| 【発明の名称】 |
微分干渉顕微鏡 |
| 【発明者】 |
【氏名】岩崎 豊
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| 【要約】 |
【課題】小型で消費電力の小さい微分干渉顕微鏡を低コストで提供する。
【解決手段】光源からの光はノマルスキープリズムによって偏光成分の異なる２つの光に分割されたあと被検物体に照射され、被検物体からの反射光は再びノマルスキープリズムで合成されて偏光フィルターに入射する。偏光フィルターは入射光から２つの偏光成分を選択して二次元イメージセンサへと送る。二次元イメージセンサは、偏光フィルターで選択された一方の偏光成分を隣接する一対の画素の一方で受光し、選択された他方の偏光成分を一対の画素の他方で受光する。画像形成装置は、一対の画素から出力される画像信号に基づいて被検物体の微分干渉像を形成する。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】 光源からの光を偏光成分の異なる２つの光に分割して被検物体に射出し、前記被検物体からの前記２つの光を合成する複屈折プリズムと、前記複屈折プリズムで合成された光から、第１の偏光成分と、前記第１の偏光成分と交差する第２の偏光成分とを選択する偏光板と、複数の画素で構成され、前記偏光板で選択された前記第１の偏光成分を、互いに隣接する画素の一方で受光し、前記偏光板で選択された前記第２の偏光成分を、前記互いに隣接する画素の他方で受光するセンサと、前記隣接する画素から出力されるそれぞれの画像信号に基づいて、前記被検物体の微分干渉像を形成する画像形成装置とを備えた微分干渉顕微鏡。
【請求項２】 前記第１の偏光成分と前記第２の偏光成分は、互いに直交する向きに偏光されている、請求項１に記載の微分干渉顕微鏡。
【請求項３】 さらに、前記複屈折プリズムと前記偏光板との間に配置され、前記被検物体の前記微分干渉像のコントラストを変化させるためのコントラスト変更器を備えた、請求項１または２に記載の微分干渉顕微鏡。
【請求項４】 光源からの光を偏光成分の異なる２つの光に分割して被検物体に射出するステップと、前記被検物体からの前記２つの光を合成するステップと、合成された前記２つの光から、第１の偏光成分と、前記第１の偏光成分と交差する第２の偏光成分とを選択するステップと、選択された前記第１の偏光成分を、複数の画素を有するセンサのなかの一対の画素の一方で受光し、選択された前記第２の偏光成分を前記一対の画素の他方で受光するステップと、前記一対の画素のそれぞれから出力される信号に基づいて、前記被検物体の微分干渉像を形成するステップとを含む画像形成方法。
【請求項５】 前記第１の偏光成分と前記第２の偏光成分は、互いに直交する向きに偏光されている、請求項４に記載の画像形成方法。
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【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は微分干渉顕微鏡に関するものであり、特にＩＣパターンや金属表面などの観察に適した微分干渉顕微鏡に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＩＣパターンや金属表面上の微小構造や微小段差を観察する手段として、微分干渉顕微鏡が広く用いられている。本願の出願人は、差動型の微分干渉顕微鏡において検光子のアナライザ角を変化させることによって、被検物体の差動微分干渉像のコントラストを変化させることができるような微分干渉顕微鏡を既に出願しており、それは特開平９−１５５０３で公開されている。また、本願の出願人によって出願された別の形態の微分干渉顕微鏡（あるいは段差測定装置）が特開平９−１４５３２９に開示されている。
【０００３】まず、特開平９−１５５０３の微分干渉顕微鏡について以下に説明する。図５は、特開平９−１５５０３で開示されている微分干渉顕微鏡の概略構成図である。この微分干渉顕微鏡では、紙面に平行な偏光方向を有するレーザービームがレーザ光源５１から出射され、出射されたレーザービームはコリメートレンズ５２を介して平行光となり、ハーフミラー５３に入射する。ハーフミラー５３で下方に反射されたレーザービームは二次元走査装置５４で空間的に偏向された後、ノマルスキープリズム５５に入射する。複屈折プリズムの一種であるノマルスキープリズム５５は、入射したレーザービームの偏光方向に対して４５度で交差する光学軸を有しており、入射レーザービームを振動方向の異なる２つのレーザービームに分割する。ノマルスキープリズム５５によって２つに分解されたレーザービームは、対物レンズ５６を介して集光され、ステージ５８上に配置された被検物体５７上に２つのレーザースポットを形成する。これら２つのレーザースポットは、二次元走査装置５４の二次元偏向作用により、被検物体５７上を２次元的に走査する。
