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【発明の名称】 ホスフィンオキシドを用いる、クロスカップリング化合物の改良された製造方法
【発明者】 【氏名】栗林 健

【氏名】佐藤 進

【要約】 【課題】著しい収率の改善がもたらされる、パラジウム触媒存在下の、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応。

【解決手段】パラジウム触媒存在下、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応において、ホスフィンオキシドR3 P=O(R:アルキル、アリール)を使用する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】パラジウム触媒存在下、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応において、更に、一般式 R3 P=Oを有するホスフィンオキシド(式中、Rは、低級アルキル基又はアリール基を示す。)を加えることを特徴とする、クロスカップリング化合物の製造方法。
【請求項2】パラジウム触媒存在下、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応において、更に、一般式 R3 P=Oを有するホスフィンオキシド(式中、Rは、低級アルキル基又はアリール基を示す。)を使用する方法。
【発明の詳細な説明】【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、パラジウム触媒存在下において、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応において、更に、ホスフィンオキシドを用いることにより、著しい収率の改善がもたらされた、新規なクロスカップリング化合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】数ある炭素- 炭素生成反応の中でも、パラジウムを触媒としたクロスカップリング反応は、反応条件が温和で多くの官能基に対して許容性があること並びに位置及び立体選択性が高いこと等より、従来より繁用されている合成法である。
【0003】特に、有機スズ化合物と各種有機親電子剤との反応はStille反応として知られ、また、有機スズ化合物は有機金属種の中でも、多くの官能基と共存可能であり、酸素や湿気に安定で分解されにくいため、他の有機金属種に比べ格段に取り扱いが容易であり、更に、多様な有機スズ化合物が提供されているため、膨大な数の報告例がある(総説:John K. Stille, Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 25, 508, 1986; Terence N. Mitchell, Synthesis, 803, 1992 )。
【0004】しかしながら、更に、この反応に、ホスフィンオキシドを用いることは知られていない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、パラジウム触媒存在下における、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、更に、ホスフィンオキシドを用いることにより、著しい収率の改善がもたらされることを見出し、本発明を完成した。
【0006】更に、本発明の他の目的は、パラジウム触媒存在下における、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応において、更に、ホスフィンオキシドを使用する方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の新規なクロスカップリング化合物の製造方法は、パラジウム触媒存在下、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応において、更に、一般式 R3 P=Oを有するホスフィンオキシド(式中、Rは、低級アルキル基又はアリール基を示す。)を加えることを特徴とし、本発明の新規な方法は、パラジウム触媒存在下、有機スズ化合物と有機親電子剤とを用いたクロスカップリング反応において、更に、一般式 R3 P=Oを有するホスフィンオキシド(式中、Rは、低級アルキル基又はアリール基を示す。)を使用する方法である。
【0008】ここで、パラジウム触媒とは、パラジウムを含有する触媒を示し、そうであれば特に限定はなく、例えば、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス[ 1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン] パラジウム(0)、ビス[o−フェニレンビス(ジエチルホスフィノ)エタン(ジフェニルホスフィノ)パラジウム(0)、ビス(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(0)、パラジウム炭素、パラジウム黒、酢酸パラジウム(II)、アセト酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、シアン化パラジウム(II)、トリフルオロ酢酸パラジウム(II)、[ 1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン] ジクロロパラジウム(II)、ビス(アセトニトリル)ジクロロパラジウム(II)、ビス(アセテート)ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ビス(ベンゾニトリル)ジクロロパラジウム(II)、[ 1,1' −ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン] ジクロロパラジウム(II)、(2,2' −ビピリジン)ジクロロパラジウム(II)、(ビシクロ[ 2,2,1] ヘプタ−2,5−ジエン)ジクロロパラジウム(II)、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)ジクロロパラジウム(II)のようなパラジウム触媒を挙げることができ、好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス[ 1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン] パラジウム(0)、ビス[o−フェニレンビス(ジエチルホスフィノ)エタン(ジフェニルホスフィノ)パラジウム(0)、ビス(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(0)、酢酸パラジウム(II)、アセト酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、トリフルオロ酢酸パラジウム(II)、[ 1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン] ジクロロパラジウム(II)、ビス(アセトニトリル)ジクロロパラジウム(II)、ビス(アセテート)ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)及びジクロロビス(トリフェニルホスフィン)ジクロロパラジウム(II)であり、更に好適には、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス[ 1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン] パラジウム(0)、[ 1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン] ジクロロパラジウム(II)及びジクロロビス(トリフェニルホスフィン)ジクロロパラジウム(II)である。
