| 【発明の名称】 |
光波干渉測定方法および装置 |
| 【発明者】 |
【氏名】神谷 三郎
|
| 【要約】 |
【課題】本発明は、測定光路のレーザ光が遮られても、原点復帰させずに継続して測長することができ、しかも安価で容易に干渉光学系を構成することができる光波干渉測定方法および装置を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザ光源１から射出された波長λ１の光を測定光路と参照光路に分離する偏光ビームスプリッタ２と、参照光路上に設けられた参照用反射鏡６と、測定光路上を移動可能に設けられた測定用反射鏡７と、参照光と測定光の干渉光を受光する光電検出器９とを有し、レーザ光源１１から射出されたλ２（≠λ１）の光を２つに分離する偏光ビームスプリッタ１２と、分離されたλ２の光の一方を、測定光路の途中から測定光路と平行に測定用反射鏡７に向かわせる光学系１０と、測定用反射鏡７で反射した一方の光と他方の光との干渉光を受光する光電検出器１７とを備えるように構成する。 |
【特許請求の範囲】
【請求項１】波長λ１の光を参照光と測定光に分離し、前記参照光を参照光路上に設けられた参照用反射鏡で反射させ、前記測定光を測定光路上を移動可能に設けられた測定用反射鏡で反射させ、反射した前記参照光および前記測定光を干渉させて、基準位置から移動した前記測定用反射鏡の前記参照用反射鏡に対する相対移動距離ΔＬを測定する光波干渉測定方法において、前記基準位置での前記参照光路と前記測定光路の光路長差Ｌ１（＝φ１・λ１／ｍ、但し、ｍは光路の折り返しの数）に基づく位相φ１を測定し、波長λ２（≠λ１）の光をさらに用い、当該波長λ２の光を２つに分離して、一方の光を前記測定光路の途中から前記測定光路に平行に入射して前記測定用反射鏡で反射させ、反射した前記一方の光と、他方の光とを干渉させて、前記基準位置での前記一方の光の光路と前記他方の光の光路との光路長差Ｌ２（＝φ２・λ２／ｍ）に基づく位相φ２を測定し、前記相対移動距離ΔＬでの前記参照光路と前記測定光路の光路長差Ｌ１＋ΔＬ（＝φ１’・λ１／ｍ）に基づく位相φ１’を測定し、前記相対移動距離ΔＬでの前記一方の光の光路と前記他方の光の光路の光路長差Ｌ２＋ΔＬ（＝φ２’・λ２／ｍ）に基づく位相φ２’を測定し、前記位相φ１、φ２、φ１’、φ２’に基づいて、前記波長λ１の光が遮断された際の前記相対移動距離ΔＬを求めることを特徴とする光波干渉測定方法。
【請求項２】請求項１記載の光波干渉測定方法において、前記相対移動距離ΔＬは、ΔＬ＝ΔΦ・λｓ／ｍ但し、ΔΦ＝Φ’−Φ、Φ＝φ２−φ１、Φ’＝φ２’−φ１’合成波長λｓ＝λ１・λ２／｜λ２−λ１｜から求めることを特徴とする光波干渉測定方法。
【請求項３】請求項１または２に記載の光波干渉測定方法において、波長λ３（≠λ１、≠λ２、｜λ２−λ１｜＞｜λ３−λ２｜）の光をさらに用い、当該波長λ３の光を２つに分離して、一方の光を前記測定光路の途中から前記測定光路に平行に入射して前記測定用反射鏡で反射させ、反射した当該一方の光と、他方の光とを干渉させて、前記基準位置での当該一方の光の光路と当該他方の光の光路との光路長差Ｌ３（＝φ３・λ３／ｍ）に基づく位相φ３を測定し、前記相対移動距離ΔＬでの当該一方の光の光路と当該他方の光の光路の光路長差Ｌ３＋ΔＬ（＝φ３’・λ３／ｍ）に基づく位相φ３’を測定することにより、相対的に広い合成波長λｓＷ＝λ２・λ３／｜λ３−λ２｜に基づいて前記ΔＬの存在範囲を求め、次いで、それより狭い前記合成波長λｓに基づいて前記ΔＬを求めることを特徴とする光波干渉測定方法。
【請求項４】請求項１乃至３のいずれかに記載の光波干渉測定方法において、前記基準位置での、前記参照光路と前記測定光路との光路長差Ｌ１と、前記一方の光の光路と前記他方の光の光路との光路長差Ｌ２とをほぼ等しくさせることを特徴とする光波干渉測定方法。
【請求項５】請求項１乃至３のいずれかに記載の光波干渉測定方法において、前記基準位置での、前記参照光路と前記測定光路との光路長差Ｌ１と、前記一方の光の光路と前記他方の光の光路との光路長差Ｌ２とを、Ｌ１＞＞Ｌ２とすることを特徴とする光波干渉測定方法。
【請求項６】物体の変位を測定するための第１の光を射出する第１の光源と、前記第１の光を測定光路と参照光路に分離する第１のビームスプリッタと、前記参照光路上に設けられた参照用反射鏡と、前記測定光路上を移動可能に設けられた測定用反射鏡と、前記参照用反射鏡および前記測定用反射鏡で反射した前記第１の光の干渉光を受光する第１の受光部とを有する光波干渉測定装置において、前記第１の光の波長と異なる波長を有する第２の光を射出する第２の光源と、前記第２の光を２つに分離する第２のビームスプリッタと、２つに分離された前記第２の光の一方を、前記測定光路の途中から前記測定光路と平行に前記測定用反射鏡に向かわせる第１の光学系と、前記測定用反射鏡で反射した前記一方の光と、他方の光との干渉光を受光する第２の受光部とをさらに備えたことを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項７】請求項６記載の光波干渉測定装置において、前記第１の光学系は、さらに前記第２の光の他方を、前記参照光路の途中から前記参照光路と平行に前記参照用反射鏡に向かわせ、前記第２の受光部は、前記測定用反射鏡で反射した前記第２の光の一方と前記参照用反射鏡で反射した前記第２の光の他方との干渉光を受光することを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項８】請求項６または７に記載の光波干渉測定装置において、前記第２の光源は、波長可変レーザであることを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項９】請求項６または７に記載の光波干渉測定装置において、前記第１および第２の光の波長と異なる波長を有する第３の光を射出する第３の光源と、前記第３の光を２つに分離する