【０００４】被検物体５７によって反射された２つのレーザービームは、再び対物レンズ５６を通過した後、ノマルスキープリズム５５を介して合成される。ノマルスキープリズム５５は、２つのレーザービームに対して、往復でπの整数倍の位相差を加えるように、光軸に対する挿入位置が規定されている。したがって、被検物体５７が鏡面である場合、ノマルスキープリズム５５を介した２つの反射レーザービームの位相差はπの整数倍となる。換言すれば、２つのレーザースポットに対応する被検物体５７からの２つの反射レーザービームは、ノマルスキープリズム５５を介して、図の紙面に平行な偏光方向を有する直線偏光レーザービームに合成される。
【０００５】ノマルスキープリズム５５によって合成された合成レーザービームは、二次元走査装置５４を介して平行ビームとなって、ハーフミラー５３に入射する。ハーフミラー５３を透過した合成レーザービームは、ミラー５９を介して１／４波長板６０に入射する。１／４波長板６０は、被検物体５７が鏡面である場合に１／４波長板６０に入射する合成直線偏光レーザービームの直線偏光方向に対して方位角π／４で位置決めされている。したがって、被検物体５７が鏡面である場合、１／４波長板６０を介したレーザービームは円偏光となって、１／２波長板６１に入射する。１／２波長板６１は、光軸を中心として回転できるように設置されている。
【０００６】１／２波長板６１を介したレーザービームは、偏光ビームスプリッタ６２で透過光と反射光とに分離される。１／２波長板６１は偏光回転角が可変の旋光子であるので、この回転可能な１／２波長板６１と固定された偏光ビームスプリッタ６２とによって、アナライザ角が可変の偏光ビームスプリッタが構成されている。偏光ビームスプリッタ６２を透過した光は、光検出器６３で検出され、そこで光電変換されて電気信号となる。一方、偏光ビームスプリッタ６２で反射された光は、光検出器６４で検出されて光電変換される。
【０００７】光検出器６３および光検出器６４で光電変換された電気信号は、それぞれ差動回路６５に供給される。差動回路６５では、光検出器６３からの信号と光検出器６４からの信号とに基づいて差信号を求め、求めた差信号を同期装置６６に供給する。同期装置６６は、二次元走査装置５４の作動に応じたレーザースポットの走査位置情報と作動回路６５からの差信号とを同期させて画像表示装置６７に供給する。
【０００８】画像表示装置６７では、レーザースポットの走査位置情報と差信号とに基づいて微分干渉像を形成して、形成した微分干渉像を表示する。画像表示装置６７が表示する微分干渉像のコントラストは、１／２波長板６１による偏光回転角に、ひいては、偏光ビームスプリッタ６２のアナライザ角に依存して変化する。したがって、１／２波長板６１を光軸を中心として適宜回転させることにより、得られた微分干渉像のコントラストを最大から最小まで自由に調節することができる。
【０００９】一方、特開平９−１４５３２９の微分干渉顕微鏡は、図５に示した微分干渉顕微鏡の光源５１に有限な大きさを有する光源を使用し、光検出器６３と光検出器６４の位置にそれぞれレンズと二次元イメージセンサを配置し、さらに二次元走査装置５４を取り除いた結像型の微分干渉顕微鏡である。この微分干渉顕微鏡も、図５のものと同様に微分干渉像のコントラスト調整機能を備えているが、二次元イメージセンサを使用しているために、二次元走査装置のような可動部を必要とせず、高速な微分干渉像の形成が可能である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述のように、微分干渉顕微鏡の光検出器として２つの二次元イメージセンサを用いた場合、その２つの二次元イメージセンサ間で画素を正確に対応させなければならないなど、両者のアライメントが困難であった。また、２つの二次元イメージセンサを用いるために装置が大型化しコストがかかるといった問題もあった。また、さらに消費電力が大きいという問題もあり、これにより装置の発熱が大きくなり、光学精密機器である微分干渉顕微鏡の精度に影響を及ぼすという問題もあった。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、偏光ビームスプリッタや２つの二次元イメージセンサ等の光検出器を必要とせずに高画質の微分干渉像を形成することのできる、比較的小型で消費電力の少ない低コストの微分干渉顕微鏡を提供することが本発明の目的である。