【0009】有機スズ化合物とは、スズ原子に結合する4つの置換基の少なくとも1つが、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基又はアルキニル基である化合物を示す。かかるアリール基とは、Rの定義におけるアリール基と同様の基を示し、ヘテロアリール基とは、硫黄原子、酸素原子又は/及び窒素原子を1乃至3個含む5乃至7員複素芳香環基を示し、例えばフリル、チエニル、ピロリル、アゼピニル、ピラゾリル、イミダゾリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、1,2,3−オキサジアゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピラニル ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニルのような基を挙げることができる。
【0010】尚、上記「5乃至7員複素芳香環基」は、他の環式基と縮環していてもよく、例えば、イソベンゾフラニル、クロメニル、キサンテニル、フェノキサチイニル、インドリジニル、イソインドリル、インドリル、インダゾリル、プリニル、キノリジニル、イソキノリル、キノリル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、カルバゾリル、カルボリニル、アクリジニル、イソインドリニルのような基を挙げることができる。
【0011】アラルキル基とは、上記「アリール基」が下記「低級アルキル基」に結合した基をいい、例えば、ベンジル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、インデニルメチル、フェナンスレニルメチル、アントラセニルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチルのような転位活性の高い基を挙げることができる。
【0012】アルキニル基とは、例えば、エチニル、2−プロピニル、1−メチル−2−プロピニル、2−メチル−2−プロピニル、2−エチル−2−プロピニル、2−ブチニル、1−メチル−2−ブチニル、2−メチル−2−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、3−ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチニル、1−エチル−3−ブチニル、2−ペンチニル、1−メチル−2−ペンチニル、2−メチル−2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、2−メチル−3−ペンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−4−ペンチニル、2−メチル−4−ペンチニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニルのような炭素数2乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキニル基を挙げることができ、好適には、炭素数2乃至4個の直鎖又は分枝鎖アルキニル基である。
【0013】有機親電子剤とは、アリールハロゲン化物、ヘテロアリールハロゲン化物、アラルキルハロゲン化物若しくはアルキニルハロゲン化物又はその等価体、或いは酸ハロゲン化物を示し、アリールハロゲン化物とは、上記「アリール基」と、弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子のようなハロゲン原子(好適には、臭素原子及び沃素原子である。)とが結合した基を示す。
【0014】ヘテロアリールハロゲン化物とは、上記「ヘテロアリール基」と、前記「ハロゲン原子」とが結合した基を示す。
【0015】アラルキルハロゲン化物とは、前記「アラルキル基」と、前記「ハロゲン原子」とが結合した基を示す。
【0016】アルキニルハロゲン化物とは、前記「アルキニル基」と、前記「ハロゲン原子」とが結合した基を示す。
【0017】その等価体とは、上記ハロゲン原子が、他の脱離基である誘導体を示し、斯かる脱離基とは、通常、求核残基として脱離する基であれば特に限定はないが、好適には、アセチルオキシのようなアルキルカルボニルオキシ基;メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシのような低級アルコキシカルボニルオキシ基;クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシのようなハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基;メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、p−ニトロベンゼンスルホニルオキシのようなアリ−ルスルホニルオキシ基を挙げることができ、更に好適には、低級アルカンスルホニルオキシ基又はハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基であり、最も好適には、ハロゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基である。
【0018】酸ハロゲン化物とは、カルボン酸のハロゲン化物をいい、このような具体例としては、例えば、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ブチリルブロミド、バレリルクロリド、ヘキサノイルクロリドのような脂肪族アシルハライド;メトキシカルボニルクロリド、メトキシカルボニルブロミド、エトキシカルボニルクロリド、プロポキシカルボニルクロリド、ブトキシカルボニルクロリド、ヘキシルオキシカルボニルクロリドのような低級アルコキシカルボニルハライド若しくはベンゾイルクロリド、ベンゾイルブロミド、ナフトイルクロリドのようなアリールカルボニルハライドのようなアシルハライド類を挙げることができる。
