で冷却水が供給される複数の処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）への冷却水の供給流量の変更制御を行う。
【００４０】これにより、この第２実施例でも、各処理ユニット２（２Ａ、２Ｂ）に、必要な時、必要な流量で冷却水が供給されるように、各処理ユニット２への冷却水の供給流量を自動的に変更することができる。
【００４１】さらに、この第２実施例では、以下の効果も得られる。例えば、処理ユニット２で基板に処理を行っていないときには、その処理ユニット２に冷却水が最小供給流量（ｎl/min とする）で供給されていればよいものとし、処理ユニット２で基板に処理を行っているときには、その処理ユニット２に冷却水が最大供給流量（Ｎl/min とする）で供給されていればよいものとする。
【００４２】この場合、第１実施例（図１）の構成と第２実施例（図２）の構成とを比較すると、２つの処理ユニット２で、ともに基板に処理を行っていないときには、第１実施例の構成では、各処理ユニット２（各個別供給管１１）にそれぞれ冷却水を最小供給流量（ｎl/min ）で供給しなければならないので、装置１Ａ全体としては、単位時間当たり（ｎ×２）l の冷却水が必要になる。一方で、第２実施例の構成では、共通供給管１２に冷却水を最小供給流量（ｎl/min ）で供給すれば、２つの処理ユニット２にそれぞれ冷却水を最小供給流量（ｎl/min ）で供給することができるので、装置１Ｂ全体としては、単位時間当たり（ｎ）l の冷却水を使用するだけになる。
【００４３】また、２つの処理ユニット２のうちの一方の処理ユニット２だけで基板に処理を行っているときには、第１実施例の構成では、各処理ユニット２（各個別供給管１１）にそれぞれ冷却水を最大供給流量（Ｎl/min ）と最小供給流量（ｎl/min ）で供給しなければならないので、装置１Ａ全体としては、単位時間当たり（Ｎ＋ｎ）l の冷却水が必要になる。一方で、第２実施例の構成では、共通供給管１２に冷却水を最大供給流量（Ｎl/min ）で供給すれば、２つの処理ユニット２にそれぞれ冷却水を必要流量で供給することができるので、装置１Ｂ全体としては、単位時間当たり（Ｎ）l の冷却水を使用するだけになる。
【００４４】このように、この第２実施例によれば、１つの供給経路（共通供給管１２）で供給される冷却水により複数の処理ユニット２に供給すべき冷却水を賄うことができ、また、複数の処理ユニット２で必要になる冷却水の使用量が均されるので、個々の処理ユニット２に冷却水を個別に供給する第１実施例の構成よりも冷却水の使用量をさらに低減することもできる。
【００４５】また、この第２実施例によれば、装置１Ｂ内の配管を整理することができるので、冷却水の供給配管が煩雑になることを防止することもできる。
【００４６】次に、この第２実施例のような供給経路で冷却水を供給する構成例を、６つの処理ユニット２が装置１Ｂに備えられた場合を例に採り図３ないし図５を参照して説明する。
【００４７】まず、図３（ａ）に示すように、装置１Ｂに搭載された全ての処理ユニット２にわたって冷却水が順次供給された後排出されるようにしてもよいし、図３（ｂ）に示すように、装置１Ｂに搭載された処理ユニット２の一部の処理ユニット２（図３（ｂ）では５つの処理ユニット２であるが、２つ以上の処理ユニット２でもよい）だけに対して、冷却水が順次供給された後排出されるようにしてもよい。
【００４８】また、図４に示すように、装置１Ｂに備えられた全ての処理ユニット２を複数のグループ（図４（ａ）ではＧ１、Ｇ２、Ｇ３、図４（ｂ）ではＧ４、Ｇ５、図４（ｃ）ではＧ６、Ｇ７）に分け、各グループごとに、各グループに各々属する複数の処理ユニット２に対して共通供給管１２による上記のような供給経路で冷却水を供給するようにして、共通供給管１２で冷却水を供給する供給流路を装置１Ｂ内に複数設けてもよい。
【００４９】また同様に、図５に示すように、装置１Ｂに備えられた一部の処理ユニット２を複数のグループ（図５（ａ）ではＧ８、Ｇ９、図５（ｂ）ではＧ１０、Ｇ１１）に分け、各グループごとに、各グループに各々属する複数の処理ユニット２に対して共通供給管１２による上記のような供給経路で冷却水を供給するようにして、共通供給管１２で冷却水を供給する供給流路を装置１Ｂ内に複数設けてもよい。
【００５０】装置１Ｂに備えられている各処理ユニット２ごとの使用頻度や処理内容（冷却水の必要流量）などに応じて、最適な組み合わせで、１つの共通供給管１２で冷却水を供給する処理ユニット２を決めればよい。
【００５１】なお、供給流量変更手段としては、開閉弁などで構成し、この開閉弁の開閉の切替え制御により、処理ユニット２（個別供給管１１や共通供給管１２）への冷却水の供給流量を変更制御してもよい。
【００５２】また、上記各実施例では、処理ユニット２から排出される冷却水の温度を基に、流量調節弁２０を制御する場合について説明したが、処理ユニット２から排出される冷却水の温度以外の条件で、流量調節弁２０による処理ユニット２への冷却水の供給流量の変更を制御するように構成してもよい。例えば、図６に示すように、装置１Ａ、１Ｂ全体を制御するメインコントローラー３０から、例えば、各処理ユニット２に対する基板Ｗの搬入／搬出のタイミングの指令を受け、これに基づいて、基板の処理中は最大供給流量で冷却水を供給し、一方、基板の非処理中は最小供給流量で冷却水を供給し、あるいは、冷却水の供給を停止するように制御してもよい。