【００１２】上述の課題を解決するために、本発明による微分干渉顕微鏡は、光源からの光を偏光成分の異なる２つの光に分割して被検物体に射出し、前記被検物体からの前記２つの光を合成する複屈折プリズムと、前記複屈折プリズムで合成された前記２つの光から、第１の偏光成分と、前記第１の偏光成分と交差する第２の偏光成分とを選択する偏光板と、複数の画素で構成され、前記偏光板で選択された前記第１の偏光成分を、互いに隣接する画素の一方で受光し、前記偏光板で選択された前記第２の偏光成分を、前記互いに隣接する画素の他方で受光するセンサと、前記隣接する画素から出力されるそれぞれの画像信号に基づいて、前記被検物体の微分干渉像を形成する画像形成装置とを備えている。この微分干渉顕微鏡は、微分干渉像を形成するために２つのセンサを必要としないので、センサ間のアライメントの必要がなく、装置を小型、低コストで提供することができる。
【００１３】前記第１の偏光成分と前記第２の偏光成分は、互いに直交する向きに偏光されていることが好ましい。また、本発明による微分干渉顕微鏡は、さらに、前記複屈折プリズムと前記偏光板との間に配置され、前記被検物体の前記微分干渉像のコントラストを変化させるためのコントラスト変更器を備えていてもよい。
【００１４】また、本発明による画像形成方法は、光源からの光を偏光成分の異なる２つの光に分割して被検物体に射出するステップと、前記被検物体からの前記２つの光を合成するステップと、合成された前記２つの光から、第１の偏光成分と、前記第１の偏光成分と交差する第２の偏光成分とを選択するステップと、選択された前記第１の偏光成分を、複数の画素を有するセンサのなかの一対の画素の一方で受光し、選択された前記第２の偏光成分を前記一対の画素の他方で受光するステップと、前記一対の画素のそれぞれから出力される信号に基づいて、前記被検物体の微分干渉像を形成するステップとを含んでいる。前記第１の偏光成分と前記第２の偏光成分は、互いに直交する向きに偏光されていることが好ましい。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明による微分干渉顕微鏡の実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこれに限られるものではない。
【００１６】図１は、本発明による微分干渉顕微鏡の実施形態の構成を概略的に表した図である。この図に示すように、本実形態の微分干渉顕微鏡は、例えばタングステンランプ等による光源１を備えており、この光源１から射出された光はコリメートレンズ２を透過して平行光となった後、干渉フィルター３を透過して波長が選択される。なお、本実施形態では、この干渉フィルター３として５５０ｎｍ程度の波長を選択するものを用いている。
【００１７】干渉フィルター３を透過した光は、偏光板４によって振動方向が限定されて、偏光方向が例えば紙面に平行であるような直線偏光となり、その後ハーフミラー５に入射する。ハーフミラー５によって被検物体方向（図の下方向）に反射された光は、複屈折プリズムであるノマルスキープリズム６に入射する。ノマルスキープリズム６は、入射光の偏光方向に対して４５度で交差する光学軸を有しており、入射光を振動方向の異なる（このばあい振動面が直交する）２つの光に分割する。なお、ノマルスキープリズム６の代わりに、ウォラストンプリズム等を用いてもよい。
【００１８】ノマルスキープリズム６によって２つに分解された光は、対物レンズ７を介して集光され、ステージ９上に配置された被検物体８上に２つの照明光を形成する。このようにして、被検物体８は、互いに振動面が直交しかつ中心がわずかに離れた２つの照明光によって照射されることになる。この被検物体８は、その表面に低段差が形成されている。
【００１９】被検物体８を照射した２つの照明光は、被検物体８によって反射され、再び対物レンズ７を通過したあとノマルスキープリズム６に入射し、ノマルスキープリズム６によって合成される。ノマルスキープリズム６は、２つの照明光に対して往復でπの整数倍の位相差を与えるように、光軸に対する挿入位置が規定されている。したがって、被検物体８が鏡面のような平坦で反射率の変化がないような表面であった場合、ノマルスキープリズム６を介した２つの反射光の位相差はπの整数倍となる。よって、ノマルスキープリズム６から出射される合成光は、図の紙面に平行な偏光方向を有する直線に偏光された光となる。
