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【発明の名称】 電磁波シールド性接着フィルム及び該フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイ
【発明者】 【氏名】登坂 実

【氏名】上原 寿茂

【氏名】萩原 裕之

【氏名】橋塲 綾
【要約】 【課題】ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性が非常に良好で、赤外線遮蔽性、透明性、非視認性および良好な接着特性を有する電磁波シールド性接着フィルム及びそれを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイを提供する。

【解決手段】プラスチックフィルムに接着剤層を介して構成される導電性金属付きプラスチックフィルムにおいて、導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、かつ、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周に前記幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を有する電磁波シールド性接着フィルム。得られた電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック板に設け電磁波遮蔽構成体とする。電磁波シールド性接着フィルムや電磁波遮蔽構成体をディスプレイ画面に設置し電磁波遮蔽する。
【特許請求の範囲】
【請求項１】 プラスチックフィルムに接着剤層を介して構成される導電性金属付きプラスチックフィルムにおいて、導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、かつ、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周に前記幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を有することを特徴とする電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項２】 導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部が導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項３】 導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部の少なくとも一部が露出していることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項４】 レーザにより導電性の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少なくともその額縁部の一部を露出させたことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項５】 サンドブラストにより導電性の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少なくともその額縁部の一部を露出させたことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項６】 導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部が導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で形成され、幾何学図形の部分及び額縁部の一部に接着剤層を介して透明層を設けたことを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項７】 導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部が導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で形成され、額縁部をプラスチックフィルム側に折り曲げて、プラスチックフィルム側に額縁部の導電性金属を露出させたことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項８】 導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部が幾何学図形の外周に形成した導電性テープである請求項１に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項９】 導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部が幾何学図形の外周に形成した導電性の３次元網目構造体である請求項１に記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１０】 導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続されている導電性の額縁部の幅が１〜４０ｍｍである請求項1ないし請求項９のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１１】 導電性金属で描かれた幾何学図形がマイクロリソグラフ法により形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項１０のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１２】 導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されていることを特徴とする請求項１ないし請求項１１のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１３】 導電性金属付きプラスチックフィルムのプラスチックフィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムである請求項１ないし請求項１２のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１４】 導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚さが４０μｍ以下である請求項１ないし請求項１３のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１５】 導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属が、厚さ０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルである請求項１ないし請求項１４のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１６】 電磁波シールド性接着フィルムを構成するいずれかの層に赤外線吸収剤が含有されていることを特徴とする請求項１ないし請求項１５のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルム。
【請求項１７】 プラスチック板の少なくとも片面に請求項１ないし請求項１６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムを設けた電磁波遮蔽構成体。
【請求項１８】 プラスチック板の片面に請求項１ないし請求項１６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムを設け、他面にプラスチックフィルムを設けた電磁波遮蔽構成体。
【請求項１９】 プラスチック板の片面に請求項１ないし請求項１６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムを設け、その導電性の額縁部がプラスチック板の反対面に達するようにしたことを特徴とする電磁波遮蔽構成体。
【請求項２０】 請求項１７または請求項１８に記載の電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接着フィルムの導電性の額縁部の一部に導電性テープを貼り付けた電磁波遮蔽構成体。
【請求項２１】 請求項１７または請求項１８に記載の電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接着フィルムの少なくとも額縁部に導電性の３次元網目構造体が接している電磁波遮蔽構成体。
【請求項２２】 電磁波遮蔽構成体を構成する電磁波シールド性接着フィルム、プラスチック板、プラスチックフィルムまたは接着剤層のすくなくともいずれかに赤外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１７ないし請求項２１のいずれかに記載の電磁波遮蔽構成体。
【請求項２３】 プラスチック板に設けた電磁波シールド性接着フィルムのプラスチックフィルムまたはプラスチック板若しくはプラスチックフィルム表面に、防眩処理または反射防止処理が施されていることを特徴とする請求項１７ないし請求項２２のいずれかに記載の電磁波遮蔽構成体。
【請求項２４】 請求項１７ないし請求項２３のいずれかに記載の電磁波遮蔽構成体の周辺部に額縁部と接するように枠体を設けたことを特徴とする電磁波遮蔽構成体。
【請求項２５】 請求項１ないし請求項１６のいずれかに記載の電磁波シールド性接着フィルムを用いたディスプレイ。
【請求項２６】 請求項１７ないし請求項２４のいずれかに記載の電磁波遮蔽構成体を用いたディスプレイ。