【００５３】また、図７に示すように、処理ユニット２から排出される冷却水の温度とメインコントローラー３０からの指令とを加味して流量調節弁２０による処理ユニット２への冷却水の供給流量の変更を制御するように構成してもよい。この場合には、例えば、上記と同様にメインコントローラー３０からの指令により処理ユニット２における基板の処理中か否かによる処理ユニット２への冷却水の供給流量の変更を制御し、処理ユニット２から排出される冷却水の温度により、処理ユニット２における基板の処理中か否か以外の要件により冷却水の供給流量の変更の必要か生じたときの冷却水の供給流量の変更を制御する。
【００５４】また、上記実施例や変形例では、装置１Ａ、１Ｂに複数の処理ユニット２が備えられた場合を例に採ったが、装置１Ａ、１Ｂに１つの処理ユニット２だけが備えられた場合にも本発明は同様に適用することができる。この場合には、第１実施例や図６（ａ）、図７（ａ）に示すような構成とすればよい。
【００５５】また、本発明は、処理ユニット２に冷却水が供給される場合に限らず、冷却気体を供給する場合にも同様に適用することができる。なお、処理ユニット２に冷却気体を供給する場合であって、処理ユニット２から排出される冷却気体の温度を検知し、その冷却気体の温度が、予め決められた基準温度を維持するように、または、予め決められた基準温度範囲内に納まるように流量調節弁２０を制御するときには、基準温度や基準温度範囲を冷却気体に応じた温度や温度範囲に設定して制御すればよい。
【００５６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、冷却流体が供給される処理ユニットを搭載した基板処理装置において、処理ユニットに供給する冷却流体の流量を変更する供給流量変更手段と、供給流量変更手段による処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御する制御手段とを備えたので、処理ユニットに必要な供給流量で冷却流体が供給されるように処理ユニットへの冷却流体の供給流量を自動的に変更することができる。従って、処理ユニットに不要な冷却流体を供給しなくても、装置を稼働させることができるので、冷却流体の無駄な使用を抑制することができて、冷却流体の使用量を低減することができる。
【００５７】請求項２に記載の発明によれば、処理ユニットから排出される冷却流体の温度を検知し、その冷却流体の温度を基に、供給流量変更手段による処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御するように構成したので、処理ユニットの使用状況などに応じて、必要な時、必要な流量で冷却流体が処理ユニットに供給されるように、処理ユニットへの冷却流体の供給流量を自動的に変更することができる。
【００５８】請求項３に記載の発明によれば、請求項２に記載の基板処理装置において、温度検知手段で検知される冷却流体の温度が、予め決められた基準温度に維持されるように、または、予め決められた基準温度範囲内に納まるように供給流量変更手段による処理ユニットへの冷却流体の供給流量の変更を制御するので、必要な時、必要な流量で冷却流体を処理ユニットに供給させる冷却流体の供給制御を正確に行うことができる。
【００５９】請求項４に記載の発明によれば、複数の処理ユニットにわたって冷却流体が順次供給された後排出されるような冷却流体の供給経路を有するので、冷却流体の供給経路が煩雑になることを防止することができる。また、１つの供給経路で供給される冷却流体により複数の処理ユニットに供給すべき冷却流体を賄うことができ、また、複数の処理ユニットで必要になる冷却流体の使用量が均されるので、個々の処理ユニットに冷却流体を個別に供給するよりも冷却流体の使用量をさらに低減することもできる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００２０７５５１
【氏名又は名称】大日本スクリーン製造株式会社
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| 【出願日】 |
平成１１年２月２５日（１９９９．２．２５） |
| 【代理人】 |
【識別番号】１０００９３０５６
【弁理士】
【氏名又は名称】杉谷 勉
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| 【公開番号】 |
特開２０００−２４９４４０（Ｐ２０００−２４９４４０Ａ） |
| 【公開日】 |
平成１２年９月１４日（２０００．９．１４） |
| 【出願番号】 |
特願平１１−４８２５２ |
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