第３のビームスプリッタと、２つに分離された前記第３の光の一方を、前記測定光路の途中から前記測定光路と平行に前記測定用反射鏡に向かわせる第２の光学系と、前記測定用反射鏡で反射した前記第３の光の一方の光と、他方の光との干渉光を受光する第３の受光部とをさらに備えたことを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項１０】請求項９記載の光波干渉測定装置において、前記第２の光学系は、さらに前記第３の光の他方を、前記参照光路の途中から前記参照光路と平行に前記参照用反射鏡に向かわせ、前記第３の受光部は、前記測定用反射鏡で反射した前記第３の光の一方と前記参照用反射鏡で反射した前記第３の光の他方との干渉光を受光することを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項１１】請求項９または１０に記載の光波干渉測定装置において、前記第３のビームスプリッタを前記第２のビームスプリッタで兼用し、前記第２の光学系を前記第１の光学系で兼用することを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項１２】請求項６乃至１１のいずれかに記載の光波干渉測定装置において、前記第１の光は、互いに直角な偏光方位を有し周波数がわずかに異なる２つの光から構成され、前記第１のビームスプリッタは偏光ビームスプリッタであり、前記測定光路上および前記参照光路上には、それぞれ波長板が配置され、前記第１の光学系は、少なくとも前記第２の光の一方を、前記測定光路上の波長板と前記測定用反射鏡との間から、前記測定光路と平行に前記測定用反射鏡に向かわせるように配置されていることを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項１３】請求項１２記載の光波干渉測定装置において、前記第１の光学系は、少なくとも前記第２の光の他方を、前記参照光路上の波長板と前記参照用反射鏡との間から、前記参照光路と平行に前記参照用反射鏡に向かわせるように配置されていることを特徴とする光波干渉測定装置。
【請求項１４】請求項６乃至１３のいずれかに記載の光波干渉測定装置において、前記第１乃至第３の光源は、波長安定化レーザであることを特徴とする光波干渉測定装置。
|
【発明の詳細な説明】【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、物体の変位等を高精度で測定する光波干渉測定方法および装置に関し、特に、半導体装置、液晶表示装置、あるいは薄膜磁気ヘッド等を製造する際のフォトリソグラフィ工程で使用される露光装置に用いられているステージにおける超精密位置決め方法および装置として好適な光波干渉測定方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置等の製造工程におけるフォトリソグラフィ工程では、レチクルあるいは、マスク（以下、レチクルという）に形成された回路パターンを投影光学系を介して半導体ウェハやガラスプレート（以下、ウェハという）上に投影露光する投影露光装置が用いられている。この投影露光装置としては種々の方式のものがあるが、例えば半導体装置の製造の場合、レチクルの回路パターン全体を一度に投影し得るイメージフィールドを持つ投影光学系を介してウェハをステップ・アンド・リピート方式で露光する投影露光装置や、レチクルを１次元に走査しつつ、ウェハをそれと同期した速度で１次元に走査させる、いわゆるステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置等がある。
【０００３】これらの投影露光装置における露光動作では、レチクルのパターンの像をウェハに形成されたパターン上に正確に重ね合わせることが必須であり、そのためレチクルやウェハを載置してＸ−Ｙ平面を２次元的に移動可能なＸ−Ｙステージには高い位置決め精度が要求されている。このＸ−Ｙステージを超精密に位置決めするために光波干渉測定装置が用いられている。
【０００４】この種の光波干渉測定装置としては、周波数安定化されたヘリウム−ネオン（Ｈｅ−Ｎｅ）ガスレーザを光源とし、ヘテロダイン検出方式を採用したもの（例えば、米国ヒューレット・パッカード社製）が広く用いられている。
【０００５】ここで従来の光波干渉測定装置を図７を用いて説明する。図７において、レーザ光源１は中心波長λ１で、波長のわずかに異なる互いに直交する偏光方位を有するレーザビームを射出する。このレーザ光源１から射出されたレーザビームは偏光ビームスプリッタ４０に入射して測定光路と参照光路とに分離される。偏光ビームスプリッタ４０において、ｐ偏光成分の光は透過して測定光路に進み、１／４波長板４４によって円偏光に変換された測定光となり、ｓ偏光成分の光は偏光ビームスプリッタ４０で反射して参照光路に進み、ミラー３に入射して光路を測定光と平行になるように曲げられて、１／４波長板４２によって円偏光に変換された参照光となる。
【０００６】そして、参照光は参照用反射鏡（固定鏡）６で反射し、測定光は測定用反射鏡（移動鏡）７で反射する。それぞれの反射光は再びそれぞれ１／４波長板４２、４４を透過して、偏光方位を当初の偏光方位に対して９０°回転させられた直線偏光の光に変換される。１／４波長板４４を透過した測定光は偏光ビームスプリッタ４０に入射して、偏光方位が当初より９０°度回転しているために、偏光ビームスプリッタ４０で反射される。
【０００７】一方、１／４波長板４２を透過した参照光はミラー３で反射して偏光ビームスプリッタ４０に入射し、同様に偏光方位が当初より９０°度回転しているため偏光ビームスプリッタ４０を透過する。従って、参照光と測定光は同軸となって偏光ビームスプリッタ４０を射出する。この参照光と測定光はダイクロイックミラー４８を透過して偏光子８に入射する。偏光子８の偏光方位は、参照光と測定光に対して４５°傾いて設定されており、従って、偏光子８を透過した両光は干渉して光電検出素子９で検出される。光電検出素子９で電気信号に変換されたこの干渉信号は、レーザ光源１内部でｐ偏光成分とｓ偏光成分のレーザビームを直接干渉させて得られる基準信号と共に位相計（図示せず）に入力され、基準信号に対する測定信号の位相変化量を積算することにより、測定用反射鏡７の変位を知ることができる。