【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はＣＲＴ、ＰＤＰ（プラズマ）、液晶、ＥＬなどのディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性および赤外線の遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィルム及び該フィルムを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年各種の電気設備や電子応用設備の利用が増加するのに伴い、電磁気的なノイズ妨害（Electro Magnetic Interference;EMI）も増加の一途をたどっている。ノイズは大きく分けて伝導ノイズと放射ノイズに分けられる。伝導ノイズの対策としては、ノイズフィルタなどを用いる方法がある。一方、放射ノイズの対策としては、電磁気的に空間を絶縁する必要があるため、筐体を金属体または高導電体にするとか、回路基板と回路基板の間に金属板を挿入するとか、ケーブルを金属箔で巻き付けるなどの方法が取られている。これらの方法では、回路や電源ブロックの電磁波シールド効果を期待できるが、ＣＲＴ、ＰＤＰなどのディスプレイ前面より発生する電磁波シールド用途としては、不透明であるため適したものではなかった。
【０００３】電磁波シールド性と透明性を両立させる方法として、透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法（特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報参照）が提案されている。一方、良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報参照）や金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料（特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報参照）、厚さが２ｍｍ程度のポリカーボネート等の透明基板上に透明樹脂層を形成し、その上に無電解めっき法により銅のメッシュパターンを形成した電磁波シールド材料（特開平５−２８３８８９号公報参照）、さらには、銅箔付きプラスチックフィルムにマイクロリソグラフ法により幾何学図形を施した接着フィルムをプラスチック板に貼り付けた電磁波遮蔽構成体(特願平９−１４５０７６号公報参照)等が提案されている。
【０００４】電磁波遮蔽構成体をディスプレイに取り付ける場合、電磁波の漏洩を低減し、良好なシールド性を発現させるためには、電磁波遮蔽構成体が何らかの方法により接地される必要がある。接地のための外部電極と良好な接続を行うための電磁波遮蔽構成体の構成として、プラスチック板の両面に貼りあわせた透明導電膜の上または、プラスチック板の外周に導電性テープ等の導電材料を密着させ、透明導電膜を外部電極に低抵抗（低インピーダンス）で接続させる方法（特開平９−１４９３４７号公報参照）、２枚のプラスチック板の間に金属網をはみ出させ、金属網の露出部を接地のための外部電極用枠等に挟む方法（特開平９−１４７７５２号公報参照）等が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】電磁波シールド性と透明性を両立させる方法として、特開平１−２７８８００号公報、特開平５−３２３１０１号公報に示されている透明性基材上に金属または金属酸化物を蒸着して薄膜導電層を形成する方法は、透明性が達成できる程度の膜厚（数１００Å〜２、０００Å）にすると導電層の表面抵抗が大きくなりすぎ、特開平９−１４９３４７号公報に示される接地のための外部電極との接続方法でディスプレイに取り付けたとしても十分なシールド性能が得られなかった。良導電性繊維を透明基材に埋め込んだ電磁波シールド材（特開平５−３２７２７４号公報、特開平５−２６９９１２号公報）では、接地のための外部電極との接続を特開平９−１４７７５２号公報に示されている方法等により接続すると、シールド効果は十分であるが、電磁波漏れのないように導電性繊維を規則配置させるために必要な繊維径が最も細いもので３５μｍと太すぎるため、繊維が見えてしまい（以後視認性という）ディスプレイ用途には適したものではなかった。特開昭６２−５７２９７号公報、特開平２−５２４９９号公報の金属粉末等を含む導電性樹脂を透明基板上に直接印刷した電磁波シールド材料の場合も同様に、印刷精度の限界からライン幅は、１００μｍ前後となり視認性が発現するため適したものではなかった。また、特願平９−１４５０７６号公報に提案されている方法では、電磁波シールド性と透明性を両立することが可能であるが、フィルムをプラスチック板に貼り付ける方式であるため、接地のための外部電極と接続をとる際にプラスチックフィルム及び接着剤層が絶縁層であるために、そのまま接地することが困難であった。これに対し、例えば幾何学図形で描かれた導電性材料がプラスチック板と反対面になるようにフイルムを貼り付けたとしても、接地のための外部電極と接する部位にも幾何学図形が描かれているため、幾何学図形を構成する導電性材料と、外部電極との接触面積が小さくなり良好なシールド性を得られなかった。ディスプレイ前面から発生する電磁波のシールド性については、３０ＭＨｚ〜１ＧＨｚにおける３０ｄＢ以上の電磁波シールド機能の他に、ディスプレイ前面より発生する９００〜１、１００ｎｍの赤外線はリモートコントロールで制御する他のＶＴＲ機器等に悪影響を及ぼすため、これを遮蔽する必要がある。さらに可視光透過性（可視光透過率）が大きいだけでなく、電磁波の漏れを防止するため、接地のための外部電極と電磁波遮蔽構成体が良好に接続することが必要である。しかし、電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性・非視認性の特性を同時に十分満たすものは得られていなかった。本発明はかかる点に鑑み、接地のための外部電極と良好な接続をとることによる高い電磁波シールド性、赤外線遮蔽性、透明性・非視認性有する電磁波シールド性接着フィルム及びそれを用いた電磁波遮蔽構成体、ディスプレイを提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に記載の発明は、接地のための外部電極との接触面積を増大させ、接地のための外部電極との接続を良好にする電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、プラスチックフィルムに接着剤層を介して構成される導電性金属付きプラスチックフィルムにおいて、導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、かつ、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周に前記幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を有することを特徴とする電磁波シールド性接着フィルムである。請求項２に記載の発明は、導電性金属で描かれた幾何学図形と幾何学図形の外周に位置する導電性の額縁部の接触抵抗を小さくするために、額縁部が導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で形成されていることを特徴とするものである。請求項３に記載の発明は、導電性金属で描かれた幾何学図形を有する電磁波シールド性接着フィルムにおいて、プラスチックフィルム面側から接地できる電磁波シールド性接着フィルムを提供するために、導電性の額縁部の少なくとも一部が露出していることを特徴とするものである。請求項４に記載の発明は、導電性の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少なくとも額縁部の一部を露出させるため、接着剤層とプラスチックフィルムの一部または全部を除去するのに、加工性、量産性に優れ、かつ、ドライ工程であるレーザーを用いて形成させたことを特徴とするものである。請求項５に記載の発明は、導電性の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少なくとも額縁部の一部を露出させるため、接着剤層とプラスチックフィルムの一部または全部を、加工性、量産性に優れるサンドブラストを用いて形成させたことを特徴とするものである。
【０００７】請求項６に記載の発明は、幾何学図形を保護するために幾何学図形の部分及び額縁部のすくなくとも一部に接着剤層を介して透明層を設けたことを特徴とするものである。透明層は、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等の導電性金属で描かれた幾何学図形を保護し、透明であればよい。請求項７に記載の発明は、簡易な方法により接地のための外部電極との接続を良好とする電磁波シ−ルド性接着フィルムを提供するため導電性金属付きプラスチックフィルムのプラスチックフィルム側に導電性の額縁部を折り曲げて、プラスチックフィルム側に額縁部の導電性金属が露出されていることを特徴とするものである。請求項８に記載の発明は、接地のための外部電極との接触面積を増大させ、接地のための外部電極との接続を良好にする電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、幾何学図形の外周に導電性テープを貼り付けて額縁部を形成することを特徴としたものである。導電性テープを貼り付け、これが額縁部の機能を果たすため導電性金属で描かれた幾何学図形が外周まであっても良く、額縁部が形成されていても良い。請求項９に記載の発明は、接地のための外部電極との接触面積を増大させ、接地のための外部電極との接続を良好にする電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、幾何学図形の外周に導電性の３次元網目構造体を形成して額縁部とすることを特徴としたものである。導電性の３次元網目構造体は、弾性による復元力があるため密着して取り付けることができる。請求項１０に記載の発明は、接地のための外部電極と良好な接続をするために、額縁部の幅を１〜４０ｍｍの範囲としたものである。