【００２０】ノマルスキープリズム６を出た合成光は再びハーフミラー５に入射し、ハーフミラー５を透過した合成光は１／４波長板１０に入射する。１／４波長板１０は、被検物体８が鏡面である場合に１／４波長板１０に入射する合成光の直線偏光方向に対して方位角π／４で位置決めされている。したがって、被検物体８が鏡面である場合、１／４波長板１０を介した合成光は円偏光となって、つぎに１／２波長板１１に入射する。１／２波長板１１は、光軸を中心として回転できるように設置されている。１／２波長板１１を透過した光は、レンズ１２によって集光され、偏光フィルター１３を透過して複数の画素をもつ二次元イメージセンサ１４上に結像する。
【００２１】図２は、偏光フィルター１３の一部分の構成を表している。この図の中の各四角形は偏光フィルター１３の要素ａ〜ｐ（画素ともよぶ）を表しており、四角形の中の線は各要素による偏光方向を表している。
【００２２】偏光フィルター１３の各要素ａ〜ｐは、それぞれが背後に配置された二次元イメージセンサ１４の画素と１対１に対応するように配置された偏光板で構成され、偏光フィルター１３の隣接した要素間では偏光方向が直交するように構成されている。したがって、偏光フィルター１３は、レンズ１２を出た光のなかの２つの偏光成分のみを選択的に透過して二次元イメージセンサ１４に入射させ、二次元イメージセンサ１４の任意の隣接する一対の画素は、それぞれ他方の画素とは異なる偏光成分の光を受光する。
【００２３】二次元イメージセンサ１４に結像した光は画素毎に光電変換され、画像処理装置１５へと送られる。画像処理装置１５は、二次元イメージセンサ１４から受け取った信号を、二次元イメージセンサ１４の水平方向に隣り合う２画素を一組として扱い、隣り合う２画素の出力の差を各組毎に求めて被検物体８の二次元画像（差動微分干渉像）を形成する。すなわち、偏光フィルター１３のある列の要素（図２中の、例えばａ、ｅ、ｉ、ｍ）の背後の二次元イメージセンサ１４の画素の各出力は、それぞれ偏光フィルター１３の右隣の要素（ｂ、ｆ、ｊ、ｎ）の背後の画素の各出力と組み合わされ（偏光フィルター１３の左側の要素で対応させると、ａとｂ、ｅとｆ、ｉとｊ、ｍとｎの組み合わせとなる）、組み合わせられた画素間の出力の差から二次元画像が形成される。したがって、画像処理装置１５で形成された二次元画像の水平方向の画素数は、二次元イメージセンサ１４の水平方向の画素数の半分になる。
【００２４】画像処理装置１５で形成された二次元画像は、ＣＲＴや液晶ディスプレイ等の画像出力装置１６にて表示される。画像出力装置１６に表示された画像は、本実施形態のような二次元イメージセンサを用いた場合であっても、従来技術で述べたような偏光ビームスプリッタの透過光と反射光との強度差に基づいて得られる像とほぼ等価な像となる。
【００２５】上述の１／２波長板１１と偏光フィルター１３は、アナライザ角が可変な検光子を構成する。この検光子は、二次元イメージセンサ１４のなかの隣接した画素ごとに、９０度だけアナライザ角が異なった２種類の検光子から構成されていることになる。したがって、検光子を構成する１／２波長板１１を光軸を中心として回転させることにより、画像表示装置１５によって形成される被検物体８の微分干渉像のコントラストを調節することができる。なお、微分干渉像のコントラスト調整は、１／２波長板１１を用いずに、偏光フィルター１３と二次元イメージセンサ１４とを同時に光軸を中心に回転させて行なってもよい。このように、微分干渉像のコントラストを調整する１／２波長板１１等は、コントラスト調整器（あるいはコントラスト変更器）を構成する。
【００２６】二次元イメージセンサ１４には、例えばＣＣＤ等によるイメージセンサを用いている。二次元イメージセンサ１４の画素間隔は、水平方向では対物レンズ７の最小分解能の１／４であることが好ましく、垂直方向では１／２以下であることが望ましい。
【００２７】なお本実施形態では、画像処理装置１５は差動微分干渉像を得るために、二次元イメージセンサ１４の水平方向に隣接する２画素が出力する信号の差を求めたが、垂直方向に隣接する２画素の出力差を求めて差動微分干渉像を形成してもよく、また、隣接する４画素（２×２）を一組として、同じ偏光方向の光を受けた画素の出力の和をそれぞれ求めた上で、それらの差を求めて差動微分干渉像を形成してもよい。さらに、偏光フィルター１３の要素とそれに対応する二次元イメージセンサ１４の画素の形を、水平方向あるいは垂直方向に伸びる長方形にして、２つ一組で正方形となるような形にしてもよい。この場合、画像処理装置１５によって形成される差動微分干渉像の画素に対応する二次元イメージセンサの一対の画素の形が正方形となるので、微分干渉像の分解能の点からみて非常に効率のよい画素配置となる。