【０００８】ところが、この種の光波干渉測定装置（レーザ干渉計）は、ステージなどに取り付けた測定用反射鏡７の参照用反射鏡６に対する相対的な変位量を、干渉信号の位相変化を積算することにより求めることはできるが、参照用反射鏡６と測定用反射鏡７の距離を直接求めることはできないため、ひとたび干渉計のビームが遮られると、位置の基準が失われてしまうという欠点を有している。周知のように、光電センサなどで位置の基準を与える原点出し（これ以降、「原点出し」と呼ぶ）をすることはできるが、せいぜいμｍ程度の精度であり、また原点出しのためにステージを移動させなければならず、測定に時間がかかるなどの問題があった。光電センサの代わりに、ステージのガイド部分にリニアエンコーダを設置しておき、この測定値を頼りに原点出しを行うことも考えられる。この場合、原点出しのためにステージを移動させる必要はなくなるが、この種のエンコーダは、測定の再現性はあっても、数十ｃｍのストローク範囲での絶対位置精度はせいぜいμｍ程度であり問題を解決することはできない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】そこで、上記問題を解決するために、図７に示すようにさらに別の干渉計を組み合わせた光波干渉測定装置が用いられている。この別の干渉計のレーザ光源１１からは、波長λ１と異なる中心波長λ２で、波長がわずかに異なる互いに直交する２つの偏光方位を有するレーザビームが射出される。このレーザ光源１１から射出したレーザビームは、ミラー４５で折り曲げられてダイクロイックミラー４６に入射し、レーザ光源１からのレーザビームと同軸となって偏光ビームスプリッタ４０に入射して測定光路と参照光路とに分離される。偏光ビームスプリッタ４０において、ｐ偏光成分の光は透過して測定光路に進み、１／４波長板４４によって円偏光に変換された測定光となり、ｓ偏光成分の光は偏光ビームスプリッタ４０で反射して参照光路に進み、ミラー３に入射して光路を測定光と平行になるように曲げられて、１／４波長板４２によって円偏光に変換された参照光となる。
【００１０】そして、参照光は参照用反射鏡（固定鏡）６で反射し、測定光は測定用反射鏡（移動鏡）７で反射する。それぞれの反射光は再びそれぞれ１／４波長板４２、４４を透過して、偏光方位を当初の偏光方位に対して９０°回転させられた直線偏光の光に変換される。１／４波長板４４を透過した測定光は偏光ビームスプリッタ４０に入射して、偏光方位が当初より９０°度回転しているために、偏光ビームスプリッタ４０で反射される。
【００１１】一方、１／４波長板４２を透過した参照光はミラー３で反射して偏光ビームスプリッタ４０に入射し、同様に偏光方位が当初より９０°度回転しているため偏光ビームスプリッタ４０を透過する。従って、参照光と測定光は同軸となって偏光ビームスプリッタ４０を射出してダイクロイックミラー４８で反射されて偏光子１６に入射する。偏光子１６の偏光方位は、参照光と測定光に対して偏光方位が４５°傾いて設定されており、従って、偏光子１６を透過した両光は干渉して光電検出素子１７で検出される。光電検出素子１７で電気信号に変換されたこの干渉信号は、レーザ光源１１内部でｐ偏光成分とｓ偏光成分のレーザビームを直接干渉させて得られる基準信号と共に位相計（図示せず）に入力され、基準信号に対する測定信号の位相変化量を積算することにより、測定用反射鏡７の変位を知ることができる。
【００１２】こうすることにより、周知の技術であるいわゆる絶対干渉計が構成できる。例えばレーザ光源１１の波長λ２を可変にして波長を掃引し、その位相変化を計測して、参照光路と測定光路の光路長の差を直接求めるようにしてもよいし、また、多波長レーザ光源を使い、合成波長内での絶対干渉測定を行うようにしてもよい。
【００１３】ところが、以上説明したような２つのレーザ光源を用いて両光源からのレーザビームを同一の干渉光学系に導入して、変位測定と絶対位置測定とを組み合わせて測定を行うシステムでは、測長用レーザ波長の光に加えて別の連続波長ないし多波長の光に対して同一の系で干渉光学系を構成する必要が生じるため、偏光ビームスプリッタ４０、あるいは１／４波長板４２、４４は広い波長範囲で色消しされていることが必須となる。しかしながら、このような広い波長範囲で色消しされている光学素子を形成するのは現実には極めて困難であり、また形成できたとしても高コストになるのは避けられないという問題がある。
【００１４】本発明の目的は、測定光路のレーザ光が遮られても、原点復帰させずに継続して測長することができ、しかも安価で容易に干渉光学系を構成することができる光波干渉測定方法および装置を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記目的は、波長λ１の光を参照光と測定光に分離し、参照光を参照光路上に設けられた参照用反射鏡で反射させ、測定光を測定光路上を移動可能に設けられた測定用反射鏡で反射させ、反射した参照光および測定光を干渉させて、基準位置から移動した測定用反射鏡の参照用反射鏡に対する相対移動距離ΔＬを測定する光波干渉測定方法において、基準位置での参照光路と測定光路の光路長差Ｌ１（＝φ１・λ１／ｍ、但し、ｍは光路の折り返しの数）に基づく位相φ１を測定し、波長λ２（≠λ１）の光をさらに用い、当該波長λ２の光を２つに分離して、一方の光を測定光路の途中から測定光路に平行に入射して測定用反射鏡で反射させ、反射した一方の光と、他方の光とを干渉させて、基準位置での一方の光の光路と他方の光の光路との光路長差Ｌ２（＝φ２・λ２／ｍ）に基づく位相φ２を測定し、相対移動距離ΔＬでの参照光路と測定光路の光路長差Ｌ１＋ΔＬ（＝φ１’・λ１／ｍ）に基づく位相φ１’を測定し、相対移動距離ΔＬでの一方の光の光路と他方の光の光路の光路長差Ｌ２＋ΔＬ（＝φ２’・λ２／ｍ）に基づく位相φ２’を測定し、位相φ１、φ２、φ１’、φ２’に基づいて、波長λ１の光が遮断された際の相対移動距離ΔＬを求めることを特徴とする光波干渉測定方法によって達成される。