【０００８】請求項１１に記載の発明は、加工性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、プラスチックフィルムの表面に接着剤層を介して導電性金属を設けた導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で形成された幾何学図形がマイクロリソグラフ法により形成されたものであることを特徴とするものである。請求項１２に記載の発明は、退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、導電性材料を銅として、少なくともその表面が黒化処理されていることを特徴とするものである。請求項１３に記載の発明は、透明性、安価、耐熱性良好で取り扱い性に優れた電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、プラスチックフィルムをポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムとするものである。請求項１４に記載の発明は、透明性と非視認性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供するために、導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を１００μｍ以上、ライン厚さを４０μｍ以下とするものである。請求項１５に記載の発明は、加工性や密着性に優れ、安価な電磁波シールド性と非視認性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、導電性金属の厚みが０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルを使用するものである。請求項１６に記載の発明は、赤外線遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供するため、電磁波シールド性接着フィルムを構成するいずれかの層に赤外線吸収剤が含有されていることを特徴とするものである。
【０００９】請求項１７に記載の発明は、透明性と非視認性に優れ、反りが少ない電磁波遮蔽構成体を提供するために、プラスチック板の少なくとも片面に前記の電磁波シールド性接着フィルムを設けたことを特徴とするものである。請求項１８に記載の発明は、透明性と非視認性に優れ、反りが少ない電磁波遮蔽構成体を提供するために、プラスチック板の片面に前記の電磁波シールド性接着フィルムを設け、他面にプラスチックフィルムを設けたことを特徴とするものである。電磁波シールド性接着フィルムは、幾何学図形が形成されている面が、プラスチック板に接しても良いし、反対面側でも良い。また、プラスチックフィルムは、赤外線吸収剤が含有されていたり、防眩処理、反射防止処理、帯電防止処理、耐擦傷性のための硬質化処理、模様、アンチニュートンリング処理や耐熱性のフィルム、保護フィルムであると好ましい。請求項１９に記載の発明は、透明性と非視認性に優れ、反りが少ない電磁波遮蔽構成体を提供するために、プラスチック板の片面に前記の電磁波シールド性接着フィルムを設け、その導電性の額縁部を折り曲げるように変形させ、額縁部がプラスチック板の反対面に達するようにしたことを特徴とするものである。請求項２０に記載の発明は、接地のための外部電極との良好な接触による電磁波漏洩の低減、簡易な取り付け、優れた美観をもつ電磁波遮蔽構成体を提供するために、電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接着フィルムの額縁部の一部に導電性テープを貼り付けたことを特徴とするものである。請求項２１に記載の発明は、接地のための外部電極との良好な接触による電磁波漏洩の低減、簡易な取り付け、優れた美観をもつ電磁波遮蔽構成体を提供するために、前記の電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接着フィルムの少なくとも額縁部に導電性の３次元網目構造体が接していることを特徴とするものである。請求項２２に記載の発明は、電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有する電磁波遮蔽構成体を提供するために、電磁波遮蔽構成体を構成する電磁波シールド性接着フィルム、プラスチック板、プラスチックフィルムまたは接着剤層のすくなくともいずれかに赤外線吸収剤を含有することを特徴とするものである。請求項２３に記載の発明は、上記電磁波遮蔽構成体に防眩性または反射防止性を付与させるために、プラスチック板に設けた電磁波シールド性接着フィルムのプラスチックフィルムまたはプラスチック板若しくはプラスチックフィルム表面に防眩処理または反射防止処理が施されていることを特徴とするものである。請求項２４に記載の発明は、電磁波の漏れを防止し、美観を向上させるため、電磁波遮蔽構成体の周辺部に額縁部と接するように枠体を設けることを特徴とする。
【００１０】請求項２５に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有し、電磁波の漏洩を低減するために接地のための外部電極と良好に接続する電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイに用いたものである。請求項２６に記載の発明は、電磁波シールド性と透明性を有し、電磁波の漏洩を低減するために接地のための外部電極と良好に接続する電磁波遮蔽構成体をディスプレイに用いたものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本発明で使用するプラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などのプラスチックからなるフィルムで全可視光透過率が７０％以上で厚さが１ｍｍ以下のものが好ましい。これらは単層で使うこともできるが、２層以上を組み合わせた多層フィルムとして使用することもできる。前記プラスチックフィルムのうち透明性、耐熱性、取り扱いやすさ、価格の点からポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましい。プラスチックフィルム厚さは、５〜５００μｍがより好ましい。５μｍ未満だと取り扱い性が悪くなり、５００μｍを超えると可視光の透過率が低下してくる。１０〜２００μｍとすることがさらに好ましい。
【００１２】本発明で使用するプラスチック板は、プラスチックからなる板であり、具体的には、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂などの熱可塑性ポリエステル樹脂、酢酸セルロース樹脂、フッ素樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリウレタン樹脂、フタル酸ジアリル樹脂などの熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が挙げれれる。これらの中でも透明性に優れるポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリメチルペンテン樹脂が好適に用いられる。本発明で使用するプラスチック板の厚みは、０．５ｍｍ〜５ｍｍがディスプレイの保護や強度、取扱性から好ましい。
【００１３】本発明の導電性金属として、銅、アルミニウム、ニッケル、鉄、金、銀、ステンレス、タングステン、クロム、チタンなどの金属、あるいは金属の２種以上を組み合わせた合金を使用することができる。導電性や回路加工の容易さ、価格の点から銅、アルミニウムまたはニッケルが適しており、厚さが０．５〜４０μｍの金属箔、めっき金属、蒸着などの真空下で形成される金属が使われる。厚さが４０μｍを超えると、細いライン幅の形成が困難であったり、視野角が狭くなる。また厚さが０．５μｍ未満では、表面抵抗が大きくなり、電磁波シールド効果が劣る傾向にある。
【００１４】導電性金属が銅であり、少なくともその表面が黒化処理されたものであると、コントラストが高くなり好ましい。また導電性金属が経時的に酸化され退色されることが防止できる。黒化処理は、幾何学図形の形成前後で行えばよいが、通常形成後において、プリント配線板分野で行われている方法を用いて行うことができる。例えば、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／ｌ）、燐酸三ナトリウム（１２ｇ／ｌ）の水溶液中、９５℃で２分間処理することにより行うことができる。また導電性金属が、常磁性金属であると、磁場シールド性に優れるために好ましい。かかる導電性金属を上記プラスチックフィルムに密着させる方法としては、アクリルやエポキシ系樹脂を主成分とした加熱または加圧により流動する接着剤層を介して貼り合わせるのが最も簡便である。導電性金属の導電層の厚みを小さくする必要がある場合は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレート法、化学蒸着法、無電解・電気めっき法などの薄膜形成技術のうちの１または２以上の方法を組み合わせることにより達成できる。導電性金属の厚みは４０μｍ以下とすることが好ましく、厚みが薄いほどディスプレイの視野角が広がり電磁波シールド材料として好ましく、１８μｍ以下とすることがさらに好ましい。
【００１５】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形は、正三角形、二等辺三角形、直角三角形などの三角形、正方形、長方形、ひし形、平行四辺形、台形などの四角形、（正）六角形、（正）八角形、（正）十二角形、（正）二十角形などの（正）ｎ角形（ｎは正の整数）、円、だ円、星型などを組み合わせた模様であり、これらの単位の単独の繰り返し、あるいは２種類以上組み合わせで使うことも可能である。電磁波シールド性の観点からは三角形が最も有効であるが、可視光透過性の点からは同一のライン幅なら（正）ｎ角形のｎ数が大きいほど開口率が上がるが、可視光透過性の点から開口率は５０％以上であることが好ましい。開口率は、６０％以上がさらに好ましい。開口率は、電磁波シールド性接着フィルムの有効面積に対する有効面積から導電性金属で描かれた幾何学図形の導電性金属の面積を引いた面積の比の百分率である。ディスプレイ画面の面積を電磁波シールド性接着フィルムの有効面積とした場合、その画面が見える割合となる。
