| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２０００−５１６３８ | 湿度調整器 |
| 特開２０００−５１６３９ | 膜式気体ドライヤ |
| 特開２０００−５１６４０ | 水蒸気移動制御装置の異常警告装置 |
| 特開２０００−５１６４１ | ホルムアルデヒド吸着具 |
| 特開２０００−５１６４２ | 空気清浄器 |
| 特開２０００−５１６４３ | 空気清浄装置 |
| 特開２０００−５１６４４ | 鉄鋼精錬炉の排ガス浄化方法 |
| 特開２０００−５１６４５ | 排ガス及び飛灰の処理方法 |
| 特開２０００−５１６４６ | 排ガス処理装置 |
| 特開２０００−５１６４７ | 気体浄化装置，物質捕集装置および脱臭装置 |
| 特開２０００−５１６４８ | 排ガス処理装置及び処理方法 |
| 特開２０００−５１６４９ | 排ガス中のＳＯｘ除去方法 |
| 特開２０００−５１６５０ | アンモニア注入装置 |
| 特開２０００−５１６５１ | 排煙脱硫装置および方法 |
| 特開２０００−５１６５２ | 脱硫液性能判定方法と判定装置および湿式脱硫システム |
| 特開２０００−５１６５３ | 窒素酸化物の浄化方法及び浄化装置 |
| 特開２０００−５１６５４ | 二酸化窒素吸着剤 |
| 特開２０００−５１６５５ | 窒素酸化物および／または硫黄酸化物の吸着剤、並びに該吸着剤を用いた窒素酸化物および／または硫黄酸化物の除去方法 |
| 特開２０００−５１６５６ | 揮発性有機塩素化合物の処理方法およびその装置 |
| 特開２０００−５１６５７ | 残留物質及び煤煙ガスの処理 |
| 特開２０００−５１６５８ | 焼却炉煙道吹込剤及び排ガス処理法 |
| 特開２０００−５１６５９ | 廃棄物の処理方法 |
| 特開２０００−５１６６０ | ダイオキシン除去装置 |
| 特開２０００−５１６６１ | オゾン分解処理装置 |
| 特開２０００−５１６６２ | 内燃機関の排気浄化装置 |
| 特開２０００−５１６６３ | 逆浸透膜分離装置および逆浸透膜分離方法 |
| 特開２０００−５１６６４ | 処理水の濾過装置及び汚水浄化槽 |
| 特開２０００−５１６６５ | 脱塩方法 |
| 特開２０００−５１６６６ | 流体分離素子およびその製造方法 |
| 特開２０００−５１６６７ | 液体分離素子および造水方法 |
| 特開２０００−５１６６８ | 液体分離素子および造水方法 |
| 特開２０００−５１６６９ | 下部キャップ付中空糸膜モジュール |
| 特開２０００−５１６７０ | 中空糸膜モジュール |
| 特開２０００−５１６７１ | スパイラル型分離膜エレメント |
| 特開２０００−５１６７２ | 膜分離装置 |
| 特開２０００−５１６７３ | 濾過装置 |
| 特開２０００−５１６７４ | 流体混合器 |
| 特開２０００−５１６７５ | 撹拌混合装置及びこれを用いた撹拌混合方法 |
| 特開２０００−５１６７６ | 乳化剤および乳化組成物 |
| 特開２０００−５１６７７ | 真空処理装置及び該真空処理装置を用いた基体の処理方法 |
| 特開２０００−５１６７８ | 立方晶窒化炭素物質の製造方法 |
| 特開２０００−５１６７９ | 反応器管装填装置 |
| 特開２０００−５１６８０ | 反応器内液体への粉粒体導入方法及びそれを用いたアルキレンオキサイド付加体の製造方法 |
| 特開２０００−５１６８１ | 横型回転式固気接触装置 |
| 特開２０００−５１６８２ | ゲル状物質及びスプレー装置 |
| 特開２０００−５１６８３ | 回分式重縮合反応方法 |
| 特開２０００−５１６８４ | 複数の反応槽での反応を同時にモニタする装置 |
| 特開２０００−５１６８５ | 計量機能付き無菌タンク装置 |
| 特開２０００−５１６８６ | 自動合成機 |
| 特開２０００−５１６８７ | 堆積膜形成方法及び装置 |