【0019】Rの定義における低級アルキル基とは、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、1−エチルプロピル、n−ヘキシル、イソヘキシル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチル、3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、2−エチルブチルのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、好適には炭素数1乃至4個の直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
【0020】Rの定義におけるアリール基とは、例えば、フェニル、インデニル、ナフチル、フェナンスレニル、アントラセニルのような炭素数5乃至14個の芳香族炭化水素基を挙げることができ、好適にはフェニル基である。
【0021】尚、上記「アリール基」は、炭素数3乃至10個のシクロアルキル基と縮環していてもよく、例えば、2−インダニルのような基を挙げることができる。
【0022】また、該基は、アリ−ル基の環上に、1乃至4個の置換基を有していてもよく、斯かる置換基としては、「アリール基」;アミノ基;後記「置換されたアミノ基」;ニトロ基;シアノ基;前記「低級アルキル」、後記「ハロゲノ低級アルキル」若しくは後記「アラルキル」で置換されて、エステル型となっていてもよいカルボン酸残基;カルバモイル基;メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、n−プロピルカルバモイル、イソプロピルカルバモイル、n−ブチルカルバモイル、イソブチルカルバモイル、s−ブチルカルバモイル、tert−ブチルカルバモイル、n−ペンチルカルバモイル、イソペンチルカルバモイル、2−メチルブチルカルバモイル、ネオペンチルカルバモイル、n−ヘキシルカルバモイル、4−メチルペンチルカルバモイル、3−メチルペンチルカルバモイル、2−メチルペンチルカルバモイル、3,3−ジメチルブチルカルバモイル、2,2−ジメチルブチルカルバモイル、1,1−ジメチルブチルカルバモイル、1,2−ジメチルブチルカルバモイル、1,3−ジメチルブチルカルバモイル、2,3−ジメチルブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジ−n−プロピルカルバモイル、ジイソプロピルカルバモイル、ジ−n−ブチルカルバモイル、ジイソブチルカルバモイル、ジ−s−ブチルカルバモイル、ジ−tert−ブチルカルバモイルのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖アルキル基が置換した低級アルキル置換カルバモイル基(好適には炭素数1乃至4個のアルキル基が置換したカルバモイル基、更に好適には、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイルである。);弗素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子のようなハロゲン原子;前記「低級アルキル基」;後記「低級アルコキシ基」;トリフルオロメチル、トリクロロメチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、ジブロモメチル、フルオロメチル、2,2,2−トリクロロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−ブロモエチル、2−クロロエチル、2−フルオロエチル、2,2−ジブロモエチルのようなハロゲノ低級アルキル基;ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、パルミトイル、ステアロイルのようなアルキルカルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシアルキルカルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボニル基等の脂肪族アシル基;及びメチレンジオキシ、エチレンジオキシ、プロピレンジオキシのような炭素数1乃至4個のアルキレンジオキシ基を挙げることができ、好適には、低級アルキル基及びハロゲン原子である。
【0023】基としては、好適には、フェニル、ナフチルのようなアリ−ル基;2−フルオロフェニル、3−フルオロフェニル、4−フルオロフェニル、2−クロロフェニル、3−クロロフェニル、4−クロロフェニル、2−ブロモフェニル、3−ブロモフェニル、4−ブロモフェニル、3,5−ジフルオロフェニル、2,5−ジフルオロフェニル、2,6−ジフルオロフェニル、2,4−ジフルオロフェニル、3,5−ジブロモフェニル、2,5−ジブロモフェニル、2,6−ジクロロフェニル、2,4−ジクロロフェニル、2,3,6−トリフルオロフェニル、2,3,4−トリフルオロフェニル、3,4,5−トリフルオロフェニル、2,5,6−トリフルオロフェニル、2,4,6−トリフルオロフェニル、2,3,6−トリブロモフェニル、2,3,4−トリブロモフェニル、3,4,5−トリブロモフェニル、2,5,6−トリクロロフェニル、2,4,6−トリクロロフェニル、1−フルオロ−2−ナフチル、2−フルオロ−1−ナフチル、3−フルオロ−1−ナフチル、1−クロロ−2−ナフチル、2−クロロ−1−ナフチル、3−ブロモ−1−ナフチル、3,8−ジフルオロ−1−ナフチル、2,3−ジフルオロ−1−ナフチル、4,8−ジフルオロ−1−ナフチル、5,6−ジフルオロ−1−ナフチル、3,8−ジクロロ−1−ナフチル、2,3−ジクロロ−1−ナフチル、4,8−ジブロモ−1−ナフチル、5,6−ジブロモ−1−ナフチル、2,3,6−トリフルオロ−1−ナフチル、2,3,4−トリフルオロ−1−ナフチル、3,4,5−トリフルオロ−1−ナフチル、4,5,6−トリフルオロ−1−ナフチル、2,4,8−トリフルオロ−1−ナフチルのようなハロゲン原子で置換されたアリール基;2−トリフルオロメチルフェニル、3−トリフルオロメチルフェニル、4−トリフルオロメチルフェニル、2−トリクロロメチルフェニル、3−ジクロロメチルフェニル、4−トリクロロメチルフェニル、2−トリブロモメチルフェニル、3−ジブロモメチルフェニル、4−ジブロモメチルフェニル、3,5−ビストリフルオロメチルフェニル、2,5−ビストリフルオロメチルフェニル、2,6−ビストリフルオロメチルフェニル、2,4−ビストリフルオロメチルフェニル、3,5−ビストリブロモメチルフェニル、2,5−ビスジブロモメチルフェニル、2,6−ビスジクロロメチルメチルフェニル、2,4−ビスジクロロメチルフェニル、2,3,6−トリストリフルオロメチルフェニル、2,3,4−トリストリフルオロメチルフェニル、3,4,5−トリストリフルオロメチルフェニル、2,5,6−トリストリフルオロメチルフェニル、2,4,6−トリストリフルオロメチルフェニル、2,3,6−