【００１６】このような幾何学図形を形成させる方法としては、導電性金属付きのプラスチックフィルムをマイクロリソグラフ法で作製するのが回路加工の精度および回路加工の効率の点から有効である。このマイクロリソグラフ法には、フォトリソグラフ法、Ｘ線リソグラフ法、電子線リソグラフ法、イオンビームリソグラフ法などがあり、これらの他にスクリーン印刷法なども含まれる。これらの中でも、その簡便性、量産性の点からフォトリソグラフ法が最も効率がよい。なかでも、ケミカルエッチング法を使用したフォトリソグラフ法は、その簡便性、経済性、回路加工精度などの点から最も好ましい。フォトリソグラフ法の中ではケミカルエッチング法の他にも無電解めっきや電気めっきによる方法、または無電解めっきや電気めっきとケミカルエッチング法を組み合わせて幾何学図形を形成することも可能である。
【００１７】このような幾何学図形のライン幅は４０μｍ以下、ライン間隔は１００μｍ以上、ライン厚みは４０μｍ以下の範囲とするのが好ましい。また幾何学図形の非視認性の観点からライン幅は２５μｍ以下、可視光透過率の点からライン間隔は１２０μｍ以上、ライン厚み１８μｍ以下がさらに好ましい。ライン幅は、４０μｍ以下、好ましくは２５μｍ以下が好ましく、あまりに小さく細くなると表面抵抗が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので１μｍ以上が好ましい。ライン厚みは４０μｍ以下が好ましく、あまりに厚みが薄いと表面抵抗が大きくなりすぎてシールド効果に劣るので０．５μｍ以上が好ましく、さらに１μｍ以上がさらに好ましい。ライン間隔は、大きいほど開口率は向上し、可視光透過率は向上する。前述のようにディスプレイ前面に使用する場合、開口率は５０％以上が好ましいが、６０％以上がさらに好ましい。ライン間隔が大きくなり過ぎると、電磁波シールド性が低下するため、ライン間隔は１０００μｍ（１ｍｍ）以下とするのが好ましい。なお、ライン間隔は、幾何学図形等の組合せで複雑となる場合、繰り返し単位を基準として、その面積を正方形の面積に換算してその一辺の長さをライン間隔とする。
【００１８】本発明で用いる接着剤層となる接着剤は、以下に示すものが代表的なものとして挙げられる。この接着剤層は、加熱または加圧により流動し接着機能を有するものであれば好ましい。本発明の電磁波シールド性接着フィルムは、プラスチックフィルムの上に接着剤層があり、その上の導電性金属で描かれた幾何学図形が形成されている。接着剤層はプラスチックフィルムと導電性金属で描かれた幾何学図形を接着しており、更にこれを被着体であるディスプレイ、プラスチック板、プラスチックフィルム、ガラス板等に接着するとき、接着剤層が、幾何学図形の形成されていない空間を介して流動し被着体と接着する。このために接着剤層は、加熱または加圧により流動することが好ましい。また、幾何学図形を形成し接着性を向上するために導電性金属の接着面が粗化されている場合、接着剤層にこの粗化面が転写され、粗化面で光が乱反射されるが、接着剤層の流動の際に、粗化面の転写形状が流動により解消され光線透過性の向上が図れる。これらのことから接着剤層は、加熱、加圧により流動することが必要であり、熱可塑性、熱硬化性、活性光線硬化性樹脂等の接着剤組成物が好ましい。
【００１９】これらの接着剤として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、テトラヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ポリアルコール・ポリグリコール型エポキシ樹脂、ポリオレフィン型エポキシ樹脂、脂環式やハロゲン化ビスフェノールなどのエポキシ樹脂を使用することができる。エポキシ樹脂以外では天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ−１、２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテン、ポリ−２−ヘプチル−１、３−ブタジエン、ポリ−２−ｔ−ブチル−１、３−ブタジエン、ポリ−１、３−ブタジエンなどの（ジ）エン類、ポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリビニルエチルエーテル、ポリビニルヘキシルエーテル、ポリビニルブチルエーテルなどのポリエーテル類、ポリビニルアセテート 、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル類、ポリウレタン、エチルセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリル、ポリスルホン、ポリスルフィド、フェノキシ樹脂などを挙げることができる。これらは好適な可視光透過率を発現する。
【００２０】接着剤の硬化剤としてはトリエチレンテトラミン、キシレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのアミン類、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水ドデシルコハク酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸などの酸無水物、ジアミノジフェニルスルホン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ポリアミド樹脂、ジシアンジアミド、アルキル置換イミダゾールなどを使うことができる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。また、使用しなくてもよい。これらの硬化剤（架橋剤）の添加量は上記ポリマー１００重量部に対して０．１〜５０重量部、好ましくは１〜３０重量部の範囲で選択するのがよい。この量が０．１重量部未満であると硬化が不十分となり、５０重量部を超えると過剰架橋となり、接着性に悪影響を与える場合がある。本発明で使用する接着剤には必要に応じて、希釈剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填剤や粘着付与剤などの添加剤を配合してもよい。そしてこの接着剤層は、プラスチックフィルムの表面に塗布され、導電性金属を貼り合わせ導電性金属付きプラスチックフィルムを形成する。
【００２１】本発明でいう導電性の額縁部とは、導電性金属で描かれた幾何学図形と同じ面にあり、導電性材料により幾何学図形の外周に額縁状に形成されたものである。額縁部は、導電性材料で描かれた幾何学図形と電気的に接続され、接地のための外部電極と良好に接続される。本発明における電磁波シールド性接着フィルムの平面図を図１（ａ）に示す。導電性金属で描かれた幾何学図形（２）の外周に導電性の額縁部（１）が形成される。以下に電磁波シールド性接着フィルムの構成を、電磁波シールド性接着フィルムの断面図により例示する。電磁波シールド性接着フィルムの構成は、図１（ｂ）に示したように、プラスチックフィルム（３）に接着剤層（４）を介して導電性金属で描かれた幾何学図形（２）が形成され、その外周に導電性の額縁部（１）が形成される。また、図１（ｃ）に示したように、プラスチックフィルム（３）に接着剤層（４）を介して導電性金属で描かれた幾何学図形（２）が形成され、その外周に導電性の額縁部（１）が露出して形成されている。この額縁部（１）が露出した構成は、電磁波シールド性接着フィルムの額縁部を支持する接着剤層やプラスチックフィルムの一部若しくは全部を除去して形成することができる。接着剤層やプラスチックフィルムの一部若しくは全部を除去する方法として、遮蔽治具を介してレーザやサンドブラストを用いることにより容易に行うことができる。遮蔽治具は、レーザの場合は、金属板を加工して額縁部の形状に貫通部を設け、貫通部を額縁部の形成位置に合わせて電磁波シールド性接着フィルムのプラスチック面に載置し、金属板をレーザの遮蔽物として用いる。一方、サンドブラストの場合も同様に、耐摩耗性の材料であるゴム、フォトレジスト等を遮蔽物にして用いる。導電性の額縁部（１）を形成させるには、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周に、額縁部を形成する金属箔、導電性テープ、導電性の３次元網目構成体を後で設けることにより行うこともできる。幾何学図形の導電性金属と額縁部の電気的な接続は、電磁波シールド性接着フィルムの接着剤層により金属箔等を額縁部として用い接着し、額縁部の金属箔と導電性金属の幾何学図形との接触による接続でも良いし、金属箔または導電性金属の幾何学図形にはんだペーストを塗布しておき、加熱溶融させての接続でも良い。また、導電性接着剤による接着でも良い。
【００２２】図１（ｄ）には、プラスチックフィルム（３）に接着剤層（４）を介して導電性金属で描かれた幾何学図形（２）が形成され、その外周に導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で導電性の額縁部（１）が形成され、さらに、接着剤層を介して透明層（５）が幾何学図形の上に額縁部の全てを覆わないように貼りあわせて額縁部を露出させた例を示した。透明層（５）は、プラスチックフィルム、プラスチック板、ガラス板等であり、この構成では、ディスプレイに直接あるいは治具を介して設置することができる。 図１（ｅ）は、導電性の額縁部（１）をプラスチックフィルム（３）側に折り曲げてプラスチックフィルム側に額縁部を露出させた例である。図１（ｆ）は、プラスチックフィルム（３）に接着剤層（４）を介して導電性金属で描かれた幾何学図形（２）が形成され、その外周に導電性接着剤や導電性テープ等の導電性材料（６）により額縁部（１）を形成した例である。図１（ｇ）は、プラスチックフィルム（３）に接着剤層（４）を介して導電性金属で描かれた幾何学図形（２）が形成され、その外周に導電性の３次元網目構造体（７）により額縁部（１）を形成した例である。図１（ａ）〜（ｇ）に本発明の電磁波シールド性接着フィルムの例を示したが、本発明は、これらの構成に限るものではない。図１（ｂ）の構成では、額縁部を形成する導電性金属が幾何学図形の導電性金属と接続されているため、接地のための外部電極との接続抵抗が低く良好な電磁波シールド性を発現させることができる。