【００１６】そして、相対移動距離ΔＬは、ΔＬ＝ΔΦ・λｓ／ｍ但し、ΔΦ＝Φ’−Φ、Φ＝φ２−φ１、Φ’＝φ２’−φ１’合成波長λｓ＝λ１・λ２／｜λ２−λ１｜から求めることを特徴とする。
【００１７】また上記目的は、上記光波干渉測定方法において、波長λ３（≠λ１、≠λ２、｜λ２−λ１｜＞｜λ３−λ２｜）の光をさらに用い、当該波長λ３の光を２つに分離して、一方の光を測定光路の途中から測定光路に平行に入射して測定用反射鏡で反射させ、反射した当該一方の光と、他方の光とを干渉させて、基準位置での当該一方の光の光路と当該他方の光の光路との光路長差Ｌ３（＝φ３・λ３／ｍ）に基づく位相φ３を測定し、相対移動距離ΔＬでの当該一方の光の光路と当該他方の光の光路の光路長差Ｌ３＋ΔＬ（＝φ３’・λ３／ｍ）に基づく位相φ３’を測定することにより、相対的に広い合成波長λｓＷ＝λ２・λ３／｜λ３−λ２｜に基づいてΔＬの存在範囲を求め、次いで、それより狭い合成波長λｓに基づいてΔＬを求めることを特徴とする光波干渉測定方法によって達成される。
【００１８】さらに上記目的は、上記光波干渉測定方法において、基準位置での、参照光路と測定光路との光路長差Ｌ１と、一方の光の光路と他方の光の光路との光路長差Ｌ２とをほぼ等しくさせることを特徴とする光波干渉測定方法によって達成される。
【００１９】またさらに上記目的は、上記光波干渉測定方法において、基準位置での、参照光路と測定光路との光路長差Ｌ１と、一方の光の光路と他方の光の光路との光路長差Ｌ２とを、Ｌ１＞＞Ｌ２とすることを特徴とする光波干渉測定方法によって達成される。
【００２０】上記目的は、物体の変位を測定するための第１の光を射出する第１の光源と、第１の光を測定光路と参照光路に分離する第１のビームスプリッタと、参照光路上に設けられた参照用反射鏡と、測定光路上を移動可能に設けられた測定用反射鏡と、参照用反射鏡および測定用反射鏡で反射した第１の光の干渉光を受光する第１の受光部とを有する光波干渉測定装置において、第１の光の波長と異なる波長を有する第２の光を射出する第２の光源と、第２の光を２つに分離する第２のビームスプリッタと、２つに分離された第２の光の一方を、測定光路の途中から測定光路と平行に測定用反射鏡に向かわせる第１の光学系と、測定用反射鏡で反射した一方の光と、他方の光との干渉光を受光する第２の受光部とをさらに備えたことを特徴とする光波干渉測定装置によって達成される。
【００２１】また、上記目的は、上記光波干渉測定装置において、第１の光学系は、さらに第２の光の他方を、参照光路の途中から参照光路と平行に参照用反射鏡に向かわせ、第２の受光部は、測定用反射鏡で反射した第２の光の一方と参照用反射鏡で反射した第２の光の他方との干渉光を受光することを特徴とする光波干渉測定装置によって達成される。
【００２２】さらに上記目的は、上記光波干渉測定装置において、第２の光源は、波長可変レーザであることを特徴とする光波干渉測定装置によって達成される。またさらに上記目的は、上記光波干渉測定装置において、第１および第２の光の波長と異なる波長を有する第３の光を射出する第３の光源と、第３の光を２つに分離する第３のビームスプリッタと、２つに分離された第３の光の一方を、測定光路の途中から測定光路と平行に測定用反射鏡に向かわせる第２の光学系と、測定用反射鏡で反射した第３の光の一方の光と、他方の光との干渉光を受光する第３の受光部とをさらに備えたことを特徴とする光波干渉測定装置によって達成される。
【００２３】そして、第２の光学系は、さらに第３の光の他方を、参照光路の途中から参照光路と平行に参照用反射鏡に向かわせ、第３の受光部は、測定用反射鏡で反射した第３の光の一方と参照用反射鏡で反射した第３の光の他方との干渉光を受光するようにしてもよい。また、第３のビームスプリッタを第２のビームスプリッタで兼用し、第２の光学系を第１の光学系で兼用するようにしてもよい。
【００２４】さらに、上記光波干渉測定装置において、第１の光は、互いに直角な偏光方位を有し周波数がわずかに異なる２つの光から構成され、第１のビームスプリッタは偏光ビームスプリッタであり、測定光路上および参照光路上には、それぞれ波長板が配置され、第１の光学系は、少なくとも第２の光の一方を、測定光路上の波長板と測定用反射鏡との間から、測定光路と平行に測定用反射鏡に向かわせるように配置されているようにしてもよい。
【００２５】そして、第１の光学系は、少なくとも第２の光の他方を、参照光路上の波長板と参照用反射鏡との間から、参照光路と平行に参照用反射鏡に向かわせるように配置されているようにしてもよい。また、上記光波干渉測定装置において、第１乃至第３の光源は、波長安定化レーザであることを特徴とする。
【００２６】このように本発明では、所定の波長の光を用いた測長用の光波干渉計と、当該所定の波長とは異なる別の波長の光を用いた光波干渉計とを用い、少なくとも両干渉計の測定光の光軸を途中から平行にして同一の測定用反射鏡に導き、両干渉計の合成波長内での測定用反射鏡の移動量の測定を、位相変化の計数をしなくても行えるようにしたので、たとえ測定光が遮断されたとしても、原点からの測定用反射鏡の位置を合成波長内で測長用の光波干渉計の分解能で行うことができるようになる。そして、測長用の光波干渉計と、それと異なる波長の光を用いた別の光波干渉計とは、少なくとも両測定光の光軸を途中から合成するようにしているので、各光波干渉計の光路を参照光路と測定光路に分離する偏光分離素子（偏光ビームスプリッタ）、あるいは参照光や測定光の偏光方位を回転させる１／４波長板等に、安価な単一波長に対応した素子を用いることができるようになる。