【００２８】また、本実施形態において、被検物体８として鏡面を観察した場合に照明光が１／４波長板１０の直前で円偏光となるように、ノマルスキープリズム６の光軸に対する挿入位置等を適切に規定して光学系を調節しすれは、１／４波長板１０を省略することができる。
【００２９】上述の実施形態では、画像処理装置１５は、二次元イメージセンサ１４の一対の画素の出力信号の差によって、被検物体８の位相若しくは反射率の変化を表す差動微分干渉像を形成するものであったが、画像処理装置１５は、二次元イメージセンサ１４の一対の画素の出力信号の和によって画像を形成する装置であってもよい。この場合、形成される像は、被検物体８の反射率の違いを表す明視野像となる。また、画像処理装置１５に、一対の画素の出力信号の差に基づいて差動微分干渉像を形成する機能と、その和に基づいて明視野像を形成する機能の両方をもたせてもよく、この場合、さらにその両機能を切り換えるための切替装置を追加してもよい。
【００３０】以上、本発明による反射型の微分干渉顕微鏡について説明したが、次に、本発明を透過型の微分干渉顕微鏡に適用した場合の実施形態（第２実施形態）について説明する。
【００３１】図３は、本発明による透過型微分干渉顕微鏡の実施形態を概略的に表した図である。なお、以下の説明において、図１の反射型微分干渉顕微鏡の構成要素と同一の要素には同じ参照番号を付け、その具体的説明を省略する。
【００３２】図３に示すように、本実形態の透過型微分干渉顕微鏡はでは、光源１から射出された光はコリメートレンズ２を透過して平行光となった後、干渉フィルター３を透過して波長が選択される。干渉フィルター３を透過した光は、偏光板４によって振動方向が限定されて直線偏光となり、ノマルスキープリズム６に入射する。なお、この実施例では図１のハーフミラー５は用いられない。
【００３３】ノマルスキープリズム６によって２つに分解された光は、対物レンズ７を介して集光され、透明ステージ１９上に配置された被検物体８に２つの照明光として照射される。このようにして、被検物体８は、互いに振動面が直交しかつ中心がわずかに離れた２つの照明光によって照射されることになる。
【００３４】被検物体８を照射した２つの照明光は、被検物体８を透過して、対物レンズ７'を通過したあとノマルスキープリズム６'に入射し、ノマルスキープリズム６'によって合成される。ノマルスキープリズム６'を出た合成光は１／４波長板１０に入射する。１／４波長板１０を介して円偏光となった合成光は、つぎに１／２波長板１１に入射する。１／２波長板１１は、光軸を中心として回転できるように設置されている。１／２波長板１１を透過した光は、レンズ１２によって集光され、偏光フィルター１３を透過して二次元イメージセンサ１４上に結像する。
【００３５】二次元イメージセンサ１４に結像した光は画素毎に光電変換され、画像処理装置１５へと送られる。画像処理装置１５は、二次元イメージセンサ１４から受け取った信号を、二次元イメージセンサ１４の水平方向に隣り合う２画素を一組として扱い、隣り合う２画素の出力の差を各組毎に求めて被検物体８の二次元画像（差動微分干渉像）を形成する。形成された二次元画像は、画像出力装置１６にて表示される。なお、第１実施形態の微分干渉顕微鏡における変形例や追加機能はこの実施例においても適用されうる。
【００３６】次に、本発明による第３の実施形態について説明する。なお、以下の説明において、先に説明した従来技術と同じ機能を持つ構成要素には同じ参照番号を付け、その説明を省略する。
【００３７】図４は、本発明による第３実施形態の微分干渉顕微鏡の概略構成図である。この微分干渉顕微鏡では、レーザ光源５１から出射されたレーザビームは、コリメートレンズ５２を介して平行光となり、ハーフミラー５３に入射する。ハーフミラー５３で下方に反射されたレーザービームは二次元走査装置５４で空間的に偏向された後、ノマルスキープリズム５５に入射する。ノマルスキープリズム５５によって２つに分解されたレーザービームは、対物レンズ５６を介して集光され、ステージ５８上に配置された被検物体５７上に２つのレーザースポットを形成する。これら２つのレーザースポットは、二次元走査装置５４の二次元偏向作用により、被検物体５７上を２次元的に走査する。