トリストリブロモメチルフェニル、2,3,4−トリスジブロモメチルフェニル、3,4,5−トリストリブロモメチルフェニル、2,5,6−トリスジクロロメチルメチルフェニル、2,4,6−トリスジクロロメチルフェニル、1−トリフルオロメチル−2−ナフチル、2−トリフルオロメチル−1−ナフチル、3−トリフルオロメチル−1−ナフチル、1−トリクロロメチル−2−ナフチル、2−ジクロロメチル−1−ナフチル、3−トリブロモメチル−1−ナフチル、3,8−ビストリフルオロメチル−1−ナフチル、2,3−ビストリフルオロメチル−1−ナフチル、4,8−ビストリフルオロメチル−1−ナフチル、5,6−ビストリフルオロメチル−1−ナフチル、3,8−ビストリクロロメチル−1−ナフチル、2,3−ビスジクロロメチル−1−ナフチル、4,8−ビスジブロモメチル−1−ナフチル、5,6−ビストリブロモメチル−1−ナフチル、2,3,6−トリストリフルオロメチル−1−ナフチル、2,3,4−トリストリフルオロメチル−1−ナフチル、3,4,5−トリストリフルオロメチル−1−ナフチル、4,5,6−トリストリフルオロメチル−1−ナフチル、2,4,8−トリストリフルオロメチル−1−ナフチルのようなハロゲン化低級アルキル基で置換されたアリール基;2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、2−エチルフェニル、3−プロピルフェニル、4−エチルフェニル、2−ブチルフェニル、3−ペンチルフェニル、4−ペンチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、3,5−ジブチルフェニル、2,5−ジペンチルフェニル、2,6−ジプロピルメチルフェニル、2,4−ジプロピルフェニル、2,3,6−トリメチルフェニル、2,3,4−トリメチルフェニル、3,4,5−トリメチルフェニル、2,5,6−トリメチルフェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,3,6−トリブチルフェニル、2,3,4−トリペンチルフェニル、3,4,5−トリブチルフェニル、2,5,6−トリプロピルメチルフェニル、2,4,6−トリプロピルフェニル、1−メチル−2−ナフチル、2−メチル−1−ナフチル、3−メチル−1−ナフチル、1−エチル−2−ナフチル、2−プロピル−1−ナフチル、3−ブチル−1−ナフチル、3,8−ジメチル−1−ナフチル、2,3−ジメチル−1−ナフチル、4,8−ジメチル−1−ナフチル、5,6−ジメチル−1−ナフチル、3,8−ジエチル−1−ナフチル、2,3−ジプロピル−1−ナフチル、4,8−ジペンチル−1−ナフチル、5,6−ジブチル−1−ナフチル、2,3,6−トリメチル−1−ナフチル、2,3,4−トリメチル−1−ナフチル、3,4,5−トリメチル−1−ナフチル、4,5,6−トリメチル−1−ナフチル、2,4,8−トリメチル−1−ナフチルのような低級アルキル基で置換されたアリール基;2−ビニルフェニル、3−ビニルフェニル、4−ビニルフェニル、2−ブテニルフェニル、3−ペンテニルフェニル、4−ペンテニルフェニル、3,5−ジビニルフェニル、2,5−ジビニルフェニル、2,6−ジプロペニルメチルフェニル、2,4−ジプロペニルフェニル、2,3,6−トリビニルフェニル、2,3,4−トリペンテニルフェニル、3,4,5−トリブテニルフェニル、2,5,6−トリプロペニルフェニル、2,4,6−トリプロペニルフェニル、1−ビニル−2−ナフチル、2−プロペニル−1−ナフチル、3−ビニル−1−ナフチル、3,8−ジビニル−1−ナフチル、2,3−ジプロペニル−1−ナフチル、4,8−ジペンテニル−1−ナフチル、5,6−ジブテニル−1−ナフチルのような低級アルケニル基で置換されたアリール基;2−エチニルフェニル、3−プロピニルフェニル、4−エチニルフェニル、2−ブチニルフェニル、3−ペンチニルフェニル、4−ペンチニルフェニル、3,5−ジブチニルフェニル、2,5−ジペンチニルフェニル、2,6−ジプロピニルメチルフェニル、2,4−ジプロピニルフェニルのような低級アルキニル基で置換されたアリール基;2−メトキシフェニル、3−メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−エトキシフェニル、3−プロポキシフェニル、4−エトキシフェニル、2−ブトキシフェニル、3−ペントキシフェニル、4−ペントキシフェニル、3,5−ジメトキシフェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4−ジメトキシフェニル、3,5−ジブトキシフェニル、2,5−ジペントキシフェニル、2,6−ジプロポキシメトキシフェニル、2,4−ジプロポキシフェニル、2,3,6−トリメトキシフェニル、2,3,4−トリメトキシフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、2,5,6−トリメトキシフェニル、2,4,6−トリメトキシフェニル、2,3,6−トリブトキシフェニル、2,3,4−トリペントキシフェニル、3,4,5−トリブトキシフェニル、2,5,6−トリプロポキシフェニル、2,4,6−トリプロポキシフェニル、1−メトキシ−2−ナフチル、2−メトキシ−1−ナフチル、3−メトキシ−1−ナフチル、1−エトキシ−2−ナフチル、2−プロポキシ−1−ナフチル、3−ブトキシ−1−ナフチル、3,8−ジメトキシ−1−ナフチル、2,3−ジメトキシ−1−ナフチル、4,8−ジメトキシ−1−ナフチル、5,6−ジメトキシ−1−ナフチル、3,8−ジエトキシ−1−ナフチル、2,3−ジプロポキシ−1−ナフチル、4,8−ジペントキシ−1−ナフチル、5,6−ジブトキシ−1−ナフチル、2,3,6−トリメトキシ−1−ナフチル、2,3,4−トリメトキシ−1−ナフチル、3,4,5−トリメトキシ−1−ナフチル、4,5,6−トリメトキシ−1−ナフチル、2,4,8−トリメトキシ−1−ナフチルのような低級アルコキシ基で置換されたアリール基;2−アミノフェニル、3−アミノフェニル、4−アミノフェニル、3,5−ジアミノフェニル、2,5−ジアミノフェニル、2,6−ジアミノフェニル、2,4−ジアミノフェニル、2,3,6−トリアミノフェニル、2,3,4−トリアミノフェニル、3,4,5−トリアミノフェニル、2,5,6−トリアミノフェニル、2,4,6−トリアミノフェニル、1−アミノ−2−ナフチル、2−アミノ−1−ナフチル、3−アミノ−1−ナフチル、3,8−ジアミノ−1−ナフチル、2,3−ジアミノ−1−ナフチル、4,8−ジアミノ−1−ナフチル、5,6−ジアミノ−1−ナフチル、2,3,6−トリアミノ−1−ナフチル、2,3,4−トリアミノ−1−ナフチル、3,4,5−トリアミノ−1−ナフチル、4,5,6−トリアミノ−1−ナフチル、2,4,8−トリアミノ−1−ナフチルのようなアミノ基で置換されたアリール基;2−(メチルアミノ)フェニル、3−(メチルアミノ)フェニル、4−(メチルアミノ)フェニル、2−(エチルアミノ)フェニル、3−(エチルアミノ)フェニル、4−(エチルアミノ)フェニル、2−(プロピルアミノ)フェニル、3−