【００２７】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を説明するに際し、まずはじめに本発明による光波干渉測定方法の基本原理について説明する。この光波干渉測定方法は、以下に説明する第１乃至第６の実施の形態で説明する光波干渉測定装置の全てに適用できるものである。まず、測長レーザ干渉計の波長をλ１、付加する別波長レーザ干渉計の波長をλ２とする。両干渉光学系の光路長差は一般に異なるから、それぞれＬ１、Ｌ２とすると、【００２８】
Ｌ１＝φ１・λ１／ｍ ・・・（１）
Ｌ２＝φ２・λ２／ｍ ・・・（２）
【００２９】ここで、ｍは光路の折り返し数で、φは位相である。そして、測定用反射鏡が原点位置Ｐにあるときのφ１、φ２を記憶しておく。次に、測定用反射鏡が移動してＱの位置にあるときのＰＱ間の距離をΔＬとすると、【００３０】
Ｌ１＋ΔＬ＝φ１’・λ１／ｍ ・・・（３）
Ｌ２＋ΔＬ＝φ２’・λ２／ｍ ・・・（４）
【００３１】であるから、ここで、Φ＝φ２−φ１とすると、【００３２】
ΔΦ＝Φ’−Φ＝（φ２’−φ１’）−（φ２−φ１）
＝ｍΔＬ（１／λ２−１／λ１）
従って、合成波長λｓをλｓ＝λ１・λ２／｜λ２−λ１｜ ・・・（５）
とすると、Φの変化量をΔΦとして、ΔＬ＝ΔΦ・λｓ／ｍ ・・・（６）
となる。
【００３３】すなわち、測定用反射鏡がλｓ／ｍ単位で何処に位置するかが分かっていれば、ビームが遮断されてもΦ’を測定し直してΔΦを求めることにより、ΔＬを求めることができる。この測定精度は、後述するようにλ１／ｍ範囲以内にすることが可能であるから、結局元の測長レーザ干渉計の精度でΔＬを求めることができることになる。
【００３４】次に、この測定の精度について詳述する。まず、式（６）に誤差伝搬則を適用する。まず、式（６）を式（５）を用いて変形し、【００３５】
ΔＬ＝ΔΦ・λｓ／ｍ＝｛（φ２’−φ１’）−（φ２−φ１）｝（λｓ／ｍ）
これから、δ（ΔＬ）＝２（δφ２＋δφ１）（λｓ／ｍ）
＋ΔＬ・（λｓ／λ１）（δλ１／λ１）
＋ΔＬ・（λｓ／λ２）（δλ２／λ２） ・・・（７）
となる。ここで、式（１）および式（２）より、δφ１＝δ’φ１＋ｍＬ１・δλ１／λ１2δφ２＝δ’φ２＋ｍＬ２・δλ２／λ２2【００３６】である。上記両式の第１項は位相測定の誤差を、第２項は波長変動による誤差を表している。上記これらの式を式（７）に代入すると、【００３７】
δ（ΔＬ）＝２（δ’φ２＋δ’φ１）（λｓ／ｍ）
＋２Ｌ１・（λｓ／λ１）（δλ１／λ１）
＋２Ｌ２・（λｓ／λ２）（δλ２／λ２）
＋ΔＬ・（λｓ／λ１）（δλ１／λ１）
＋ΔＬ・（λｓ／λ２）（δλ２／λ２）
＝２（δ’φ２＋δ’φ１）（λｓ／ｍ）
＋（２Ｌ１＋ΔＬ）（λｓ／λ１）（δλ１／λ１）
＋（２Ｌ２＋ΔＬ）（λｓ／λ２）（δλ２／λ２）
ΔＬはＬ１またはＬ２に比べ小さいから、結局、δ（ΔＬ）＝２（δ’φ１＋δ’φ２）（λｓ／ｍ）
＋２Ｌ１（λｓ／λ１）（δλ１／λ１）
＋２Ｌ２（λｓ／λ２）（δλ２／λ２） ・・・（８）
【００３８】式（８）の第１項は位相測定誤差の影響を表し、第２項は波長λ１のレーザの波長安定性（δλ１／λ１）の影響を表し、同じく第３項は波長λ２のレーザの波長安定性の影響を表している。上述した条件は、【００３９】
δ（ΔＬ）＜λ１／２ｍ ・・・（９）
【００４０】で表される。この条件が満たされるとき、ΔＬは元の測長レーザ干渉計の精度で測定可能になる。具体的な例としては、λ１にＨｅ−Ｎｅレーザの６３３ｎｍ、λ２に同じくＨｅ−Ｎｅレーザの６１２ｎｍの発振線を選ぶと、λｓ＝１８．４５μｍである。ここで、干渉計はシングルパス光学系であるとすると、ｍ＝２である。また、Ｌ１＝０．１ｍ、Ｌ２＝０．１ｍとする。位相測定誤差は主に分解能で決定されるが、測定の応答性が必要なければ、【００４１】δ’φ１＝δ’φ２＝１／１０２４【００４２】程度は容易に実現可能である。波長安定性は測定の時間間隔にもよるが、１時間程度以内であれば、δλ１／λ１＝δλ２／λ２＝２Ｅ−９程度は達成できる。従って、【００４３】
２（δ’φ１＋δ’φ２）（λｓ／ｍ）＝３６ｎｍ２Ｌ１（λｓ／λ１）（δλ１／λ１）＝１１．７ｎｍ２Ｌ２（λｓ／λ２）（δλ２／λ２）＝１２．１ｎｍとなる。従って、式（９）を満たすことができる。
【００４４】さて、以上説明した本発明の光波干渉測定方法が適用される装置として、まず本発明の第１の実施の形態による光波干渉測定装置を図１を用いて説明する。なお、本実施の形態は、上述の両干渉光学系の光路長差Ｌ１、Ｌ２が等しい（Ｌ１＝Ｌ２）構成の光波干渉測定装置について説明する。
【００４５】図１において、レーザ光源１は中心波長λ１で、波長のわずかに異なる互いに直交する偏光方位を有するレーザビームを射出する。このレーザ光源１から射出されたレーザビームは偏光ビームスプリッタ２に入射して測定光路と参照光路とに分離される。偏光ビームスプリッタ２において、ｐ偏光成分の光は透過して測定光路に進み、１／４波長板５によって円偏光に変換された測定光となり、ｓ偏光成分の光は偏光ビームスプリッタ２で反射して参照光路に進み、ミラー３に入射して光路を測定光と平行になるように曲げられて、１／４波長板４によって円偏光に変換された参照光となる。
【００４６】これら参照光と測定光はダイクロイックミラー１０を透過して、参照光は参照用反射鏡（固定鏡）６で反射し、測定光は測定用反射鏡（移動鏡）７で反射する。それぞれの反射光は再びダイクロイックミラー１０を透過した後、それぞれ１／４波長板４、５を透過して、偏光方位を当初の偏光方位に対して９０°回転させられた直線偏光の光に変換される。１／４波長板５を透過した測定光は偏光ビームスプリッタ２に入射して、偏光方位が当初より９０°度回転しているために、偏光ビームスプリッタ２で反射される。
