公開番号 発明の名称
特開2000−444 気相におけるアルコール蒸気阻止膜
特開2000−445 ポリアミドイミド分離膜の製造法
特開2000−446 純水比抵抗調整装置及びウエハ洗浄装置
特開2000−447 旋回式微細気泡発生装置
特開2000−448 流体衝突装置
特開2000−449 オルガノポリシロキサン水性液の連続製造方法
特開2000−450 ジェットミキサー及び粉粒体供給方法
特開2000−451 粉粒体と液体との混合装置
特開2000−452 縦型混練装置
特開2000−453 分散装置及び分散方法
特開2000−454 可変パドル式混練・混合機及び可変パドル式混練・混合機付き土質改良装置
特開2000−455 混練・混合機及び混練・混合機付き土質改良装置
特開2000−456 造粒方法および装置ならびにそれにより得られた造粒物
特開2000−457 分散液供給装置および分散液供給方法
特開2000−458 水性分散体と水性分散体中の粗大粒子の測定方法
特開2000−459 超臨界水反応系の生成方法
特開2000−460 蒸気加熱装置
特開2000−461 回転式熱交換器
特開2000−462 酸素吸収剤
特開2000−463 吸水剤、吸収体、吸収性物品、および吸収特性の測定方法
特開2000−464 触媒用担体、その製造方法、脱硝触媒及び脱硝方法
特開2000−465 シリカ−アルミナ触媒担体、それを用いる水素化処理用触媒および炭化水素油の水素化処理方法
特開2000−466 合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法
特開2000−467 高分子固体電解質型燃料電池用触媒の製造方法
特開2000−468 窒素酸化物を接触還元するための触媒及び方法
特開2000−469 リホ―ミング用ニッケル系触媒およびこれを用いた合成ガスの製法
特開2000−470 水素化処理触媒及び重質油の水素化処理方法
特開2000−471 排ガス処理用触媒、排ガス処理方法及び処理装置
特開2000−472 液体炭化水素燃料触媒の製造方法
特開2000−473 酢酸ビニルの製造における触媒およびその使用
特開2000−474 強力磁石による高温分離器を使う磁気分離
特開2000−475 触媒再生方法
特開2000−476 カチオン交換樹脂再生塔
特開2000−477 自動ピペット装置
特開2000−478 粉砕機
特開2000−479 ウェザーストリップの廃材の破砕・分離加工方法及びその装置
特開2000−480 ローラミル
特開2000−481 セラミックス粒子の粉砕装置及び粉砕方法
特開2000−482 ディスポーザー
特開2000−483 コンクリート塊の粉砕方法
特開2000−484 水砕スラグの異物除去用スクリーン
特開2000−485 湿式電気集塵装置
特開2000−486 空気清浄器
特開2000−487 空気清浄器
特開2000−488 電気集塵フィルタとその製造方法
特開2000−489 電気集塵フィルタとその電気集塵フィルタの製造方法
特開2000−490 汚染物易除去アルミニウム材およびアルミニウム材使用製品ならびにその洗浄方法
特開2000−491 空気清浄機
特開2000−492 高速回転体防御装置
特開2000−493 処理装置
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