| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２０００−２６６６５８ | マルチプローブ及び走査型プローブ顕微鏡 |
| 特開２０００−２６６６５９ | 走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー |
| 特開２０００−２６６６６０ | エアフィルター検査用粒子及びエアフィルターの検査方法 |
| 特開２０００−２６６６６１ | フローセル及びこのフローセルを用いた粒子測定装置 |
| 特開２０００−２６６６６２ | 応力腐食割れ検知用電極センサおよび応力腐食割れモニター装置 |
| 特開２０００−２６６６６３ | 隠蔽配管の不具合位置の特定方法及び不具合位置特定装置 |
| 特開２０００−２６６６６４ | 曇り検出装置 |
| 特開２０００−２６６６６５ | 複層ガラスの雨滴検出装置 |
| 特開２０００−２６６６６６ | エリプソメータ |
| 特開２０００−２６６６６７ | 表面プラズモンセンサー |
| 特開２０００−２６６６６８ | 溶液モニタリング用センサー |
| 特開２０００−２６６６６９ | 濃度測定装置 |
| 特開２０００−２６６６７０ | 光学測定方法、光学測定装置、光学測定システム及び画像形成装置 |
| 特開２０００−２６６６７１ | 結晶欠陥検出装置及び結晶欠陥検出方法 |
| 特開２０００−２６６６７２ | 光学測定装置、光学測定システム及び画像形成装置 |
| 特開２０００−２６６６７３ | 火炎中の２次元濃度分布計測装置 |
| 特開２０００−２６６６７４ | 発光分光分析装置 |
| 特開２０００−２６６６７５ | グロー放電分析装置 |
| 特開２０００−２６６６７６ | センサ |
| 特開２０００−２６６６７７ | 窒素化合物、リン化合物及び有機汚濁物質の分析計 |
| 特開２０００−２６６６７８ | 円板状部材の揺動装置 |
| 特開２０００−２６６６７９ | 基板検査装置 |
| 特開２０００−２６６６８０ | 基板検査装置および斜照明ユニット |
| 特開２０００−２６６６８１ | ライン照明装置 |
| 特開２０００−２６６６８２ | 画像取込み装置 |
| 特開２０００−２６６６８３ | 光ディスク外観欠陥検査装置 |
| 特開２０００−２６６６８４ | 記録媒体用プラスチック基板の外観検査方法 |
| 特開２０００−２６６６８５ | 物体の外観検査方法および外観検査装置 |
| 特開２０００−２６６６８６ | 金属表面の検査方法及び装置 |
| 特開２０００−２６６６８７ | 外観検査装置および外観検査方法 |
| 特開２０００−２６６６８８ | テープキャリア欠陥検査装置 |
| 特開２０００−２６６６８９ | ウェブ検査方法及びウェブ検査装置 |
| 特開２０００−２６６６９０ | 傷又は異物位置検出方法、傷又は異物位置検出装置、及び画像読取装置 |
| 特開２０００−２６６６９１ | 外観検査装置 |
| 特開２０００−２６６６９２ | プラズマ処理装置の評価装置 |
| 特開２０００−２６６６９３ | 多孔質体の空孔率の測定方法及び装置 |
| 特開２０００−２６６６９４ | Ｘ線断層撮像装置及びそのステージ位置調整方法 |
| 特開２０００−２６６６９５ | ゆで卵検査装置 |
| 特開２０００−２６６６９６ | Ｘ線反射率測定装置 |
| 特開２０００−２６６６９７ | シリコンインゴットの結晶方位検出方法 |
| 特開２０００−２６６６９８ | Ｘ線による表面観察法および装置 |
| 特開２０００−２６６６９９ | 材料劣化度の評価方法及びその装置 |
| 特開２０００−２６６７００ | 粒子線装置による試料の化合物判定方法 |
| 特開２０００−２６６７０１ | 蛍光Ｘ線分析装置 |
| 特開２０００−２６６７０２ | 蛍光Ｘ線分析装置 |
| 特開２０００−２６６７０３ | Ｘ線照射寸法確認用冶具 |
| 特開２０００−２６６７０４ | Ｘ線分析装置 |
| 特開２０００−２６６７０５ | 試料セルの作成方法 |
| 特開２０００−２６６７０６ | 検査装置および検査方法 |
| 特開２０００−２６６７０７ | Ｘ線光電子分光分析装置 |