【００３８】被検物体５７によって反射された２つのレーザービームは、再び対物レンズ５６を通過した後、ノマルスキープリズム５５を介して合成される。ノマルスキープリズム５５によって合成された合成レーザービームは、二次元走査装置５４を介して平行ビームとなって、ハーフミラー５３に入射する。ハーフミラー５３を透過した合成レーザービームは、ミラー５９を介して１／４波長板６０に入射し、次に１／２波長板６１に入射する。１／２波長板６１を介したレーザービームは、偏光フィルター１３を透過して複数の画素をもつ二次元イメージセンサ１４上に結像する。偏光フィルター１３は、１／２波長板１１を出た光のなかの２つの偏光成分のみを選択的に透過して二次元イメージセンサ１４に入射させ、二次元イメージセンサ１４の任意の隣接する一対の画素は、それぞれ他方の画素とは異なる偏光成分の光を受光する。
【００３９】二次元イメージセンサ１４に結像した光は画素毎に光電変換され、画像処理装置２６へと送られる。画像処理装置２６は、二次元イメージセンサ１４から受け取った信号を、二次元イメージセンサ１４の隣り合う２画素を一組として扱い、隣り合う２画素の出力の差を求める。そして、二次元走査装置５４から得たレーザースポットの走査位置情報と求めた差に基づいて微分干渉像を形成して、画像出力装置６７に表示する。
【００４０】偏光フィルター１３と二次元イメージセンサ１４の構成は第１実施形態で説明したものと同じであるが、二次元走査装置５４によってレーザスポットの操作を行なっているので、一度に被検物体５７全ての領域に対応する画素領域が必要とされることはない。したがって、画像表示装置２６はレーザービームが入射している画素からの信号のみを処理すればよい。また、二次元走査装置の走査によってレーザースポットが被検物体５７のすべての領域を照射する間、二次元イメージセンサ１４に入射するレーザービームの入射領域が一定であるか、あるいはある範囲に限定される場合、二次元イメージセンサ１４の画素領域の大きさはその一定の領域、あるいは限定された範囲をカバーするだけの大きさがあればよい。
【００４１】また、二次元走査装置５４によって走査されるレーザースポットの照射位置に応じてミラー５９の角度を調節し、二次元イメージセンサ１４に入射するレーザービームの入射位置がレーザースポットの照射位置と１対１に対応するようにしてもよい。このばあい、レーザービームが入射する二次元イメージセンサ１４の画素は、レーザースポットが照射する被検物体５７上の位置と１対１に対応するので、画像処理装置２６は微分干渉像を形成するにあたって、画素の出力信号と二次元走査装置５４による走査位置との同期をとる必要はない。なお、二次元イメージセンサ１４に入射するレーザービームの位置調節は、ミラー５９を調節するのではなく、二次元イメージセンサ１４の前方にレーザービームの偏向器を設置して、その偏向器によって二次元イメージセンサ１４へのレーザービームの入射位置をレーザースポットの走査位置と対応するように調節してもよい。
【００４２】また、第１実施形態と同様に、画像処理装置２６は画素出力の和を用いて明視野像を形成してもよいし、また明視野像と微分干渉像との形成を切り換えるようにしてもよい。その他、第１実施形態の微分干渉顕微鏡における変形例や追加機能はこの実施例においても適用されうる。尚、上述した微分干渉顕微鏡は、ＩＣパターン等の欠陥検査や、半導体製造装置に用いられるマスク、ウエハの異物検査等にも大きな威力を発生する。
【００４３】
【発明の効果】本発明によれば、偏光ビームスプリッタや２つの二次元イメージセンサ等の光検出器を使わずに、１つの二次元イメージセンサでコントラスト調整可能な高画質の微分干渉顕微鏡を構成することができるので、構成部材のアライメント負担が軽減し、より小型で消費電力の少ない低コストの微分干渉顕微鏡を提供することができる。
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| 【出願人】 |
【識別番号】０００００４１１２
【氏名又は名称】株式会社ニコン
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| 【出願日】 |
平成１０年（１９９８）３月２５日 |
| 【代理人】 |
【弁理士】
【氏名又は名称】大菅 義之
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| 【公開番号】 |
特開平１１−２７１６３０ |
| 【公開日】 |
平成１１年（１９９９）１０月８日 |
| 【出願番号】 |
特願平１０−７７８０５ |
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