【００４７】一方、１／４波長板４を透過した参照光はミラー３で反射して偏光ビームスプリッタ２に入射し、同様に偏光方位が当初より９０°度回転しているため偏光ビームスプリッタ２を透過する。従って、参照光と測定光は同軸となって偏光ビームスプリッタ２を射出して偏光子８に入射する。偏光子８は、参照光と測定光に対して偏光方位が４５°傾いて設定されており、従って、偏光子８を透過した両光は干渉して光電検出素子９で検出される。光電検出素子９で電気信号に変換されたこの干渉信号（以下、これを測定信号と呼ぶ）は、レーザ光源１内部でｐ偏光成分とｓ偏光成分のレーザビームを直接干渉させて得られる基準信号と共に位相計５０に入力され、基準信号に対する測定信号の位相変化量を積算することにより、測定用反射鏡７の変位を知ることができる。以上の構成のレーザ干渉計システムを干渉計Ａと呼ぶことにする。
【００４８】一方、レーザ光源１１からは、波長λ１と別波長の中心波長λ２で、同じく波長のわずかに異なる互いに直交する偏光方位を有するレーザビームが射出する。このレーザ光源１１から射出したレーザビームは偏光ビームスプリッタ１２に入射して測定光路と参照光路とに分離される。偏光ビームスプリッタ１２において、ｐ偏光成分の光は透過して測定光路に進み、１／４波長板１５によって円偏光に変換された測定光となり、ｓ偏光成分の光は偏光ビームスプリッタ１２で反射して参照光路に進み、ミラー１３に入射して光路を測定光と平行になるように曲げられて、１／４波長板１４によって円偏光に変換された参照光となる。
【００４９】これら参照光と測定光はダイクロイックミラー１０で反射した後、参照光は参照用反射鏡（固定鏡）６で反射し、測定光は測定用反射鏡（移動鏡）７で反射する。それぞれの反射光は再びダイクロイックミラー１０で反射した後、それぞれ１／４波長板１４、１５を透過して、偏光方位を当初の偏光方位に対して９０°回転させられた直線偏光の光に変換される。１／４波長板１５を透過した測定光は偏光ビームスプリッタ１２に入射して、偏光方位が当初より９０°度回転しているために、偏光ビームスプリッタ１２で反射される。
【００５０】一方、１／４波長板１４を透過した参照光はミラー１３で反射して偏光ビームスプリッタ１２に入射し、同様に偏光方位が当初より９０°度回転しているため偏光ビームスプリッタ１２を透過する。従って、参照光と測定光は同軸となって偏光ビームスプリッタ１２を射出して偏光子１６に入射する。偏光子１６は、参照光と測定光に対して偏光方位が４５°傾いて設定されており、従って、偏光子１６を透過した両光は干渉して光電検出素子１７で検出される。光電検出素子１７で電気信号に変換されたこの干渉信号（測定信号）は、レーザ光源１１内部でｐ偏光成分とｓ偏光成分のレーザビームを直接干渉させて得られる基準信号と共に位相計５２に入力され、基準信号に対する測定信号の位相変化量を積算することにより、測定用反射鏡７の変位を知ることができる。以上の構成のレーザ干渉計システムを干渉計Ｂと呼ぶことにする。
【００５１】さて、以上のような２組の干渉計Ａ、Ｂからなる光波干渉測定装置において、レーザビームが遮断された場合の原点出しを行う処理を簡単に説明する。まず、測定用反射鏡７が基準位置（原点位置Ｐ）にあるときの、干渉計Ａの参照光路と測定光路の光路長差Ｌ１（＝φ１・λ１／ｍ、但し、光路の折り返し数ｍ＝２）に基づく位相φ１と、干渉計Ｂの参照光路と測定光路の光路長差Ｌ２（＝φ２・λ２／ｍ、但し、光路の折り返し数ｍ＝２）に基づく位相φ２を予め測定しておいて、その差φ２−φ１を記憶しておく。
【００５２】レーザビームが遮断された後の測定用反射鏡７の基準位置からの相対移動距離ΔＬがλｓ／２以内であるとして、相対移動距離ΔＬでの干渉計Ａの参照光路と測定光路の光路長差Ｌ１＋ΔＬ（＝φ１’・λ１／２）に基づく位相φ１’と、干渉計Ｂの参照光路と測定光路の光路長差Ｌ２＋ΔＬ（＝φ２’・λ２／２）に基づく位相φ２’を測定して、その差φ２’−φ１’を求める。
【００５３】こうすることによりΔΦが求まり、一方、合成波長λｓも式（５）から求められるので、式（６）から、最初の原点出しの位置からの変位ΔＬを求めることができる。なお、本実施の形態の場合における誤差解析は、式（８）でＬ１＝Ｌ２とすればよい。
【００５４】以上説明したように本実施の形態の光波干渉測定装置によれば、干渉計Ａと干渉計Ｂとを用い、少なくとも両干渉計Ａ、Ｂの測定光の光軸を途中から平行にして同一の測定用反射鏡７に導き、両干渉計Ａ、Ｂの合成波長内での測定用反射鏡７の移動量の測定を、位相変化の計数をしなくても行えるようにしたので、たとえ測定光が遮断されたとしても、原点からの測定用反射鏡７の位置を合成波長内で測長用の光波干渉計の分解能で行うことができるようになる。そして、測長用の干渉計Ａと干渉計Ｂとは、少なくとも両測定光の光軸を途中から合成するようにしているので、各干渉計Ａ、Ｂの光路を参照光路と測定光路に分離する偏光ビームスプリッタ２、１２、あるいは参照光や測定光の偏光方位を回転させる１／４波長板４、５、１４、１５等に、単一波長にのみ対応した素子を用いることができるので装置を安価にまた容易に構成することができるようになる。
【００５５】次に、本発明の第２の実施の形態による光波干渉測定装置の概略の構成を図２を用いて説明する。本実施の形態では、上述の両干渉光学系の光路長差Ｌ１、Ｌ２が異なる場合（Ｌ１≠Ｌ２）について説明する。
【００５６】本実施の形態による光波干渉測定装置の構成は、第１の実施の形態による光波干渉測定装置の干渉計Ｂの光路にミラー系１８を付加した点に特徴を有しており、その他の構成要素は、作用、機能において図１に示す第１の実施の形態と同一であるので、図１と同一の符号を付してその説明は省略するものとする。図２に示すように干渉計Ｂの光路に２枚のミラーを有するミラー系１８を付加したことにより、第１の実施の形態と異なり、両干渉光学系の光路長差Ｌ１、Ｌ２を異ならせることができる。例えば、ミラー系１８の２枚のミラーの配置を変化させることにより干渉計Ｂの光路長差Ｌ２を極めて小さくさせることが可能である。