(プロピルアミノ)フェニル、4−(プロピルアミノ)フェニル、2−(ジメチルアミノ)フェニル、3−(ジメチルアミノ)フェニル、4−(ジメチルアミノ)フェニル、2−(ジエチルアミノ)フェニル、3−(ジエチルアミノ)フェニル、4−(ジエチルアミノ)フェニル、3,5−ビス(メチルアミノ)フェニル、2,5−ビス(メチルアミノ)フェニル、2,6−ビス(メチルアミノ)フェニル、2,4−ビス(メチルアミノ)フェニル、3,5−ビス(ジメチルアミノ)フェニル、2,5−ビス(ジメチルアミノ)フェニル、2,6−ビス(ジメチルアミノ)フェニル、2,4−ビス(ジメチルアミノ)フェニル、1−(メチルアミノ)−2−ナフチル、2−(メチルアミノ)−1−ナフチル、3−(メチルアミノ)−1−ナフチル、1−(ジメチルアミノ)−2−ナフチル、2−(ジメチルアミノ)−1−ナフチル、3−(ジメチルアミノ)−1−ナフチルのような低級アルキル基で置換されたアミノ基で置換されたアリール基;2−ニトロフェニル、3−ニトロフェニル、4−ニトロフェニル、3,5−ジニトロフェニル、2,5−ジニトロフェニル、2,6−ジニトロフェニル、2,4−ジニトロフェニル、2,3,6−トリニトロフェニル、2,3,4−トリニトロフェニル、3,4,5−トリニトロフェニル、2,5,6−トリニトロフェニル、2,4,6−トリニトロフェニル、1−ニトロ−2−ナフチル、2−ニトロ−1−ナフチル、3−ニトロ−1−ナフチル、3,8−ジニトロ−1−ナフチル、2,3−ジニトロ−1−ナフチル、4,8−ジニトロ−1−ナフチル、5,6−ジニトロ−1−ナフチル、2,3,6−トリニトロ−1−ナフチル、2,3,4−トリニトロ−1−ナフチル、3,4,5−トリニトロ−1−ナフチル、4,5,6−トリニトロ−1−ナフチル、2,4,8−トリニトロ−1−ナフチルのようなニトロ基で置換されたアリール基;2−シアノフェニル、3−シアノフェニル、4−シアノフェニル、3,5−ジシアノフェニル、2,5−ジシアノフェニル、2,6−ジシアノフェニル、2,4−ジシアノフェニル、2,3,6−トリシアノフェニル、2,3,4−トリシアノフェニル、3,4,5−トリシアノフェニル、2,5,6−トリシアノフェニル、2,4,6−トリシアノフェニル、1−シアノ−2−ナフチル、2−シアノ−1−ナフチル、3−シアノ−1−ナフチル、3,8−ジシアノ−1−ナフチル、2,3−ジシアノ−1−ナフチル、4,8−ジシアノ−1−ナフチル、5,6−ジシアノ−1−ナフチル、2,3,6−トリシアノ−1−ナフチル、2,3,4−トリシアノ−1−ナフチル、3,4,5−トリシアノ−1−ナフチル、4,5,6−トリシアノ−1−ナフチル、2,4,8−トリシアノ−1−ナフチルのようなシアノ基で置換されたアリール基;2−アセチルフェニル、3−アセチルフェニル、4−アセチルフェニル、3,5−ジアセチルフェニル、2,5−ジアセチルフェニル、2,6−ジアセチルフェニル、2,4−ジアセチルフェニル、2,3,6−トリプロピオニルフェニル、2,3,4−トリプロピオニルフェニル、3,4,5−トリプロピオニルフェニル、2,5,6−トリブチリルフェニル、2,4,6−トリブチリルフェニル、1−アセチル−2−ナフチル、2−アセチル−1−ナフチル、3−アセチル−1−ナフチル、3,8−ジアセチル−1−ナフチル、2,3−ジプロピオニル−1−ナフチル、4,8−ジブチリル−1−ナフチル、5,6−ジブチリル−1−ナフチル、2,3,6−トリアセチル−1−ナフチル、2,3,4−トリアセチル−1−ナフチル、3,4,5−トリプロピオニル−1−ナフチル、4,5,6−トリブチリル−1−ナフチル、2,4,8−トリブチリル−1−ナフチルのような脂肪族アシル基で置換されたアリール基;2−カルボキシフェニル、3−カルボキシフェニル、4−カルボキシフェニル、3,5−ジカルボキシフェニル、2,5−ジカルボキシフェニル、2,6−ジカルボキシフェニル、2,4−ジカルボキシフェニルのようなカルボキシ基で置換されたアリール基;2−カルバモイルフェニル、3−カルバモイルフェニル、4−カルバモイルフェニル、3,5−ジカルバモイルフェニル、2,5−ジカルバモイルフェニル、2,6−ジカルバモイルフェニル、2,4−ジカルバモイルフェニルのようなカルバモイル基で置換されたアリール基;3,4−メチレンジオキシフェニルのようなアルキレンジオキシ基で置換されたアリール基を挙げることができる。
【0024】本発明の原料化合物は、分子内に不斉炭素を有し、各々がR配位、S配位である立体異性体が存在するが、その各々、或いはそれらの任意の割合の混合物のいずれも本発明に包含される。
【0025】
【発明の実施の形態】本発明の反応は、溶媒中で行うのが好ましい。
【0026】このような溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はなく、例えば、ヘキサン、ヘプタンのような脂肪族炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類;ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類;アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニトリルのようなニトリル類;ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−メチルピロリジノン、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げることができる。
【0027】反応温度は、0℃乃至200℃であり、好適には、50℃乃至150℃である。
【0028】反応時間は、主に反応温度、原料化合物、試薬、添加剤または使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、1時間乃至5日間であり、好適には5時間乃至24時間である。
【0029】以下に、実施例及び参考例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
【0030】
【実施例】パラジウム触媒を用いたクロスカップリング反応におけるホスフィンオキシドの効果下表のように、原料化合物を使用して、クロスカップリング化合物を製造する反応について、以下の条件下について検討を行った。
【0031】<条件A>有機スズ化合物:有機親電子剤:Pd(PPh3)4 :炭酸カリウム=1:2:0.1:2(ジオキサン溶媒中)
<条件B>有機スズ化合物:有機親電子剤:Pd(PPh3)4 :炭酸カリウム:Ph3PO=1:3:0.1:2:1(ジオキサン溶媒中)
【0032】
【表1】

【0033】表1より明らかなように、いずれの例においても、ホスフィンオキシドを添加剤として加えた場合に著しい収率の向上が認められた。
【0034】