図１（ｂ）の構成では、プラスチック板に導電性金属で描かれた幾何学図形の面を、その接着剤層を利用して貼り合わせた場合、額縁部の下層にある接着剤層やプラスチックフィルムが絶縁層となるために、接地のための外部電極との電気的な接続が困難になる。これを解決したのが図１（ｅ）の構成で、導電性金属で描かれた幾何学図形（２）の面をプラスチック板に貼り合わせたとき、額縁部が折り曲げられているため外層側に接地のための電極となる額縁部があり電気的接続が容易になる。折り曲げ方は、そのまま折り曲げてもよいが４隅が嵩高くなるため、例えば４隅に切り込みを入れて折り曲げることが好ましい。また、額縁部が形成されている部分のプラスチックフィルムに両面粘着テープを貼り付ける等により折り曲げた部分を固定してもよい。一方、同様に図１（ｃ）の構成では、プラスチック板に導電性金属で描かれた幾何学図形（２）の面を貼り合わせると、額縁部が露出しているため接地のための外部電極との電気的接続が容易となる。図１（ｄ）の構成では、プラスチックフィルム（３）側をディスプレイやプラスチック板に貼り合わせた場合、外層となる幾何学図形を透明層（５）で保護し、接地のための外部電極との接続が容易なように額縁部を露出させてある。貼り合わせるプラスチックフィルム（３）あるいは透明層（５）に、赤外線遮蔽機能、防眩、反射防止機能を付与させてもよい。図１（ｆ）及び（ｇ）の構成では、幾何学図形と接地のための外部電極との接続抵抗を低下させるために、導電性接着剤や導電性テープ等の導電性材料（６）あるいは導電性の３次元網目構造体（７）により、幾何学図形の導電性金属の上に導電性の額縁部（１）を形成しているため、使用する機器のサイズに規制されずに容易に額縁部を形成できる。この構成は、図１（ｅ）のように額縁部を折り曲げることもできる。上記した額縁部の幅としては、接地のための外部電極との接続を良好にするため１〜４０ｍｍとすることが好ましい。２０ｍｍを超えると額縁部の幅が広すぎ、専有面積が大きくなるため好ましくは、５〜１５ｍｍがよい。図１（ｅ）のように折り曲げる場合は、額縁部の幅を広めに取ることもできる。
【００２３】本発明の電磁波遮蔽構成体は、図１の（ａ）〜（ｇ）の構成をした電磁波シールド性接着フィルムをプラスチック板の少なくとも片面に設けた構成である。また、電磁波シールド性接着フィルムを、導電性幾何学図形が描かれている面を接着剤層を介してプラスチック板に設け、他面に接着剤層を介してプラスチックフィルムを設けた電磁波遮蔽構成体である。このような電磁波遮蔽構成体は、電磁波の漏洩を抑制し良好な電磁波シールド性を得るために接地のための外部電極に接触させることが好ましい。接地のための外部電極と上記電磁波遮蔽構成体の接続抵抗が高かったり、あるいは密着性が不十分であると十分な電磁波シールド性が得られない。
【００２４】本発明における電磁波遮蔽構成体の斜視図を図２（ａ）に示した。プラスチック板（１１）の片面に電磁波シールド性接着フィルム（８）を、プラスチック板（１１）の他面に接着剤層（１２）を介してプラスチックフィルム（１３）を貼り合わせた構成例である。この電磁波遮蔽構成体の断面図を図２（ｂ）〜（ｅ）に示した。図２（ｂ）の構成は、プラスチック板（１１）の片面に電磁波シールド性接着フィルム（８）の幾何学図形の描かれている面を、他面に接着剤層（１２）を介してプラスチックフィルム（１３）を貼り合わせてある。図２（ｃ）の構成は、プラスチック板（１１）の片面に電磁波シールド性接着フィルム（８）のプラスチックフィルム（３）面を接着剤層（１２）を介して貼り合わせ、プラスチック板（１１）の他面に接着剤層（１２）を介してプラスチックフィルム（１３）を貼り合わせてある。電磁波遮蔽構成体を接地のための外部電極に接触させる場合、電磁波遮蔽構成体と接地のための外部電極との密着性を向上させるために、導電性テープや導電性の３次元網目構造体等のクッション性のある導電性材料（６）を電磁波遮蔽構成体の額縁部に形成させておくことが好ましい（図２（ｄ）、（ｅ））。図３は、図２に例示した電磁波遮蔽構成体の額縁部に導電性の枠体（２１）を設けた例である。枠体（２１）は、導電性金属で描かれた幾何学図形（２）と電気的に接続された導電性の額縁部（１）と接地のための外部電極とを接続したり、美観を向上させる。外部電極との接続のためには、枠体の表面は、導電性である必要があり、アルミニウム、真鍮などの金属やプラスチックの必要な部分にメッキを施したり、プラスチックに金属粉、導電性短繊維等の導電性材料を分散させたものでもよい。枠体の断面は、「コ」の字形状をしていると、電磁波遮蔽構成体にはめ込み固定することができるので好ましい。固定は、枠体の変形による復元力を利用したり、ねじやビス、接着剤を使用しても良い。枠体の断面が「コ」の字状であると枠体の凹部内側に銅箔等の金属箔を挿入し、全面が導電性金属で描かれた幾何学図形の外周にこれをはめ込むことにより枠体の金属箔と幾何学図形を圧接することができ好ましい。この場合、幾何学図形と接している金属箔が額縁部となる。
【００２５】図３（ａ）は、電磁波遮蔽構成体に枠体（２１）を設けたときの斜視図であり、図３（ｂ）〜（ｇ）は、その断面図である。図３（ａ）は、電磁波シールド性接着フィルムの外周に設けた導電性の額縁部に枠体（２１）をはめ込み固定した電磁波遮蔽構成体である。図３（ｂ）は露出した額縁部の全部に枠体（２１）をはめ込み接触させた例で、（ｃ）は、額縁部の一部に枠体（２１）をはめ込み接触させた例である。図３（ｄ）は、枠体（２１）を「Ｌ」字の形状にして電磁波シールド性接着フィルムの額縁部とプラスチック板の端部側面だけに枠体を設けた構成である。額縁部と枠体の導電性部分との接触が十分でないときは、導電性の額縁部に額縁部や枠体よりやや硬い金属粉体を載せ、金属粉体を額縁部や枠体に食い込ませて接触導通の確実性を増すことも有効である。なお、プラスチック板の端部側面と枠体は接着剤で固定した。図３（ｅ）は、図２（ｃ）の電磁波遮蔽構成体に枠体（２１）を設けた例である。図３（ｆ）は、図１（ｄ）の電磁波シールド性接着フィルム（８）の幾何学図形が形成されている面に透明層（５）を設け、プラスチックフィルム（３）側に接着剤層（１２）を介してプラスチック板（１１）の片面に積層し、さらに、プラスチック板の他面に接着剤層（１２）を介しプラスチックフィルム（１３）を貼り合わせた電磁波遮蔽構成体（１０）に枠体を設けた例である。上記した枠体（２１）は、これに限らず金属箔、導電性接着剤、導電性テープ等の導電性材料とすることもできる。上記した構成は、一例であり、組み合わせは多数ある。
【００２６】上記電磁波シールド性接着フィルムや電磁波遮蔽構成体のいずれかの面には、赤外線遮蔽性を有する層、反射防止処理を有する層、防眩処理を有する層、表面硬度の高い耐擦性を有する層を形成することができる。これらは例示であり、この他の形態で使用することもできる。ガラス板の片面に電磁波シールド性接着フィルムを接着し、このガラス板をディスプレイ前面に取り付けガラス面がディスプレイ装置の外側になるようにしても良い。
【００２７】本発明では、レーザにより導電性の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少なくともその額縁部の一部を露出することが好ましい。レーザは、ＹＡＧレーザ、炭酸ガスレーザ、ＴＥＡ 炭酸ガスレーザ、アルゴンイオンレーザ、エキシマレーザ等があるが、本構成の場合除去面積が広く、ＰＥＴフィルム及び接着剤層をあわせると５０μｍ以上の深度で除去しなければならないこと、また、量産性の点からできるだけ短時間に加工する必要があることからＹＡＧレーザ、炭酸ガスレーザ、ＴＥＡ 炭酸ガスレーザが好ましい。電磁波シールド性接着フィルムの外周に導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を形成するため、プラスチックフィルム面側から加工する加工面のレーザーの出力が小さいと額縁部部分のプラスチックフィルムと接着剤層の除去が不十分であり、大きすぎると額縁部部分の導電性金属が破れてしまうため、１０〜１００Ｗが好ましく、２０〜４０Ｗがさらに好ましい。
【００２８】本発明では額縁部を形成するため、サンドブラストにより導電性の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少なくともその額縁部の一部を露出させる。サンドブラスト処理は、マスクされていない部分に研磨剤を吹き付けて非マスク部分を選択的に食刻することにより行なわれる。サンドブラストに用いるブラスト材としては、ガラスビーズ、アルミナ、シリカ、炭化ケイ素、酸化ジルコニウム等の粒径０．１〜１５０μｍ程度の微粒子が用いられる。本発明においては、額縁部以外の一部または全部をマスク材で覆い、額縁部のプラスチックフィルム及び接着剤を除去する。マスク材は、ゴム、フォトレジスト、プラスチックフィルム、プラスチック板、金属、セラミック、木材等、サンドブラストの工程で傷がつかないように保護できるものなら制限はない。
【００２９】本発明では、導電性金属で描かれた幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部が幾何学図形の外周に形成した導電性の３次元網目構造体を使用することもできる。導電性３次元網目構造体は、例えばウレタンフォーム等の３次元網目構造をもつ合成樹脂発泡体に無電解金属メッキ触媒等で前処理し、メッキ槽中でニッケル、銅等の金属層を無電解メッキさせて電気メッキと組み合わせてメッキ金属の厚みを増し、その後焼成し樹脂を分解焼失させて、発泡樹脂の形状を転写して作製した電着金属の３次元網目構造体や、ウレタンフォーム等の３次元網目構造をもつ合成樹脂発泡体を、金属粉と増粘性高分子と溶剤を混合し調製したスラリーに浸し、発泡体の骨格に金属粉を塗着させ、その後熱処理することにより合成樹脂発泡体を分解焼失させると共に金属粉の焼結を行い発泡樹脂の形状を転写し作製した金属の３次元網目構造体や、ウレタンフォーム等の連続気泡構造を有する合成樹脂発泡体に粘着剤溶液を含浸させ乾燥した後、金属粉を揺動により合成樹脂発泡体に付着させ、その後焼成し樹脂を分解焼失させると共に金属粉を焼結して発泡樹脂の形状を転写して作製することができる。