【００５７】こうすることにより、各干渉計Ａ、Ｂの光路を参照光路と測定光路に分離する偏光ビームスプリッタ２、１２、あるいは参照光や測定光の偏光方位を回転させる１／４波長板４、５、１４、１５等に、単一波長にのみ対応した素子を用いることができるようになると共に、干渉計Ｂのレーザ光源１１の波長安定性が干渉計Ａのレーザ光源１に比べて劣るような場合でも、上述した本発明の光波干渉測定方法における誤差解析の式（８）からわかるように、高い位置決め精度を維持することができるようになる。
【００５８】次に、本発明の第３の実施の形態による光波干渉測定装置を図３を用いて説明する。なお、本実施の形態による光波干渉測定装置の構成において、図１及び図２を用いて説明した第１および第２の実施の形態による光波干渉測定装置の構成要素と、作用、機能において同一の構成要素には同一の符号を付してその説明は省略するものとする。本実施の形態による光波干渉測定装置は、図３に示すように、干渉計Ａの参照用反射鏡６と別に干渉計Ｂ専用の参照用反射鏡（固定鏡）１９を設けた点に特徴を有している。すなわち、図１および図２に示したミラー１３を取り除き、レーザ光源１１を射出して偏光ビームスプリッタ１２を反射した参照光を、１／４波長板１４を透過させて干渉計Ｂ専用の参照用反射鏡１９で反射させるようにしている。
【００５９】こうすることにより、第２の実施の形態と同じく、参照用反射鏡１９の位置を調節することで、干渉計Ｂの光路長差Ｌ２を極めて小さくさせることが可能になる。従って、本実施の形態によれば、各干渉計Ａ、Ｂの光路を参照光路と測定光路に分離する偏光ビームスプリッタ２、１２、あるいは参照光や測定光の偏光方位を回転させる１／４波長板４、５、１４、１５等に、単一波長にのみ対応した素子を用いることができるようになると共に、干渉計Ｂのレーザ光源１１の波長安定性が干渉計Ａのレーザ光源１に比べて劣るような場合でも、上述した本発明の光波干渉測定方法における誤差解析の式（８）に基づき、高い位置決め精度を維持することができるようになる。
【００６０】次に、本発明の第４の実施の形態による光波干渉測定装置の概略の構成を図４を用いて説明する。本実施の形態における光波干渉測定装置は、図４に示すように、第３の実施の形態を表す図３に示したと同様の干渉計Ａおよび干渉計Ｂを構成し、さらにそれら干渉計Ａ、Ｂで用いる波長と異なる別波長のレーザ干渉計Ｃを構成して、干渉計Ｃの測定光を干渉計Ａの測定光路の途中から同軸にして測定用反射鏡（移動鏡）７に入射させている点に特徴を有している。本実施の形態による光波干渉測定装置の構成において、図３を用いて説明した第３の実施の形態による光波干渉測定装置の構成要素と、作用、機能において同一の構成要素には同一の符号を付してその説明は省略する。
【００６１】図４において、干渉計Ｃは中心波長λ３（λ３≠λ１、λ３≠λ２）のレーザビームを射出するレーザ光源２１を有している。このレーザビームも波長のわずかに異なる互いに直交する偏光方位を有している。このレーザ光源２１から射出したレーザビームは偏光ビームスプリッタ６０に入射して測定光路と参照光路とに分離される。偏光ビームスプリッタ６０において、ｐ偏光成分の光は透過して測定光路に進み、１／４波長板６２によって円偏光に変換された参照光となり、ｓ偏光成分の光は偏光ビームスプリッタ６０で反射して１／４波長板６４によって円偏光に変換された測定光となる。
【００６２】参照光は、１／４波長板６２を透過した後、参照用反射鏡（固定鏡）６８に入射する。また、測定光は１／４波長板６４を透過した後、干渉系Ａの測定光路の途中に設けられたダイクロイックミラー６６で反射して、干渉計Ａの測定光と同軸になって測定用反射鏡７に向かう。
【００６３】参照用反射鏡６８で反射した参照光は、再度１／４波長板に入射して、偏光方位が当初より９０°度回転した直線偏光の光となって偏光ビームスプリッタ６８で反射される。一方、測定用反射鏡７で反射した測定光は再びダイクロイックミラー６６で反射した後、１／４波長板６４を透過して、偏光方位を当初の偏光方位に対して９０°回転させられた直線偏光の光に変換される。１／４波長板６４を透過した測定光は偏光ビームスプリッタ６０に入射して、偏光方位が当初より９０°度回転しているために、偏光ビームスプリッタ６０を透過する。
【００６４】偏光ビームスプリッタ６０で反射された参照光と偏光ビームスプリッタ６０を透過した測定光は、同軸となって偏光子７０に入射する。偏光子７０の偏光方位は、参照光と測定光に対して４５°傾いて設定されており、従って、偏光子７０を透過した両光は干渉して光電検出素子７２で検出される。光電検出素子７２で電気信号に変換されたこの干渉信号（測定信号）は、レーザ光源２１内部でｐ偏光成分とｓ偏光成分のレーザビームを直接干渉させて得られる基準信号と共に位相計（図示を省略）に入力され、基準信号に対する測定信号の位相変化量を積算することにより、測定用反射鏡７の変位を知ることができる。
【００６５】干渉計Ａ、Ｂにより検出された電気信号も、第１乃至第３の実施の形態と同様にして、不図示の位相計に入力され、基準信号に対する測定信号の位相変化量がそれぞれの干渉計について求められる。本実施の形態において、波長λ２と波長λ３の波長差は、波長λ１と波長λ２、あるいは波長λ１と波長λ３との波長差に比較して小さく設定してある。従って、波長λ２と波長λ３から決定される合成波長λ２３は波長λ１と波長λ２とから決定される合成波長λ１２に比べ長くなる。そこで、本実施の形態による光波干渉測定装置においては、まず合成波長λ２３を単位として、測定用反射鏡７の位置を広い測長範囲だが粗い分解能で計測する。次いで、第３の実施の形態と同様に、波長λ１の干渉計Ａと波長λ２の干渉計Ｂの信号を用いて精密に測定用反射鏡７の位置を求めるようにする。
【００６６】このように２段階で測定用反射鏡７の位置を決定するため、測定用反射鏡７が合成波長λ２３を光路析り返し数ｍ（この場合はｍ＝２）で除した範囲内にあればよく、従って、本実施の形態による光波干渉測定装置は、上述の第１乃至第３の実施の形態に比べて測定可能範囲を拡大することができるという特徴を有している。
