トップ :: C 化学 冶金 :: C23 金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパツタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

【発明の名称】
溶融めっき装置のシンクロール
熱延下地溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法
炭化物サーメット溶射材料, その被覆部材およびその部材の製造方法
連続浸炭炉での浸炭方法
真空浸炭方法及び装置
摺動部材
摺動部材
固体潤滑性を有する複合耐磨耗性硬質皮膜、並びに皮膜付き物品
金属蒸着フィルム及び金属蒸着多層フィルム
トランスを用いてトリガ放電を発生させる蒸着装置
誘電体保護層の製造方法とその製造装置、並びにそれを用いたプラズマディスプレイパネルと画像表示装置
低抵抗膜用ITOターゲット
誘電体スパッタリングターゲット材およびその製造方法
高純度SrxBiyTa2O5+x+3y/2スパッタリングターゲット材
スパッタリング用ターゲットとその輸送方法
スパッタリング装置および薄膜形成方法
スパッタリングにおける膜厚予測方法
薄膜の堆積方法および薄膜
マグネトロン原理によるスパッタリングカソ―ド
イオン発生装置
電極基板の製造装置および製造方法
金属を付着する方法
成膜装置およびそのクリーニング方法
CVD容器のクリーニング方法
加熱部材
プラズマCVD成膜装置
ガラスの表面改質方法
多面溶着加工法
熱可塑性樹脂被覆鋼板およびその製造方法
複合水素吸蔵体
溶融金属めっき鋼板の製造装置
溶融亜鉛めっき設備におけるボトムドロス除去方法
デルタアルミナ被覆鋼およびその製造方法
ターボチャージャのロータ支持構造
転がり軸受およびその製造方法
硬質炭素膜被覆部材
金属蒸着フィルム及びそれを用いたコンデンサ
同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置
補助アノード電極を有する同軸型真空アーク蒸着源
同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置
配線長可変の蒸着装置
フィルム製造装置
光ファイバー等の繊維の端部を保持するホルダー
基板ホルダ
薄膜付基材の製造方法および製造装置
高圧ガスプロセス装置
微小パターンの作製方法及び作製装置
基板処理装置
薄膜形成方法
放電発生用アンテナ
12345678910  次10へ 最終へ