【００３０】本発明の電磁波シ−ルド性接着フィルムや電磁波遮蔽構成体では、プラスチック板に設けた電磁波シールド性接着フィルムのプラスチックフィルムまたはプラスチック板若しくはプラスチックフィルム表面に、防眩処理または反射防止処理が施されていると好ましい。以下に、これらの処理をプラスチックフィルムに形成することを代表例として示す。プラスチック板等においても同様に実施することができる。反射防止処理は、可視光の反射を防止することにより可視光の透過率を増加させることをいう。この反射防止処理は、反射防止層の塗布厚と屈折率によって最小反射波長が規定され、ｎｄ＝（ｍ＋１／２）λ／２ (ｎ：屈折率、ｄ：塗布厚、λ：波長、ｍ＝０，１，２，３，…)によって示される。すなわち、ｎは物質によって定まるので、膜厚の調節によって反射率最小の（透過率最大）の波長を選択することができる。また、反射防止層には、プラスチックフイルムとは異なる屈折率を有する単層構造または２層以上の多層構造とされたものがある。単層構造のものでは、プラスチックフイルムに比べ小さな屈折率を有する材料が選定される。一方、反射防止処理により優れる多層構造とする場合、プラスチックフイルムに比べ大きな屈折率を有する材料層を設け、この上にこれより小さな屈折率を有する材料層を設けるというように隣接層相互間で屈折率の異なる材料構成とされるが、より好ましくは３層以上の多層構造として最外層の屈折率がこれに隣接する仮想の屈折率よりも小さくなるような材料構成とするのがよい。このような反射防止層を構成させるための材料としては、公知のいかなる材料を使用してもよいが、例えば、CaF2、MgF2、NaAlF6、Al2O3、SiOx(x=1〜2)、ThF4、ZrO2、Sh2O3、Nd2O3、SnO2、TiO2、などの誘電体が挙げられ、その屈折率及び膜厚が前記関係を満たすように適宜選択される。
【００３１】防眩処理は、ディスプレイのちらつき感や目の疲れを防止するものであり、このような防眩処理層を構成させるための材料としては公知のいかなる材料を使用してもよいが、好ましくは無機のシリカを含む層である。かかる無機シリカ層が、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂やビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂などのエポキシ系樹脂、ポリイソプレン、ポリ−１，２−ブタジエン、ポリイソブテン、ポリブテンなどのジエン系樹脂、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレートなどからなるポリアクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアセテート、ポリビニルプロピオネートなどのポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ＥＶＡなどのポリオレフィン系樹脂及びシリコン系樹脂などの硬化型樹脂中に分散結着された硬化皮膜が防眩処理層として好ましく用いられる。
【００３２】この防眩処理層の皮膜の形成に際しては、まず樹脂中にシリカ粒子を配合し必要に応じて帯電防止剤、重合開始剤などの各種の添加剤を加えた組成物を、通常溶剤で希釈して固形分が約２０〜８０重量％となる防眩処理剤を調製する。ここで用いるシリカ粒子は、非晶質で多孔性のものであり、代表例としてシリカゲルを挙げることができる。平均粒子径としては、通常３０μｍ以下、好ましくは２〜１５μｍ程度であるのがよい。また、配合割合は樹脂１００重量部に対してシリカ粒子が０．１〜１０重量部となるようにするのが好ましい。少なすぎると防眩効果に乏しくなりまた、多くなりすぎると可視光線透過率や皮膜強度を低下させることになる。この防眩処理剤をプラスチックフイルムの一面に適当な手段例えば一般的な溶液塗工手段であるグラビアコータ、リバースコータ、スプレーコータなどの手段により乾燥後の膜厚が通常５〜３０μｍ程度となるように塗布し、加熱乾燥後、紫外線照射、電子線照射あるいは加熱により硬化させると好ましい。このようにして得られるシリカ粒子含有の皮膜からなる防眩処理層は、この処理層を有するプラスチックフイルムをプラスチック基板に貼り合わせたとき、この基板に対して良好な防眩性を付与し、かつ皮膜の硬度が高くて耐スクラッチ性に優れるため、プラスチックの耐摩傷性の向上に大きく寄与することになる。なお、このような防眩処理層の形成に先立って、被着面、すなわちプラスチックフイルムの表面に対し前処理としてコロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、易接着処理を施してもよく、これにより上記プラスチックフイルムと防眩処理層との密着性を高めることができる。
【００３３】本発明では、電磁波シールド性接着フィルムやプラスチック板に設けた電磁波シールド性接着フィルム、プラスチックフィルム、接着剤層等の電磁波遮蔽構成体中に赤外線吸収剤を含有することが好ましい。赤外線吸収剤は、９００〜１、１００ｎｍの領域における赤外線吸収率が高いことが好ましく、酸化鉄、酸化セリウム、酸化スズ、酸化アンチモンなどの金属酸化物、またはインジウム−スズ酸化物（以下ＩＴＯ）、六塩化タングステン、塩化スズ、硫化第二銅、クロム−コバルト錯塩、チオール−ニッケル錯体またはアミニウム化合物、ジイモニウム化合物（日本化薬株式会社製）などの有機系赤外線吸収剤などを上記した接着剤層、プラスチックフィルム、プラスチック板中に含有させたり、バインダー樹脂中に分散させた組成物をプラスチックの一面に塗布して使用することができる。これらの赤外線吸収性化合物のうち、最も効果的に赤外線を吸収する効果があるのは、硫化第二銅、ＩＴＯ、アミニウム化合物、ジイモニウム化合物などの有機系赤外線吸収剤である。ここで注意すべきことはこれらの化合物の一次粒子の粒径である。粒径が赤外線の波長より大きすぎると遮蔽効率は向上するが、粒子表面で乱反射が起き、ヘイズが増大するため透明性が低下する。一方、粒径が赤外線の波長に比べて小さすぎると遮蔽効果が低下する。好ましい粒径は０．０１〜５μｍで０．１〜３μｍがさらに好ましい。赤外線吸収剤は、接着剤層の接着剤やバインダー樹脂中に均一に分散される。その配合の最適量は、接着剤やバインダー樹脂１００重量部に対して赤外線吸収剤が０．０１〜１０重量部であるが、０．１〜５重量部がさらに好ましい。０．０１重量部未満では赤外線遮蔽効果が少なく、１０重量部を超えると透明性が損なわれる。バインダー樹脂組成物の場合は、プラスチックフィルムの少なくともいずれかの面に０．１〜１０μｍの厚さで塗布される。塗布された、赤外線吸収剤を含む組成物は熱やＵＶを使用し硬化させてもよい。バインダー樹脂の上に接着剤層を形成することもできる。赤外線吸収剤は、接着剤層となる接着剤組成物に直接混合して使用することが製造上簡易であり好ましい。
【００３４】
【実施例】次に実施例に於いて本発明を具体的に述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。
＜電磁波シールド性接着フィルム作製例１＞プラスチックフィルムとして厚さ５０μｍの防眩処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム（ダイアハードＥＸ-２０５；麗光株式会社製商品名）を用い、その上に接着層となる厚み２０μｍの後述する接着剤組成物を介して導電性金属である厚さ１８μｍの電解銅箔を、その粗化面が接着剤側になるようにして、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍの条件で加熱ラミネートして接着させ銅箔付きＰＥＴフィルムを得た。幾何学図形と幾何学図形の外周に幅１０ｍｍの額縁部となるようにしたネガフィルムを用いて、得られた銅箔付きＰＥＴフィルムにフォトリソ工程（レジストフィルム貼付け−露光−現像−ケミカルエッチング−レジストフィルム剥離）を経て、ライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの額縁部を有する銅格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、その後、亜塩素酸ナトリウム３１ｇ／ｌ、リン酸三ナトリウム１２ｇ／ｌ、水酸化ナトリウム１５ｇ／ｌの水溶液中、９５℃２分間処理することにより銅の表面を黒化処理して電磁波シールド性接着フィルム１を得た（図１（ｂ）の構成）。
【００３５】＜電磁波シールド性接着フィルム作製例２＞電磁波シールド性接着フィルム１の額縁部を、ＰＥＴフィルム側から、ＩＭＰＡＣＴ Ｌ５００（住友重機械工業株式会社製商品名）を用いて、電圧２０ｋＶ、周波数１５０Ｈｚ、スキャンスピード２００ｍｍ／ｍｉｎの条件でレーザ加工を行い、額縁部のＰＥＴフィルム及び接着剤層を除去し、電磁波シールド性接着フィルム２を得た（図１（ｃ）の構成）。
【００３６】＜電磁波シールド性接着フィルム作製例３＞反射防止処理を施したＰＥＴフィルム（リアルック１３００；日本油脂株式会社製商品名、厚み５０μｍ）の反射防止処理を施していない面に、電磁波シールド性接着フィルム作製例１で使用した接着剤組成物を用いて乾燥塗布厚が２０μｍになるように塗布して作製した接着フィルムを、電磁波シールド性接着フィルム１の幾何学図形の上に、額縁部を全て覆わないように、１８０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍの条件で加熱ラミネートして接着させ、電磁波シールド性接着フィルム３を得た（図１（ｄ）の構成）。
【００３７】＜電磁波シールド性接着フィルム作製例４＞厚さ２５μｍの透明ＰＥＴフィルム上に後述する厚み３０μｍの接着剤層となる接着剤組成物を介して厚さ２５μｍのアルミ箔を接着させた。このアルミ箔付きＰＥＴフィルムの外周に幅３０ｍｍの額縁部となるようにしたネガフィルムを用いて電磁波シールド性接着フィルム作製例１と同様のフォトリソ工程を経て、ライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍ、額縁部３０mmを有するアルミ格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、額縁部をＰＥＴフィルム側に折り畳んで電磁波シールド性接着フィルム４を得た（図１（ｅ）の構成）。