【実施例1】1,4−ジメトキシ−2−[4−メトキシ−3−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンジル]−5−(2−フタルイミド−2−デオキシ−3,4,6−トリ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシル)ベンゼン<条件Aの反応>特願平9−第288847号公報で開示された1,4−ジメトキシ−2−(2−フタルイミド−2−デオキシ−3,4,6−トリ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシル)−5−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(107mg,0.127mmol)、参考例1で得られた、4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(202mg,0.380mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(17.5mg,0.015mmol)、及び炭酸カリウム(39mg,0.28mmol)を、1,4−ジオキサンに溶解し、窒素気流下7時間加熱還流した。酢酸エチル(15ml)をくわえ、飽和弗化カリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)で精製し、目的化合物を22%(28mg,0.028mmol)で得た。
<条件Bの反応>特願平9−第288847号公報で開示された1,4−ジメトキシ−2−(2−フタルイミド−2−デオキシ−3,4,6−トリ−O−アセチル−β−D−グルコピラノシル)−5−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(107.8mg,0.128mmol)、参考例1で得られた、4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(208mg,0.391mmol)、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム(18.8mg,0.016mmol)、炭酸カリウム(38mg,0.27mmol)、及び、トリフェニルホスフィンオキサイド(37mg,0.13mmol)を、1,4−ジオキサンに溶解し、窒素気流下7時間加熱還流した。酢酸エチル(15ml)を加え、飽和弗化カリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:1)で精製し、目的化合物を82%(106mg,0.105mmol)で得た。
融点:110−111℃TLC Rf :0.18(ヘキサン:酢酸エチル=1:1)
1 H−核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ ppm:7.84−7.81(1H,m),7.71−7.63(3H,m),7.24(1H,d,J=1.9Hz),6.92(1H,dd,J=8.5,1.9Hz),6.70(1H,d,J=8.5Hz),6.32(1H,s),6.12(1H,t,J=10.0Hz),5.66(1H,d,J=10.0Hz),5.49(1H,d,J=3.3Hz),5.42(1H,t,J=10.0Hz),5.29(1H,t,J=10.0Hz),5.18(1H,dd,J=10.0,3.3Hz),4.84(1H,d,J=10.0Hz),4.64(1H,t,J=10.0Hz),4.33(1H,dd,J=12.4,4.7Hz),4.22−4.00(4H,m),3.88(1H,d,J=15.6Hz),3.87−3.78(1H,m),3.81(3H,s),3.78(3H,s),3.72(1H,d,J=15.5Hz),3.35(3H,s),2.19(3H,s),2.09(3H,s),2.07(3H,s),2.02(3H,s),1.97(3H,s),1.87(3H,s),1.68(3H,s).
赤外吸収スペクトル(KBr錠、cm-1):3480,2939,2839,1752,1721,1506.
高分解能(FAB)マススペクトル:計算値:C505521N:[M]+ =1005.3267,実測値:1005.3239.
比旋光度:[α]23D =−11°(c=0.55、CH2 Cl2 ).
【0035】
【実施例2】1,4−ジメトキシ−2−[4−メトキシ−3−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンジル]−5−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−ラムノピラノシル)ベンゼン<条件Aの反応>特願平9−第288847号公報で開示された、1,4−ジメトキシ−2−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−ラムノピラノシル)−5−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(98mg,0.14mmol)、参考例1で得られた、4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(224mg,0.42mmol)を用い、実施例1の条件Aの方法に従って反応を行い、目的化合物を28%(33mg,0.039mmol)で得た。
<条件Bの反応>特願平9−第288847号公報で開示された、1,4−ジメトキシ−2−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−ラムノピラノシル)−5−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(72.9mg,0.104mmol)、参考例1で得られた、4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(166mg,0.313mmol)、及び、トリフェニルホスフィンオキサイド(30mg,0.11mmol)を用い、実施例1の条件Bの方法に従って反応を行い、目的化合物を76%(68mg,0.080mmol)で得た。
TLC Rf :0.40(ヘキサン:酢酸エチル=1:1).
1 H−核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ ppm:7.31(1H,d,J=1.6Hz),7.06−6.98(2H,m),6.73(1H,d,J=8.3Hz),6.52(1H,s),5.53(1H,d,J=3.6Hz),5.51(1H,d,J=3.2Hz),5.48(1H,t,J=10.0Hz),5.25(1H,dd,J=9.9,3.6Hz),5.20(1H,dd,J=10.0,3.2Hz),5.15(1H,t,J=9.9Hz),5.01(1H,s),4.88(1H,d,J=10.0Hz),4.20−4.01(3H,m),3.79(6H,s),3.79−3.71(2H,m),3.71(3H,s),3.76−3.65(1H,m),2.21(3H,s),2.08(3H,s),2.03(3H,s),1.99(3H,s),1.98(3H,s),1.93(3H,s),1.72(3H,s),1.32(1H,d,J=6.2Hz).