【００６７】次に、本発明の第５の実施の形態による光波干渉測定装置を図５を用いて説明する。本実施の形態による光波干渉測定装置は、図４を用いて説明した第４の実施の形態による光波干渉測定装置の変形例である。本実施の形態による光波干渉測定装置の構成において、図４を用いて説明した第４の実施の形態による光波干渉測定装置の構成要素と、作用、機能において同一の構成要素には同一の符号を付してその説明は省略する。
【００６８】本実施の形態による光波干渉測定装置は、図５に示すように、測長用干渉計Ａの他に２つの別波長のレーザ干渉計Ｂ、Ｃを構成し、それらの測定光を第４の実施の形態と同じく、干渉計Ａの測定光路の途中から同軸にして入射するようにしたものである。干渉計Ｂのレーザ光源１１から射出する波長λ２のレーザビームと干渉計Ｃのレーザ光源２１から射出する波長λ３のレーザビームは、ダイクロイック・ミラー２０によって同軸にされ、偏光ビームスプリッタ１２０に入射する。両レーザビームは第４の実施の形態と同様に、一方の偏光成分は１／４波長板１５０を透過した後、ダイクロイック・ミラー１０によって干渉計Ａの測定光路と同軸になって測定用反射鏡７に送光され、他方の偏光成分は１／４波長板１４０を透過した後、干渉計Ｂ、Ｃに共通な参照用反射鏡１９に送光される。
【００６９】各反射鏡で反射されたレーザビームは再び偏光ビームスプリッタ１２０で合成され、波長分光手段２２である反射型の回折格子によって、波長λ２と波長λ３のビームが分離され、それぞれ偏光子１６、７０によって偏光成分同士が干渉し、その干渉光は光電検出器１７、７２で検出される。この検出された電気信号は上述の実施の形態と同じく不図示の位相計に入力され、基準信号に対する測定信号の位相変化量がそれぞれの干渉計について求められる。
【００７０】本実施の形態においても、第４の実施の形態と同様に、波長λ２と波長λ３の波長差は波長λ１と波長λ２、または波長λ１と波長λ３との波長差に比べ小さく設定されており、波長λ２と波長λ３から決定される合成波長λ２３は、波長λ１と波長λ２とから決定される合成波長λ１２に比べ長くなるようになっている。従って、まず合成波長λ２３を単位として、測定用反射鏡７の位置がラフに求められる。次いで、波長λ１の干渉計Ａと波長λ２の干渉計Ｂの信号から、精密に測定用反射鏡７の位置を求めることができる。
【００７１】本実施の形態も第４の実施の形態と同様に、２段階で測定用反射鏡７の位置を決定するため、測定用反射鏡７が合成波長λ２３を光路析り返し数ｍ（＝２）で除した範囲内にあればよく、第１乃至第３実施の形態に比べ測定可能範囲が広げられるという利点がある。
【００７２】なお、ここでの偏光ビームスプリッタ１２０や１／４波長板１４０、１５０は波長λ２と波長λ３の両方において、所定の光学性能となるように設計されたものである必要がある。すなわちこれらの光学素子は、波長λ２と波長λ３において色消しされている。また、波長分光手段２２は、必ずしも反射型の回折格子でなくてもよく、たとえば分散プリズムのようなものでもよい。
【００７３】次に、本発明の第６の実施の形態による光波干渉測定装置を図６を用いて説明する。本実施の形態による光波干渉測定装置は、図３に示した第３の実施の形態による光波干渉測定装置の干渉計Ｂのレーザ光源を、波長可変レーザ光源３１に置き換えたいわゆる絶対干渉計を採用した点に特徴を有している。本実施の形態による光波干渉測定装置の構成において、図３を用いて説明した第３の実施の形態による光波干渉測定装置の構成要素と、作用、機能において同一の構成要素には同一の符号を付してその説明は省略する。
【００７４】本実施の形態では、図６に示すように、干渉計Ｂに波長可変レーザ光源３１を用いており、この波長可変レーザ光源３１から出力されるレーザビームの波長を掃引することにより得られる位相変化から、干渉系Ｂの光路長差Ｌ２が直接求められる。これに基づいて、干渉計Ａの測定分解能で原点出しを行うことができるようになる。なお、図６に示す偏光ビームスプリッタ１２２や１／４波長板１４２、１５２は波長可変レーザ光源３１の波長可変範囲内で色消しされているものとする。
【００７５】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態においては、光波干渉測定装置の各干渉計はヘテロダイン方式による干渉信号の計測を行うようにしているが、本発明はこれに限られず、ホモダイン方式の干渉計を用いてももちろんよい。
【００７６】また、上記実施の形態においては、干渉計Ａの測定光路や参照光路に途中から入射させた干渉計Ｂあるいは干渉計Ｃの測定光や参照光を、干渉計Ａの測定光や参照光と同軸にして各反射鏡に入射させるようにしてるが、本発明はこれに限られず、完全に同軸にさせないで、各ビームが互いに平行にずれていてもよく、上記式（９）の条件を満たす限り問題は生じない。
【００７７】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、たとえ測定光が遮断されたとしても、原点からの測定用反射鏡の位置を合成波長内で測長用の光波干渉計の分解能で行うことができるようになる。そして、測長用の光波干渉計と、それと異なる波長の光を用いた別の光波干渉計とは、少なくとも両測定光の光軸を途中から合成するようにしているので、各光波干渉計の光路を参照光路と測定光路に分離する偏光分離素子（偏光ビームスプリッタ）や、参照光や測定光の偏光方位を回転させる１／４波長板等に、安価な単一波長に対応した素子を用いることができるようになる。
|
| 【出願人】 |
【識別番号】０００００４１１２
【氏名又は名称】株式会社ニコン
|
| 【出願日】 |
平成９年（１９９７）１２月１８日 |
| 【代理人】 |
【弁理士】
【氏名又は名称】森岡 正樹
|
| 【公開番号】 |
特開平１１−１８３１１６ |
| 【公開日】 |
平成１１年（１９９９）７月９日 |
| 【出願番号】 |
特願平９−３６４４９１ |
|