【００３８】＜電磁波シールド性接着フィルム作製例５＞厚さ５０μｍのＰＥＴフィルム上に、マスク層を用いて無電解ニッケルめっきを格子状に形成することによりライン幅１２μｍ、ライン間隔５００μｍ、厚み２μｍのニッケル格子パターンをＰＥＴフィルム上に作製して、幾何学図形を有する面の外周に導電性テープ（ＣＨＯ-ＦＯＩＬ ＣＣＨ；太陽金網株式会社製商品名）を幅１５ｍｍで貼り付け額縁部を形成し、電磁波シールド性接着フィルム５を得た（図１（ｆ）の構成）。
【００３９】＜電磁波シールド性接着フィルム作製例６＞電磁波シールド性接着フィルム作製例１で得た銅箔付きＰＥＴフィルムに幾何学図形だけを有するネガフィルムを用いて、電磁波シールド接着フィルム作製例１と同様のフォトリソ工程を経て、ライン幅２５μｍ、ライン間隔２５０μｍの銅格子パターンをＰＥＴフィルム上に形成し、幾何学図形を有する面の外周に、ポリウレタンフォームを基体骨格とした発泡金属銅（日立化成工業工業株式会社製、厚み５ｍｍ）を室温、５ｋｇｆ／ｃｍ2の圧力で、幅１５ｍｍに貼り付けて額縁部を形成し、電磁波シールド性接着フィルム６を得た（図１（ｇ）の構成）。
【００４０】＜接着剤組成物＞５００ｃｍ3の三つ口フラスコにトルエン２００ｃｍ3、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）５０g、メタクリル酸エチル（ＥＡ）５g、アクリルアミド（ＡＭ）２g、ＡＩＢＮ２５０mgを入れ、窒素でバブリングさせながら１００℃で３時間、還流中で攪拌を行った。メタノールで再沈殿させて得られたポリマーをろ過後、減圧乾燥して得られたポリアクリル酸エステルの収率は７５％であった。これを接着剤組成物の主成分とした。
ポリアクリル酸エステル（MMA／EA／AM=８８／９／３、Ｍｗ=７０万）
１００重量部トルエン ４５０重量部酢酸エチル １０重量部【００４１】
＜赤外線遮蔽層をなす組成物＞バイロンＵＲ―１４００（東洋紡績株式会社製商品名；飽和ポリエステル樹脂、Ｍｎ=４万） １００重量部ＩＲＧ―０２２（赤外線吸収剤：日本化薬株式会社製商品名；アミニウム化合物） １．２重量部ＭＥＫ ２８５重量部シクロヘキサノン ５重量部【００４２】（実施例１）反射防止処理を施したＰＥＴフィルム（リアルック１３００；日本油脂株式会社製商品名）の反射防止処理が施されていない面に上述の赤外線遮蔽層をなす組成物を乾燥塗布厚が１０μｍとなるように塗布して得た赤外線遮蔽性を有する接着フィルムの接着剤面と、電磁波シールド性接着フィルム２の幾何学図形の描かれている面を、市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製、厚み３ｍｍ）に、１１０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ2、３０分の条件で熱プレス機を使って加熱圧着して得られた電磁波遮蔽構成体を実施例１とした（図２（ｂ）の構成）。
【００４３】（実施例２）電磁波シールド性接着フィルム１の幾何学図形の描かれていないＰＥＴフィルム側に上記の接着剤組成物を乾燥塗布厚が１０μｍとなるように塗布した面と、反射防止処理を施したＰＥＴフィルム（リアルック１３００；日本油脂株式会社製商品名）の反射防止処理が施されていない面に上述の赤外線遮蔽層をなす組成物を乾燥塗布厚が１０μｍとなるように塗布して得た赤外線遮蔽性を有する接着フィルムの接着剤面とをロールラミネータを使用し、市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製商品名、厚み３ｍｍ）に、１１０℃、２０Ｋｇｆ／ｃｍ2の条件で加熱圧着して得られた電磁波遮蔽構成体を実施例２とした（図２（ｃ）の構成）。
【００４４】（実施例３）電磁波シールド性接着フィルム５を用いた以外は全て実施例２と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例３とした（図２（ｄ）の構成）。
【００４５】（実施例４）電磁波シールド性接着フィルム６を用いた以外は全て実施例２と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例４とした（図２（ｅ）の構成）。
【００４６】（実施例５）実施例１で得た電磁波遮蔽構成体の額縁部及びアクリル板の側部及び赤外線遮蔽層を形成したフィルムを幅２３ｍｍの導電性テープ（ＣＨＯ-ＦＯＩＬ ＣＣＨ；太陽金網株式会社製商品名）で枠状に覆って得られた電磁波遮蔽構成体を実施例５とした（図３（ｂ））。
【００４７】（実施例６）導電性テープの代りに三次元網目構造体である幅２３ｍｍ、厚み５ｍｍのポリウレタンフォームを基体骨格とした発泡金属銅（日立化成工業株式会社製）を、実施例１で得た電磁波遮蔽構成体の額縁部及びアクリル板の側部及び赤外線遮蔽層を形成したフィルムを枠状に覆い、常温、５ｋｇｆ／ｃｍ2で、圧着して得た電磁波遮蔽構成体を実施例６とした。
【００４８】（実施例７）実施例５の導電性テープを、額縁部の金属を５ｍｍ露出させるように覆った以外は全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例７とした（図３（ｃ））。
【００４９】（実施例８）実施例５の導電性テープを、額縁部とアクリル板の側部だけを覆うように貼り付けて得た電磁波遮蔽構成体を実施例８とした（図３（ｄ））。
【００５０】（実施例９）実施例２で得た電磁波遮蔽構成体を用い、電磁波遮蔽構成体の額縁部及びアクリル板の側部及び赤外線遮蔽層を形成したフィルムを幅２３ｍｍの導電性テープ（ＣＨＯ-ＦＯＩＬ ＣＣＨ；太陽金網株式会社製商品名）で枠状に覆って得られた電磁波遮蔽構成体を実施例９とした（図３（ｅ））。
【００５１】（実施例１０）電磁波シールド性接着フィルム３を用いた以外は全て実施例９と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１０とした（図３（ｆ））。
【００５２】（実施例１１）電磁波シールド性接着フィルム４を用いた以外は全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１１とした（図３（ｇ））。
【００５３】（実施例１２）ライン幅を２５μｍから３５μｍにした以外は全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１２とした。
【００５４】（実施例１３）ライン幅を２５μｍから１２μｍにし全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１３とした。
【００５５】（実施例１４）ライン間隔を２５０μｍから５００μｍにした以外は全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１４とした。
【００５６】（実施例１５）ライン間隔を２５０μｍから１５０μｍにした以外は全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１５とした。
【００５７】（実施例１６）電磁波シールド性接着フィルム作製例２で形成した格子パターンの代わりに正三角形の繰り返しパターンを作製した以外は全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１６とした。なお、正三角形は、図４（ａ）に示すものとした。
【００５８】（実施例１７）電磁波シールド性接着フィルム作製例２で形成した格子パターンの代わりに正八角形と正方形よりなる繰り返しパターンを作製した以外は全て実施例５と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を実施例１７とした。なお、正八角形と正方形の繰り返しパターンは、図４（ｂ）に示すものとした。
【００５９】（比較例１）銅箔の代わりにＩＴＯ膜を２、０００Å全面蒸着させたＩＴＯ蒸着ＰＥＴを使い、パターンを形成しないで、蒸着面と反対面のフィルムに厚み５μｍの接着剤組成物を塗布して、市販のアクリル板（コモグラス；株式会社クラレ製、厚み３ｍｍ）に、１１０℃、３０ｋｇｆ／ｃｍ2、３０分の条件で熱プレス機を使って加熱圧着して得られた電磁波遮蔽構成体の額縁部及びアクリル板の側部と周辺部を幅２３ｍｍの導電性テープ（ＣＨＯ-ＦＯＩＬ ＣＣＨ；太陽金網株式会社製商品名）で枠状に覆って得られた電磁波遮蔽構成体を比較例１とした。
【００６０】（比較例２）比較例１と同様にＩＴＯに代えて全面アルミ蒸着（２００Å）したままパターンを形成しないで、蒸着面と反対面のフィルムに厚み５μｍの接着剤組成物を塗布して、比較例１と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を比較例２とした。
【００６１】（比較例３）電磁波シールド性接着フィルム作製例１で得た銅箔付きＰＥＴフィルムに幾何学図形だけを有するネガフィルムを用いた以外は全て実施例２と同様にして得た電磁波遮蔽構成体を比較例３とした。
【００６２】以上のようにして得られた電磁波遮蔽構成体のメッシュの開口率、電磁波シールド性、可視光透過率、非視認性、赤外線遮蔽率、接着力を測定した。その結果を表１、表２に示した。
【００６３】なお電磁波シールド性は、スペクトラムアナライザー ＭＳ２６０１Ｂ、標準信号発生器 ＭＧ３６０２Ｂ、測定用セル ＭＡ８６０２Ｂ（以上株式会社アドバンテスト製商品名）を用いて周波数範囲１０ＭＨｚ〜１ＧＨｚの間の電磁波シールド性を測定し、１００ＭＨｚと１ＧＨｚの値を代表値として示した。可視光透過率の測定は、ダブルビーム分光光度計（株式会社日立製作所、２００−１０型）を用いて、４００〜７００ｎｍの領域の透過率の平均値を用いた。非視認性は、アクリル板に電磁波シールド性接着フィルムを貼り付けた電磁波遮蔽構成体を０．５ｍ離れた場所から目視して導電性金属で形成された幾何学図形を認識できるかどうかで評価し、認識できないものを良好とし、認識できるものをＮＧとした。赤外線遮蔽率の測定は、ダブルビーム分光光度計（株式会社日立製作所、Ｕ−３４１０）を用いて、９００〜１、１００ｎｍの領域の赤外線遮蔽率の平均値を用いた。接着力は、引張試験機（東洋ボールドウィン株式会社製商品名、テンシロンＵＴＭ-４−１００）を使用し、幅１０ｍｍ、９０°方向、剥離速度５０ｍｍ/分で測定した。
【００６４】
【表１】

【００６５】
【表２】