赤外吸収スペクトル(KBr錠,cm-1):3469,2939,2858,1751,1505.
高分解能(FAB)マススペクトル:計算値:C425219Na:[M+Na]+ =883,3000.
実測値:883.3030.
比旋光度:[α]23D =+19.9°(c=1.83,CH2 Cl2 ).
【0036】
【実施例3】1,3−ジメトキシ−4−[4−メトキシ−3−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンジル]−6−(メチル 5−アセトアミド−3,5−ジデオキシ−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−α−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノヌロピラノシロネート)ベンゼン<条件Aの反応>特願平9−第288847号公報で開示された、1,3−ジメトキシ−4−(メチル 5−アセトアミド−3,5−ジデオキシ−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−α−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノヌロピラノシロネート)−6−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(86mg,0.096mmol)、参考例1で得られた、4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(157mg,0.30mmol)を用い、実施例1の条件Aの方法に従って反応を行ったが目的化合物は得られなかった。
<条件Bの反応>特願平9−第288847号公報で開示された、1,3−ジメトキシ−4−(メチル 5−アセトアミド−3,5−ジデオキシ−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−α−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノヌロピラノシロネート)−6−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(89mg,0.099mmol)、参考例1で得られた、4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(160mg,0.30mmol)、及び、トリフェニルホスフィンオキサイド(15mg,0.054mmol)を用い、実施例1の条件Bの方法に従って反応を行い、目的化合物を63%(67mg,0.063mmol)で得た。
融点:115−118℃.
TLC Rf :0.44(酢酸エチル).
1 H−核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ ppm:7.36(1H,d,J=2.0Hz),7.30(1H,s),7.07(1H,dd,J=8.5,2.0Hz),6.80(1H,d,J=8.5Hz),6.38(1H,s),5.55−5.19(7H,m),4.88(1H,d,J=9.8Hz),4.41(1H,dd,J=12.3,2.8Hz),4.22−4.04(5H,m),3.94(1H,d,J=15.1Hz),3.86−3.78(2H,m),3.81(3H,s),3.73(3H,s),3.70(3H,s),2.89(1H,dd,J=13.2,5.1Hz),2.23(3H,s),2.12(3H,s),2.07(3H,s),2.03(3H,s),2.01(3H,s),2.00(6H,s),1.89(3H,s),1.78(1H,dd,J=13.2,11.6Hz),1.73(3H,s).
赤外吸収スペクトル(KBr錠,cm-1):3384,2953,2935,1750,1688,1505.
高分解能(FAB)マススペクトル:計算値:C506424N][M+H]+ =1062,3818.
実測値:1062,3812.
比旋光度:[α]23D =−14°(c=0.23,CH2 Cl2 ).
【0037】
【実施例4】1,4−ジメトキシ−2−[4−メトキシ−3−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンジル]−5−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−ラムノピラノシル)ベンゼン<条件Bの反応>特願平9−第288847号公報で開示された、1,4−ジメトキシ−2−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−ラムノピラノシル)−5−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(144.1mgmg,0.210mmol)、参考例1で得られた4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(337mg,0.633mmol)、及び、トリフェニルホスフィンオキサイド(59mg,0.21mmol)を用い、実施例1の条件Bの方法に従って反応を行い、目的化合物を76%(135mg,0.159mmol)で得た。
融点:84−85℃.
TLC Rf :0.43(ヘキサン:酢酸エチル=2:3).
1 H−核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ ppm:7.30(1H,d,J=1.3Hz),7.00(1H,dd,J=8.6,1.2Hz),6.86(1H,s),6.74(1H,d,J=8.6Hz),6.57(1H,s),5.51(1H,d,J=2.7Hz),5.43(1H,t,J=9.8Hz),5.35(1H,t,J=9.2Hz),5.30(1H,t,J=9.2Hz),5.20(1H,dd,J=9.8,2.7Hz),5.18−5.12(1H,m),4.88(1H,d,J=9.8Hz),4.83(1H,d,J=9.2Hz),4.22−4.03(4H,m),3.93(1H,d,J=15.5Hz),3.84(1H,d,J=15.5Hz),3.80(3H,s),3.79(3H,s),3.72(3H,s),3.46(1H,t,J=10.8Hz),2.21(3H,s),2.06(3H,s),2.04(3H,s),2.03(3H,s),1.98(3H,s),1.78(3H,s),1.73(3H,s).
赤外吸収スペクトル(KBr錠,cm-1):2944,2859,1753,1506.
高分解能(FAB)マススペクトル:計算値:C415019Na:[M+Na]+ =869,2844.
実測値:869,2868.
比旋光度:[α]23D =−21°(c=0.41,CH2 Cl2 ).
