| 公開番号 | 発明の名称 |
| 特開２０００−３１００５ | 基板処理装置 |
| 特開２０００−３１００６ | 半導体回路形成装置 |
| 特開２０００−３１００７ | ステージ装置及びそれを用いた光学装置 |
| 特開２０００−３１００８ | Ｘ線マスクおよびその製造方法 |
| 特開２０００−３１００９ | 露光装置における半導体ウェハーの自動位置合わせ方法 |
| 特開２０００−３１０１０ | プロキシミティ露光におけるマスクとワークのギャップ制御方法およびプロキシミティ露光装置 |
| 特開２０００−３１０１１ | 照明領域設定装置および露光装置 |
| 特開２０００−３１０１２ | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| 特開２０００−３１０１３ | 回路パターンの修復方法及び装置、並びに、回路パターン修復用転写板 |
| 特開２０００−３１０１４ | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| 特開２０００−３１０１５ | 位置検出方法、位置調整方法、走査露光方法及び走査型露光装置並びにデバイス製造方法 |
| 特開２０００−３１０１６ | 露光方法及び装置 |
| 特開２０００−３１０１７ | 基板加熱装置、基板加熱方法及び基板処理方法 |
| 特開２０００−３１０１８ | 半導体装置およびその製造方法 |
| 特開２０００−３１０１９ | マスクおよび露光装置 |
| 特開２０００−３１０２０ | パターン形成材料およびそれを用いたパターン形成方法 |
| 特開２０００−３１０２１ | 反射型マスクおよびそれを用いたデバイスの製造方法 |
| 特開２０００−３１０２２ | 基板現像方法及び基板現像装置 |
| 特開２０００−３１０２３ | 電子ビーム露光方法 |
| 特開２０００−３１０２４ | 投影露光装置およびそれを用いた露光方法 |
| 特開２０００−３１０２５ | レジストパターンの形成方法 |
| 特開２０００−３１０２６ | 半導体集積回路装置の製造方法 |
| 特開２０００−３１０２７ | レジスト塗布方法および塗布装置 |
| 特開２０００−３１０２８ | 露光方法および露光装置 |
| 特開２０００−３１０２９ | 半導体露光装置およびデバイス製造方法 |
| 特開２０００−３１０３０ | 露光装置、データ管理方法およびデバイス製造方法 |
| 特開２０００−３１０３１ | 位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
| 特開２０００−３１０３２ | デバイス製造装置 |
| 特開２０００−３１０３３ | 走査型露光装置、及び該装置を用いる素子製造方法 |
| 特開２０００−３１０３４ | リソグラフィシステム、およびそれを利用した半導体デバイス製造方法 |
| 特開２０００−３１０３５ | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
| 特開２０００−３１０３６ | 露光方法及び露光装置 |
| 特開２０００−３１０３７ | 反射防止キャップ及びスペ―サを具備する半導体装置、その製造方法並びにこれを用いたフォトレジストパタ―ンの製造方法 |
| 特開２０００−３１０３８ | 液供給装置 |
| 特開２０００−３１０３９ | 適応性鏡を有する反射屈折投映対物レンズ及び投映照明法 |
| 特開２０００−３１０４０ | 露光方法とその露光方法を用いた回路パタ―ン体製造方法、及び露光装置とその露光装置により製造された回路パタ―ン体 |
| 特開２０００−３１０４１ | 縮小オブジェクティブ |
| 特開２０００−３１０４２ | 処理方法 |
| 特開２０００−３１０４３ | リソグラフィ装置 |
| 特開２０００−３１０４４ | 露光制御装置 |
| 特開２０００−３１０４５ | 走査露光方法、レ―ザ装置、走査型露光装置、及びデバイス製造方法 |
| 特開２０００−３１０４６ | 走査露光方法、走査型露光装置、及びデバイス製造方法 |
| 特開２０００−３１０４７ | 露光装置及び方法、並びに半導体素子の製造方法 |
| 特開２０００−３１０４８ | 露光装置及び方法、並びに半導体素子の製造方法 |
| 特開２０００−３１０４９ | リトグラフの投影装置 |
| 特開２０００−３１０５０ | 露光装置、リソグラフィシステム、及び半導体デバイス製造方法 |
| 特開２０００−３１０５１ | 回路パタ―ン形成方法、及び露光装置 |
| 特開２０００−３１０５２ | リトグラフ投影装置 |
| 特開２０００−３１０５３ | 露光装置及びその露光装置により製造されたデバイス、並びに露光方法及びその露光方法を用いてデバイスを製造する方法 |
| 特開２０００−３１０５４ | 露光方法及び装置、並びにデバイスの製造方法 |