【００６６】本発明の導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、かつ、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周に幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を有する実施例は、額縁部を有さない比較例３より電磁波シールド性に優れる。また、実施例中において、図２（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）の構成にそれぞれ相当する実施例１、２、３、４は、電磁波シールド性が３５〜４２ｄＢ程度であるが、枠体を設けた図３に示す構成の実施例５〜１１は、開口率、可視光透過率が同程度で電磁波シールド性が４２〜５２ｄＢとシールド効果に優れる。実施例１２の幾何学図形のライン幅を２５μｍ（実施例５）から３５μｍにすると開口率が８１％から７４％に低下し、可視光透過率も６２％から５６％に低下してくるが導電性金属の面積が増える分電磁波シールド性が向上する。同様に実施例１３は、ライン幅を２５μｍ（実施例５）から１２μｍにすると開口率が８１％から９１％に増加し、可視光透過率も６２％から７０％に増加してくるが導電性金属の面積が減る分電磁波シールド性が低下する。実施例１４は、ライン間隔を２５０μｍ（実施例５）から５００μｍにした場合であるが、開口率、光線透過率が向上するが、電磁波シールド性は、低下する。同様に実施例１５は、ライン間隔を２５０μｍ（実施例５）から１２５μｍとした場合であり、開口率、光線透過率は低下し、電磁波シールド性は向上する。このように、導電性金属で描かれたライン幅やライン間隔を変化させることにより、その傾向を示したが、電磁波シールド性接着フィルムの幾何学図形は、ライン幅が４０μｍ以下、ライン間隔が１００μｍ以上、ライン厚みが４０μｍ以下の導電性金属が好ましい値を示した。比較例１、２は、ＩＴＯやＡｌを蒸着した場合であるが、電磁波シールド性に劣る。本発明は、図２に示すように、導電性金属で描かれた幾何学図形を有し、かつ、導電性金属で描かれた幾何学図形の外周に幾何学図形と電気的に接続した導電性の額縁部を有することにより電磁波シールド性に優れ、また、図３に示すように額縁部を枠体を覆うことにより、さらに電磁波シールド性が向上する。
【００６７】
【発明の効果】本発明で得られる電磁波シールド性接着フィルムは実施例からも明らかなように、接地のための外部電極との接触面積を増大させ、接地のための外部電極との接続を良好にし、被着体に容易に貼付けて使用でき、しかも密着性が優れているので電磁波漏れがなく広周波数帯域にわたってシールド機能が特に良好である。また可視光透過率、非視認性などの光学的特性が良好で、しかも長時間にわたって高温での接着特性に変化が少なく良好であり、優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。請求項２に記載の額縁部が導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で形成されていることにより、導電性金属で描かれた幾何学図形と幾何学図形の外周に位置する導電性の額縁部の接触抵抗を小さくすることができ電磁波シールド性に優れる。請求項３に記載の導電性の額縁部の少なくとも一部を露出させることにより、プラスチックフィルム面側から接地できる電磁波シールド性接着フィルムを提供することができ接続が容易にできる。請求項４に記載の接着剤層とプラスチックフィルムの一部または全部を除去するのにレーザーを用いて形成させることにより、加工性、量産性に優れ、かつ、ドライ工程であるので工程が簡略にできる。請求項５に記載の導電性の額縁部を支持する接着剤層とプラスチックフィルムを除去し少なくとも額縁部の一部を露出させるため、接着剤層とプラスチックフィルムの一部または全部をサンドブラストを用いて形成させるため、加工性、量産性に優れる。
【００６８】請求項６に記載の幾何学図形の部分及び額縁部のすくなくとも一部に接着剤層を介して透明層を設けることにより、幾何学図形を保護することができる。請求項７に記載の導電性金属付きプラスチックフィルムのプラスチックフィルム側に導電性の額縁部を折り曲げて、プラスチックフィルム側に額縁部の導電性金属を露出させることにより、簡易な方法により接地のための外部電極との接続を良好にすることができる。請求項８に記載の幾何学図形の外周に導電性テープを貼り付けて額縁部を形成することにより、接地のための外部電極との接触面積を増大させ、接地のための外部電極との接続を良好にすることができる。請求項９に記載の幾何学図形の外周に導電性の３次元網目構造体を形成して額縁部とすることにより、接地のための外部電極との接触面積を増大させ、接地のための外部電極との接続を良好にすることができる。請求項１０に記載の額縁部の幅を１〜４０ｍｍの範囲とすることにより、接地のための外部電極と良好な接続をすることができる。
【００６９】請求項１１に記載のプラスチックフィルムの表面に接着剤層を介して導電性金属を設けた導電性金属付きプラスチックフィルムの導電性金属で形成された幾何学図形をマイクロリソグラフ法により形成することにより、加工性に優れた電磁波シ−ルド性接着フィルムを提供することができる。請求項１２に記載の導電性材料を銅として、少なくともその表面が黒化処理されていることにより、退色性が小さく、コントラストの大きい電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。請求項１３に記載のプラスチックフィルムをポリエチレンテレフタレートフィルムまたはポリカーボネートフィルムとすることにより、透明性、安価、耐熱性良好で取り扱い性に優れた電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。請求項１４に記載の導電性金属で描かれた幾何学図形のライン幅を４０μｍ以下、ライン間隔を１００μｍ以上、ライン厚さを４０μｍ以下とすることにより、透明性と非視認性に優れた電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。請求項１５に記載の導電性金属の厚みが０．５〜４０μｍの銅、アルミニウムまたはニッケルを使用することにより、加工性や密着性に優れ、安価な電磁波シールド性と非視認性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。請求項１６に記載の電磁波シールド性接着フィルムを構成するいずれかの層に赤外線吸収剤を含有させることにより、赤外線遮蔽性を有する電磁波シールド性接着フィルムを提供することができる。
【００７０】請求項１７に記載のプラスチック板の少なくとも片面に前記の電磁波シールド性接着フィルムを設けたことにより、透明性と非視認性に優れ、反りが少ない電磁波遮蔽構成体を提供することができる。請求項１８に記載のプラスチック板の片面に前記の電磁波シールド性接着フィルムの導電性幾何学図形の描かれている面を接着剤層を介してプラスチック板に設け、他面に接着剤層を介してプラスチックフィルムを設けたことにより、透明性と非視認性に優れ、反りが少ない電磁波遮蔽構成体を提供することができる。請求項１９に記載のプラスチック板の片面に前記の電磁波シールド性接着フィルムを設け、その導電性の額縁部を折り曲げるように変形させ、額縁部がプラスチック板の反対面に達するようにした電磁波遮蔽構成体とすることにより、透明性と非視認性に優れ、反りが少ない電磁波遮蔽構成体を提供することができる。請求項２０に記載の電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接着フィルムの額縁部の一部に導電性テープを貼り付けた電磁波遮蔽構成体とすることにより、接地のための外部電極との良好な接触による電磁波漏洩の低減、簡易な取り付け、優れた美観をもつ電磁波遮蔽構成体を提供することができる。請求項２１に記載の電磁波遮蔽構成体の電磁波シールド性接着フィルムの少なくとも額縁部に導電性の３次元網目構造体が接している電磁波遮蔽構成体とすることにより、接地のための外部電極との良好な接触による電磁波漏洩の低減、簡易な取り付け、優れた美観をもつ電磁波遮蔽構成体を提供することができる。請求項２２に記載の電磁波遮蔽構成体を構成する電磁波シールド性接着フィルム、プラスチック板、プラスチックフィルムまたは接着剤層のすくなくともいずれかに赤外線吸収剤を含有する電磁波遮蔽構成体とすることにより、電磁波シールド性と赤外線遮蔽性を有する電磁波遮蔽構成体を提供することができる。請求項２３に記載のプラスチック板に設けた電磁波シールド性接着フィルムのプラスチックフィルムまたはプラスチック板若しくはプラスチックフィルム表面に防眩処理または反射防止処理が施されている電磁波遮蔽構成体とすることにより、電磁波遮蔽構成体に防眩性または反射防止性を付与させることができる。請求項２４に記載の電磁波遮蔽構成体の周辺部に額縁部と接するように枠体を設けた電磁波遮蔽構成体とすることにより、電磁波の漏れを防止し、電磁波シールド性に優れ、美観の向上した電磁波遮蔽構成体を提供することができる。
【００７１】請求項２５に記載の電磁波シールド性接着フィルムをディスプレイに用いることにより、電磁波シールド性と透明性を有し、電磁波の漏洩を低減し、赤外線遮蔽性に優れ、接地のための外部電極と良好に接続することができるディスプレイを提供することができる。請求項２６に記載の電磁波遮蔽構成体をディスプレイに用いることにより、電磁波シールド性と透明性を有し、電磁波の漏洩を低減し、赤外線遮蔽性に優れ、接地のための外部電極と良好に接続することができるディスプレイを提供することができる。本発明の電磁波シールド性接着フィルム及び電磁波遮蔽構成体は、電磁波シールド性や透明性に優れているため、ディスプレイの他に電磁波を発生したり、あるいは電磁波から保護する測定装置、測定機器や製造装置の内部をのぞく窓や筐体、特に透明性を要求される窓のような部位に設けて使用することができる。
【出願人】 【識別番号】０００００４４５５
【氏名又は名称】日立化成工業株式会社
【出願日】 平成１０年（１９９８）２月１２日
【代理人】 【弁理士】
【氏名又は名称】若林 邦彦
【公開番号】 特開平１１−２３３９９２
【公開日】 平成１１年（１９９９）８月２７日
【出願番号】 特願平１０−２９３７０