【0038】
【実施例5】1,3−ジメトキシ−4−[4−メトキシ−3−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−フコピラノシル)ベンジル]−6−(メチル 5−アセトアミド−3,5−ジデオキシ−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−α−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノヌロピラノシロネート)ベンゼン<条件Bの反応>特願平9−第288847号公報で開示された、1,3−ジメトキシ−4−(メチル 5−アセトアミド−3,5−ジデオキシ−4,7,8,9−テトラ−O−アセチル−α−D−グリセロ−D−ガラクト−2−ノヌロピラノシロネート)−6−トリ−n−ブチルスタニルベンゼン(140mg,0.156mmol)、参考例2で得られた、4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−フコピラノシル)ベンゼン(204mg,0.43mmol)、及び、トリフェニルホスフィンオキサイド(22mg,0.079mmol)を用い、実施例1の条件Bの方法に従って反応を行い、目的化合物を76%(120mg,0.119mmol)で得た。
融点:115−118℃.
TLC Rf :0.44(酢酸エチル).
1 H−核磁気共鳴スペクトル(400MHz,CDCl3 )δ ppm:7.37(1H,d,J=2.0Hz),7.30(1H,s),7.03(1H,dd,J=8.3,2.0Hz),6.79(1H,d,J=8.3Hz),6.38(1H,s),5.52(1H,t,J=8.3Hz),5.45(1H,dt,J=11.0,5.0Hz),5.36−5.33(2H,m),5.25−5.18(3H,m),4.84(1H,d,J=9.9Hz),4.43(1H,dd,J=12.2,2.6Hz),4.19(1H,dd,J=12.2,6.6Hz),4.10(1H,q,J=10.3Hz),3.96(1H,q,J=6.3Hz),3.92(1H,d,J=16.8Hz),3.88−3.81(2H,m),3.81(6H,s),3.74(3H,s),3.70(3H,s),2.91(1H,dd,J=13.3,5.1Hz),2.26(3H,s),2.12(3H,s),2.07(3H,s),2.00(3H,s),1.99(3H,s),1.98(6H,s),1.89(3H,s),1.80(1H,t,J=13.3Hz),1.74(3H,s),1.21(3H,d,J=6.4Hz).
赤外吸収スペクトル(KBr錠,cm-1):3465,3377,2938,2856,1748,1720,1612.
高分解能(FAB)マススペクトル:計算値:C486122NNa:[M+Na]+ =1026,3583.
実測値:1026,3557.
比旋光度:[α]23D =+5.3°(c=0.32,CH2 Cl2 ).
【0039】
【参考例1】4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(実施例1乃至4の有機親電子剤)特開平9−第143190号公報で開示された、4−メチル−1−メトキシ−2−(2,3,4,6−テトラ−O−アセチル−β−D−ガラクトピラノシル)ベンゼン(454.3mg,1.00mmol)を四塩化炭素10mlに溶解し、N−臭化スクシンイミド(198mg,1.11mmol)とAIBN(少量)を加え、窒素気流下、2時間加熱還流した。溶媒を減圧下留去し、得られた残査をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル:ヘキサン=1:3)で精製し、目的化合物を74%(390mg、0.735mmol)で得た。
融点:42−45℃.
TLC Rf :0.20(ヘキサン:酢酸エチル=1:1).
1 H−核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ ppm:7.59(1H,d,J=2.3Hz),7.34(1H,dd,J=8.5,2.3Hz),6.83(1H,d,J=8.5Hz),5.52(1H,d,J=3.3Hz),5.47(1H,t,J=10.0Hz),5.21(1H,dd,J=10.0,3.3Hz),4.88(1H,d,J=10.0Hz),4.50(2H,s),4.23−4.03(3H,m),3.85(3H,s),2.23(3H,s),2.04(3H,s),1.99(3H,s),1.78(3H,s).
高分解能(FAB)マススペクトル:計算値:C222810Br][M+H]+ =531,0865.
実測値:531,0845.
比旋光度:[α]23D =−2.12°(c=1.37,CH2 Cl2 ).
【0040】
【参考例2】4−ブロモメチル−1−メトキシ−2−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−フコピラノシル)ベンゼン(実施例5の有機親電子剤)特開平9−第143190号公報で開示された、4−メチル−1−メトキシ−2−(2,3,4−トリ−O−アセチル−β−L−フコピラノシル)ベンゼン(2.27g,5.74mmol)を用い、参考例1の方法に従って反応を行い、目的化合物を65%(1.77g、3.73mmol)で得た。
融点:48−50℃.
TLC Rf :0.20(ヘキサン:酢酸エチル=1:1).
1 H−核磁気共鳴スペクトル(270MHz,CDCl3 )δ ppm:7.48(1H,d,J=2.4Hz),7.32(1H,dd,J=8.6,2.2Hz),6.82(1H,d,J=8.6Hz),5.46(1H,t,J=9.8Hz),5.36(1H,d,J=3.3Hz),5.21(1H,dd,J=9.8,3.3Hz),4.86(1H,d,J=9.8Hz),4.53(1H,d,J=10.2Hz),4.49(1H,d,J=10.2Hz),3.96(1H,q,J=6.5Hz),3.84(3H,s),2.26(3H,s),1.99(3H,s),1.77(3H,s),1.23(1H,d,J=6.5Hz).
高分解能(FAB)マススペクトル:計算値:C202618Br:[M+H]+ =473,0811.
実測値:473,0811.
比旋光度:[α]23D =+18.4°(c=0.700,CH2 Cl2 ).
【出願人】 【識別番号】000001856
【氏名又は名称】三共株式会社
【出願日】 平成10年10月5日(1998.10.5)
【代理人】 【識別番号】100081400
【弁理士】
【氏名又は名称】大野 彰夫 (外2名)
【公開番号】 特開2000−109436(P2000−109436A)
【公開日】 平成12年4月18日(2000.4.18)
【出願番号】 特願平10−282838